技术总结
本实用新型涉及蒸镀技术领域，公开了一种蒸镀坩埚及蒸镀设备。蒸镀坩埚包括坩埚本体和与坩埚本体连接的坩埚上盖，所述坩埚上盖包括上盖本体和与上盖本体连接的喷出部，所述喷出部的喷出口为狭缝形喷出口。在本实用新型实施例中，喷出部的喷出口为狭缝形喷出口，相比现有技术，无需额外设置喷嘴，进而在真空蒸镀过程中，坩埚本体内的热量可以较为顺畅地传递到狭缝形喷出口，狭缝形喷出口的温度较高，蒸镀材料较易从喷出口喷出，喷出口不易发生堵塞现象，因而蒸镀效果较好；此外，采用本实施例的蒸镀坩埚进行蒸镀时，可大大减少停止蒸镀产线对喷出口进行清理的情况，因而蒸镀产能可以得到显著提高。
技术研发人员：牛玉山;刘科雷
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
文档号码：201620938485
技术研发日：2016.08.24
技术公布日：2017.03.15