1.一种具有表面增强拉曼散射功能的氧化钨基底，其特征在于该基底上的氧化钨薄膜具有六边形蜂窝状纳米结构。
2.一种如权利要求1所述的具有表面增强拉曼散射功能的氧化钨基底的制备方法，其特征在于该制备方法具体包括以下步骤：
第一步，采用阳极氧化铝去氧化后获得具有微纳米有序结构的铝碗作为衬底材料：将铝片依次放入丙酮、超纯水中超声洗净，然后进行电化学抛光，去除表面氧化层和杂质，再进行阳极氧化处理，使其表面产生有序氧化铝；将生成的氧化铝放入去氧化剂中进行去氧化处理，获得具有微纳米有序结构的铝碗；
第二步，在衬底上使用磁控溅射法溅射氧化钨纳米薄膜，溅射气体氛围为Ar/O2混合气体，进气量比约为1:1，靶材选用高纯度钨靶或氧化钨靶，溅射厚度调控在30～100nm；
第三步，将所述表面有氧化钨纳米薄膜的基底放入真空管式炉，在氢气氛围中进行退火，退火温度为350～500℃，降温后获得最终的活性基底；
第四步，将制备的氧化钨纳米材料基底作为拉曼检测基底，以去离子水作为溶剂配制R6G溶液，将该基底浸泡在R6G溶液中，浸泡时间均为3～5小时，被浸泡的基底捞出后，待R6G溶液挥发，再进行拉曼检测。
3.根据权利要求2所述的具有表面增强拉曼散射功能的氧化钨基底的制备方法，其特征在于使用的阳极氧化铝为二次或多次氧化获得，氧化铝的原材料铝纯度为99.99％。
4.根据权利要求2所述的具有表面增强拉曼散射功能的氧化钨基底的制备方法，其特征在于使用磁控溅射法溅射氧化钨纳米薄膜，磁控溅射生成的氧化钨纳米薄膜厚度约为30～100nm，溅射气体氛围为Ar/O2混合气体，进气量比约为1:1，可微调，靶材为钨靶，或使用氧化钨靶替代。
5.根据权利要求2所述的具有表面增强拉曼散射功能的氧化钨基底的制备方法，其特征在于所述在氢气氛围中进行高温退火热处理，处理温度为350～500℃。