一种自清洁用氮掺杂二氧化钛薄膜的制备方法与流程

技术特征：

1.一种自清洁用氮掺杂二氧化钛薄膜的制备方法，其特征在于包括如下步骤：

（1）清洗玻璃基片，后用高压N₂吹干；

（2）采用反应离子束技术对所述玻璃基片表面进行刻蚀，使所述玻璃基片表面具有凹凸不平的微结构；

（3）采用磁控溅射技术，在所述玻璃基片表面的微结构上沉积氮掺杂二氧化钛薄膜。

2.根据权利要求1所述的一种自清洁用氮掺杂二氧化钛薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤（1）清洗玻璃基片，包括先用丙酮超声20min，再用酒精超声20min，最后用去离子水超声20min。

3.根据权利要求1所述的一种自清洁用氮掺杂二氧化钛薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤（2）中的刻蚀气体为Ar和三氟甲烷的混合气体，其流量比为1：1.5～3。

4.根据权利要求1所述的一种自清洁用氮掺杂二氧化钛薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤（2）采用的反应离子束刻蚀设备，本底真空≤6×10^-3Pa；工作压强为4～8×10^-1Pa；离子束流能量为350～450eV；束流为60～80mA；加速电压200～300V；入射角为20～40°；刻蚀时间5～8min。

5.根据权利要求1所述的一种自清洁用氮掺杂二氧化钛薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤（3）中磁控溅射镀氮掺杂二氧化钛薄膜中，本底真空≤6×10^-4Pa；工作压强4～8×10^-1Pa；射频溅射功率150～200W；靶材为TiO₂陶瓷靶；溅射工艺气体Ar流量20～30sccm；反应气体N₂流量4～8sccm；膜层厚度400～600nm。