气囊式双面研磨抛光机的制作方法

本实用新型涉及蓝宝石、硅片双面研磨抛光生产领域，特别是一种气囊式双面研磨抛光机。

背景技术：

目前的双面研磨机抛光机，下压力由上盘的自重和固定在上盘上的气缸共同作用，进行压力调整。①上盘自重大，惯量大，需要匹配的电机功率也大。②在要求压力比较高的场合，其结构对压力的增加有所制约。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种气囊式双面研磨抛光机，适合蓝宝石磨抛等高压力场合。

为解决上述技术问题，本实用新型包括：三个提拉气缸、气囊、上支撑盘、上研磨盘和下研磨盘，其中：上支撑盘、气囊、上研磨盘和下研磨盘从上至下依次设置，三个提拉气缸的本体固定在上支撑盘上，提拉气缸的气缸杆固定在上研磨盘上。

所述的气囊的截面面积为0.3m²，比之前0.02m²大。

本实用新型上盘的下压力由气囊产生，结构轻巧，惯量小，由上支撑盘、气囊、上研磨盘组成的上盘不会出现甩盘现象，加减速平稳。由于气囊截面大，是目前气缸的10-20倍，产生的压力巨大。非常适合蓝宝石磨抛等高压力场合。气囊的充气过程柔缓，下压时，对物料的冲击小。旋转时，平稳降噪。

附图说明

图1为本实用新型的剖面图；

图2为本实用新型的整体效果图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步详细说明。

如图1和图2所示，本实施例包括：三个提拉气缸1、气囊2、上支撑盘3、上研磨盘4和下研磨盘5，其中：上支撑盘3、气囊2、上研磨盘4和下研磨盘5从上至下依次设置，三个提拉气缸1的本体固定在上支撑盘3上，提拉气缸1的气缸杆固定在上研磨盘4上。

所述的气囊2的截面面积为0.3m²。

由上支撑盘3、气囊2、上研磨盘4组成的上盘机构下降到位，锁紧机构锁定上支撑盘3，气囊2充气，上研磨盘4下压，直到与下研磨盘5接触；在设定压力下，上、下研磨盘4、5旋转运行；加工结束，气囊2排气，提拉气缸1提升上研磨盘4，锁紧机构解除，上盘装置上升。

以上已对本实用新型创造的较佳实施例进行了具体说明，但本实用新型创造并不限于所述的实施例，熟悉本领域的技术人员在不违背本实用新型创造精神的前提下还可以作出种种的等同的变型或替换，这些等同变型或替换均包含在本申请权利要求所限定的范围内。