本实用新型涉及一种靶材,具体地说是一种旋转磁控多弧靶。
背景技术:
真空镀膜采用的多弧靶,通常为圆形小平面靶,焊接的工作面积较小。工作时,由于焊接的工作面积小,使得单位面积轰击电流较大,导致镀膜层的金属颗粒较为粗大,并且轰击电流不均匀,使得焊接效果较差。严重时会出现金属液滴,或者飞弧现象进而损坏工件。
技术实现要素:
本实用新型要解决的技术问题是提供轰击电流均匀分布的旋转磁控多弧靶。
为了解决上述技术问题,本实用新型采取以下方案:
一种旋转磁控多弧靶,包括圆柱靶管,所述圆柱靶管上设有旋转机构,该旋转机构通过转轴与圆柱靶管连接,圆柱靶管内固定磁铁极靴,该磁铁极靴上设有磁铁组,圆柱靶管内设有冷却水进管,该冷却水进管穿出圆柱靶管外,旋转机构上设有冷却水出口,圆柱靶管上通过管路与冷却水出口连接。
所述磁铁组包括从左至右依次排列的S极磁铁、N极磁铁和S极磁铁,N极磁铁上端和下端各设一个S极磁铁,各个磁铁构成一个磁场回路。
所述磁铁为铁淦氧磁铁。
所述旋转机构设置在圆柱靶管的上方。
所述N极磁铁两侧的S极磁铁对称分布。
所述磁铁组呈“丁”字型。
本实用新型通过旋转圆柱靶管,使轰击弧斑线呈长椭圆形,弧斑线较长轰击电流均匀分布,使得镀膜层的金属颗粒细小且均匀,消除了飞弧烧损工件的现象。
附图说明
附图1为本实用新型剖面结构示意图;
附图2为本实用新型磁铁的分布示意图;
附图3为附图1径向剖面结构示意图;
附图4为本实用新型弧班线结构示意图。
具体实施方式
为了便于本领域技术人员的理解,下面结合附图对本实用新型作进一步的描述。
如附图1、2和3所示,本实用新型揭示了一种旋转磁控多弧靶,包括圆柱靶管1,所述圆柱靶管1上设有旋转机构2,该旋转机构2通过转轴与圆柱靶管连接,圆柱靶管1内固定磁铁极靴6,该磁铁极靴6上设有磁铁组5,圆柱靶管1内设有冷却水进管3,该冷却水进管3穿出圆柱靶管1外,旋转机构2上设有冷却水出口4,圆柱靶管1上通过管路与冷却水出口4连接。本实用新型中通过引入高达30A的多弧电流,保证稳定工作。
磁铁组5包括从左至右依次排列的S极磁铁、N极磁铁和S极磁铁,N极磁铁上端和下端各设一个S极磁铁,各个磁铁构成一个磁场回路,N极磁铁两侧的S极磁铁对称分布。磁铁组呈“丁”字型。磁铁为铁淦氧磁铁。选择磁场强度适中的铁淦氧磁铁,各个磁铁构成一个闭合磁场回路,电焊时多弧电流保持在该磁场回路内。通过该特定的磁铁分布,形成长椭圆形的弧斑线。
旋转机构2设置在圆柱靶管1的上方。该旋转机构可以为一个电机及相应的连接机构,带动圆柱靶管转动。或者是其他类型的旋转机构,只要满足能够带动旋转靶管转动即可。
本实用新型中,工作时,旋转机构带动圆柱靶管均速转动,磁铁在圆柱靶管内保持不动。冷却水经冷却水进管进入到圆柱靶管内,并且经换热后的冷却水从冷却水出口排出,形成循环。通过长椭圆形的弧斑线焊接,使轰击电流均匀分布,保证镀膜层上的金属颗粒细小且均匀,不会出现飞弧烧损工件的现象。
需要说明的是,以上所述并非是对本实用新型的限定,在不脱离本实用新型的创造构思的前提下,任何显而易见的替换均在本实用新型的保护范围之内。