本实用新型具体涉及一种离子镀膜机。
背景技术：
：
电弧离子镀作为制备各种功能膜与装饰膜的主流技术，在近十年获得了长足的发展，它已被广泛应用于工业生产中的各种刀、模具等耐磨损材料的表面强化及日常生活中各种金属制品、工艺品的表面美化工艺。作为离子镀的关键技术——弧源技术也得到了飞速发展。目前，各种小多弧源、磁过滤金属真空弧源、矩形电磁控大面积弧源、柱状电弧源等已陆续进入了生产及科研领域。但是现有的离子镀膜机成本都比较高，工艺复杂，效率也不搞，影响了使用的效果。
技术实现要素：
：
本实用新型的目的是为解决上述不足，提供一种离子镀膜机。
本实用新型采用以下技术方案来解决现有的技术问题。
一种离子镀膜机，包括真空室、小多弧源、电磁控大面积弧源、多功能旋转靶台、工件、柱弧靶、热偶探头和自动引弧器，柱弧靶设置在镀膜机的中轴线上，并且柱弧靶设置在真空室的中间位置，在真空室的左右两侧分别对称设置有2个小多弧源和2个电磁控大面积弧源，小多弧源设置在2个电磁控大面积弧源上方，多功能旋转靶台设置在真空室底部，工件架设在多功能旋转靶台上，热偶探头设置在真空室的右侧，并且半插入进真空室，自动引弧器设置在真空室左侧。
真空室下部的左右两侧还分别设置有真空抽气系统和送气系统。
多功能旋转靶台下部连接有直流脉冲负偏压电源。
真空室为不锈钢材质，并且带水冷夹层。
本实用新型有益效果：本实用新型设计合理，使用方便，成本低，效率高，运行可靠，降低了工人的劳动强度，膜层质量好，有很好的应用前景。
附图说明：
为了易于说明，本实用新型由下述的具体实施及附图作以详细描述。
图1为本实用新型的结构示意图。
图中：1、真空室，2、小多弧源，3、电磁控大面积弧源，4、多功能旋转靶台，5、工件，6、柱弧靶，7、热偶探头，8、自动引弧器，9、送气系统，10、真空抽气系统，11、直流脉冲负偏压电源。
具体实施方式：
为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚明了，下面通过附图中示出的具体实施例来描述本实用新型。但是应该说明，这些描述只是示例性的，而并非要限制本实用新型的范围。此外，在以下说明中，省略了对公知结构和技术的描述，以避免不必要地混淆本实用新型的概念。
如图1所示，一种离子镀膜机，包括真空室1、小多弧源2、电磁控大面积弧源3、多功能旋转靶台4、工件5、柱弧靶6、热偶探头7和自动引弧器8，柱弧靶6设置在镀膜机的中轴线上，并且柱弧靶6设置在真空室1的中间位置，在真空室1的左右两侧分别对称设置有2个小多弧源2和2个电磁控大面积弧源3，小多弧源2设置在2个电磁控大面积弧源3上方，多功能旋转靶台4设置在真空室1底部，工件5架设在多功能旋转靶台4上，热偶探头7设置在真空室1的右侧，并且半插入进真空室1，自动引弧器8设置在真空室1左侧。
真空室1下部的左右两侧还分别设置有真空抽气系统10和送气系统9。
多功能旋转靶台4下部连接有直流脉冲负偏压电源11。
真空室1为不锈钢材质，并且带水冷夹层。
在镀膜室两侧对称布置有两个200 mm×600 mm的矩形电磁控大面积弧源及两个Υ60 mm的小多弧源，各弧源均可单独控制，以满足原位连续镀制各种多层膜及化合物膜的需要。两个矩形电磁控大面积弧源分别接在中频双极脉冲开关电源的两个输出端，两个弧源互为电源的阴阳极，克服了靶材中毒和阳极消失等现象。工件架设在以柱靶为中心的圆周上,可自转及公转。工作架上的偏压电源采用叠加式直流脉冲偏压开关电源，电源的具体指标为：脉冲偏压0～4 kV ，直流偏压0～300 V，脉冲频率5～20 kHz，占空比最大可到60% ，脉冲电流最大60 A，电源功率20 kW。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。