1.一种真空电镀转架，其特征在于，包括公转盘(1)，所述公转盘(1)可绕公转中心转动，所述公转盘(1)绕公转中心呈圆形均匀分布有多根自转轴(21)，每根所述自转轴(21)上可转动的设置有自转盘(22)，所述自转盘(22)绕自转轴(21)圆形均匀分布有多根卫星轴(31)，每根所述卫星轴(31)上均穿设有用于固定产品(4)的爪盘(32)，所述自转盘(22)的底部固定有驱动齿轮，所述公转中心处固定有固定齿轮，所述固定齿轮与所述驱动齿轮啮合；镀膜时，驱动装置带动公转盘(1)转动，所述自转盘(22)跟随公转盘(1)绕公转中心转动，同时驱动齿轮与固定齿轮啮合转动，带动自转盘(22)、卫星轴(31)及爪盘(32)绕自转轴(21)转动。
2.如权利要求1所述的真空电镀转架，其特征在于，所述公转盘(1)的数量为两个，两个所述公转盘(1)相对设置且通过固定杆(11)固定，所述自转轴(21)的两端分别固定于两个所述公转盘(1)，所述自转轴(21)上还穿设有旋转盘(23)，所述旋转盘(23)与所述自转盘(22)相对设置，所述卫星轴(31)的两端分别固定于所述自转盘(22)和所述旋转盘(23)。
3.如权利要求2所述的真空电镀转架，其特征在于，所述爪盘(32)包括至少两个向外凸出的用于连接产品(4)的凸出部(321)。
4.如权利要求3所述的真空电镀转架，其特征在于，所述卫星轴(31)上至少固定有两个所述爪盘(32)，同一卫星轴(31)上相距最远的两个所述爪盘(32)的对应的凸出部(321)之间固定有用于挂接产品(4)的挂杆(33)。
5.如权利要求4所述的真空电镀转架，其特征在于，沿所述挂杆(33)设置有多个挂接部，所述产品(4)挂接于所述挂接部。
6.如权利要求3-5任一项所述的真空电镀转架，其特征在于，所述凸出部(321)绕所述卫星轴(31)均匀分布。
7.如权利要求1-5任一项所述的真空电镀转架，其特征在于，所述自转盘(22)和所述驱动齿轮同轴且通过中间轴固定，所述中间轴穿过所述公转盘(1)且与所述公转盘(1)通过轴承连接。
8.如权利要求7所述的真空电镀转架，其特征在于，所述固定齿轮与所述驱动齿轮均位于所述公转盘(1)的同一侧，所述公转盘(1)的外周面设置有齿轮，驱动装置与所述公转盘(1)的外周面的齿轮啮合，以驱动所述公转盘(1)转动。
9.如权利要求1-5任一项所述的真空电镀转架，其特征在于，所述卫星轴(31)的数量为3-6根，所述自转轴(21)的数量为5-7根。
10.一种真空镀膜机，其特征在于，包括权利要求1-9任一项所述的真空电镀转架。