蒸镀坩埚及蒸镀设备的制作方法

本实用新型涉及蒸镀工艺技术领域，特别是涉及一种蒸镀坩埚及蒸镀设备。

背景技术：

OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二级管，简称OLED)显示屏由于具有薄、轻、宽视角、主动发光、发光颜色连续可调、成本低、响应速度快、能耗小、驱动电压低、工作温度范围宽、生产工艺简单、发光效率高及可柔性显示等优点，已被列为极具发展前景的下一代显示技术。

在基板上形成OLED器件通常采用蒸镀工艺，其是指在一定的真空条件下加热蒸镀材料，使蒸镀材料熔化(或升华)成原子、分子或原子团组成的蒸气，然后凝结在基板表面成膜，从而形成OLED器件的功能层。

通常情况下，蒸镀坩埚包括坩埚本体和与坩埚本体连接的坩埚上盖，如图1所示，坩埚上盖包括上盖本体3和与上盖本体3连接的多个喷嘴4，坩埚本体通常采用钛材质，喷嘴4通常采用不锈钢材质。如图2所示，在真空蒸镀条件下，喷嘴4的导热能力较差，因而容易导致喷嘴顶部40的温度低于喷嘴基部41的温度，进而蒸镀材料易在喷嘴顶部40聚集，使喷嘴4发生堵塞，严重影响OLED器件的蒸镀效果；此外，一旦喷嘴4发生堵塞，需要停止整个蒸镀产线，对喷嘴进行清理，因而大大影响了蒸镀产能。

技术实现要素：

本实用新型实施例提供了一种蒸镀坩埚及蒸镀设备，以提高蒸镀产能和蒸镀效果。

本实用新型实施例提供一种蒸镀坩埚，包括坩埚本体和与坩埚本体连接的坩埚上盖，所述坩埚上盖包括上盖本体和与上盖本体连接的喷出部，所述喷出部的喷出口为狭缝形喷出口。

在本实用新型实施例中，喷出部的喷出口为狭缝形喷出口，相比现有技术，无需额外设置喷嘴，进而在真空蒸镀过程中，坩埚本体内的热量可以较为顺畅地传递到狭缝形喷出口，狭缝形喷出口的温度较高，蒸镀材料较易从喷出口喷出，喷出口不易发生堵塞现象，因而蒸镀效果较好；此外，采用本实施例的蒸镀坩埚进行蒸镀时，可大大减少停止蒸镀产线对喷出口进行清理的情况，因而蒸镀产能可以得到显著提高。

优选的，所述狭缝形喷出口的两端为圆角形。采用这样的设计，可以减小蒸镀材料在喷出口两端的附着力，进而可以减少蒸镀材料在喷出口两端的沉积，从而有利于提高蒸镀效果。

优选的，所述狭缝形喷出口的狭缝宽度为10mm～15mm。

优选的，所述喷出部的喷出通道自底部至喷出口依次变窄。采用这样的设计，可以减小蒸镀材料在喷出通道内的附着力，进而可以减少蒸镀材料在喷出通道内的沉积，从而有利于提高蒸镀效果。

优选的，所述上盖本体包括顶盖和与顶盖周侧密封连接的侧壁，所述顶盖具有开口，所述喷出部在所述开口处与所述顶盖连接，其中：所述顶盖的开口内壁部分区域设置有挡片，所述挡片具有多个通孔。

在该技术方案中，可以通过设置挡片调整喷出口与挡片位置相对处的蒸镀材料喷出量，从而可以提高蒸镀的均匀性。

优选的，所述顶盖开口的两个内壁均设置有沿着狭缝喷出口长度方向的挡片加载槽，所述挡片可沿所述挡片加载槽滑动。在该技术方案中，可以通过增加、减少或者移动挡片来调整喷出口与挡片位置相对处的蒸镀材料喷出量，从而有利于提高蒸镀材料的镀膜均匀性。

优选的，所述挡片加载槽内层叠设置有多个挡片。在该技术方案中，可通过改变层叠设置的挡片的数量来调整喷出口与挡片位置相对处的蒸镀材料喷出量，进而有利于提高蒸镀材料的镀膜均匀性。

优选的，所述挡片为导热挡片。

优选的，所述上盖本体与所述喷出部为一体结构，和/或所述喷出部在所述上盖本体的投影位于所述上盖本体的中间区域。

本实用新型实施例提供一种蒸镀设备，包括上述任一技术方案所述的蒸镀坩埚。采用该蒸镀设备进行蒸镀，蒸镀产能较高，蒸镀效果较好。

附图说明

图1为现有技术中蒸镀坩埚的坩埚上盖的俯视图；

图2为现有技术中喷嘴的结构示意图；

图3为本实用新型一实施例蒸镀坩埚的坩埚上盖的俯视图；

图4为本实用新型另一实施例蒸镀坩埚的坩埚上盖的俯视图；

图5为本实用新型实施例挡片的结构示意图；

图6为本实用新型实施例蒸镀坩埚的坩埚上盖的截面图。

现有技术附图标记：

3-上盖本体

4-喷嘴

40-喷嘴顶部

41-喷嘴基部

本实用新型实施例附图标记：

1-上盖本体

2-喷出部

12-喷出口

10-顶盖

100-开口

11-侧壁

20-挡片

200-通孔

21-挡片加载槽

22-喷出通道

具体实施方式

为了提高蒸镀产能和蒸镀效果，本实用新型实施例提供了一种蒸镀坩埚及蒸镀设备。为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，以下举实施例对本实用新型作进一步详细说明。

本实用新型实施例提供的蒸镀坩埚，包括坩埚本体和与坩埚本体连接的坩埚上盖，如图3所示，坩埚上盖包括上盖本体1和与上盖本体1连接的喷出部2，喷出部2的喷出口12为狭缝形喷出口。

其中，上盖本体1与喷出部2的具体连接关系不限，优选上盖本体1与喷出部2为一体结构。为了提高蒸镀材料的镀膜均匀性，优选喷出部2在上盖本体1的投影位于上盖本体1的中间区域。

在本实用新型实施例中，喷出部2的喷出口12为狭缝形喷出口，相比现有技术，无需额外设置喷嘴，进而在真空蒸镀过程中，坩埚本体内的热量可以较为顺畅地传递到狭缝形喷出口，狭缝形喷出口的温度较高，蒸镀材料较易从狭缝形喷出口喷出，喷出口不易发生堵塞现象，因而蒸镀效果较好；此外，采用本实施例的蒸镀坩埚进行蒸镀时，可大大减少停止蒸镀产线对喷出口进行清理的情况，因而蒸镀产能可以得到显著提高。

其中，狭缝形喷出口的狭缝的具体宽度不限，优选为10mm～15mm。狭缝宽度在此范围内，蒸镀材料的蒸镀效果效果且蒸镀产能较高。

在本实用新型的一个优选实施例中，请参考图3和图4所示，狭缝形喷出口的两端为圆角形。采用这样的设计，可以减小蒸镀材料在喷出口两端的附着力，进而可以减少蒸镀材料在喷出口两端的沉积，从而有利于提高蒸镀效果。

如图6所示，在本实用新型的另一个优选实施例中，喷出部2的喷出通道22自底部至喷出口12依次变窄。采用这样的设计，可以减小蒸镀材料在喷出通道内的附着力，进而可以减少蒸镀材料在喷出通道内的沉积，从而有利于提高蒸镀效果。

请参考图5和图6所示，基于上述实施例的一个优选实施例中，坩埚上盖的上盖本体1包括顶盖10和与顶盖10周侧密封连接的侧壁11，顶盖10具有开口100，喷出部2在开口100处与顶盖10连接，其中：

顶盖10的开口100的内壁部分区域设置有挡片20，挡片20具有多个通孔200。

其中，挡片20的具体类型不限，优选采用导热挡片，例如可以采用金属挡片或者不锈钢挡片等等。挡片20的具体形状也不限，例如可以为矩形、梯形或者多边形等等，在本实用新型实施例中，优选采用矩形挡片。

在该实施例中，挡片20具有通孔200，因此可以通过设置挡片20调整喷出口12与挡片20位置相对处的蒸镀材料的喷出量，从而可以提高蒸镀的均匀性。

在上述实施例中，挡片20与顶盖10的开口100的内壁的具体连接关系不限，例如挡片20可以与顶盖10的开口100的内壁固定连接，也可以活动连接。优选的，在本实用新型一个具体实施例中，挡片20与顶盖10的开口100的内壁滑动连接，在该实施例中，顶盖10的开口100的两个内壁均设置有沿着狭缝喷出口长度方向的挡片加载槽21，挡片20可沿挡片加载槽21滑动。

在该技术方案中，可以通过增加、减少或者移动挡片来调整喷出口与挡片位置相对处的蒸镀材料喷出量，从而有利于提高蒸镀材料的镀膜均匀性。

此外，挡片加载槽内21可同时层叠设置有多个挡片20。采用这样的设计，可通过改变层叠设置的挡片的数量来调整喷出口与挡片位置相对处的蒸镀材料喷出量，进而有利于提高蒸镀材料的镀膜均匀性。

本实用新型实施例还提供一种蒸镀设备，包括前述任一实施例的蒸镀坩埚。采用该蒸镀设备进行蒸镀，蒸镀产能较高，蒸镀效果较好。

显然，本领域的技术人员可以对本实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。