1.一种蒸镀坩埚，其特征在于，包括坩埚本体和与坩埚本体连接的坩埚上盖，所述坩埚上盖包括上盖本体和与上盖本体连接的喷出部，所述喷出部的喷出口为狭缝形喷出口。
2.如权利要求1所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述狭缝形喷出口的两端为圆角形。
3.如权利要求1所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述狭缝形喷出口的狭缝宽度为10mm～15mm。
4.如权利要求1所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述喷出部的喷出通道自底部至喷出口依次变窄。
5.如权利要求1所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述上盖本体包括顶盖和与顶盖周侧密封连接的侧壁，所述顶盖具有开口，所述喷出部在所述开口处与所述顶盖连接，其中：
所述顶盖的开口内壁部分区域设置有挡片，所述挡片具有多个通孔。
6.如权利要求5所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述顶盖开口的两个内壁均设置有沿着狭缝喷出口长度方向的挡片加载槽，所述挡片可沿所述挡片加载槽滑动。
7.如权利要求6所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述挡片加载槽内层叠设置有多个挡片。
8.如权利要求7所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述挡片为导热挡片。
9.如权利要求1～8任一项所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述上盖本体与所述喷出部为一体结构，和/或所述喷出部在所述上盖本体的投影位于所述上盖本体的中间区域。
10.一种蒸镀设备，其特征在于，包括如权利要求1～9任一项所述的蒸镀坩埚。