技术特征：
技术总结
提供一种用于处理多个基板的基板处理系统及方法，且该基板处理系统大体上包括至少一个基板处理平台以及至少一个基板储备平台。该基板处理平台包括旋转轨道系统，该旋转轨道系统能够支撑多个基板支撑组件，且能够连续地旋转该等基板支撑组件，每一基板支撑组件上搭载基板。每一基板定位在配置于旋转轨道系统上的基板支撑组件上，且透过至少一个喷头站与至少一个缓冲站受处理，该至少一个喷头站与至少一个缓冲站定位在该基板处理平台的该旋转轨道系统顶上。配置在该等基板支撑组件上的多个基板进出该基板处理平台而受处理。该基板储备平台包括至少一个双基板处理站，每一双基板处理站包括两个基板支撑组件，以在该等基板支撑组件上支撑两个基板。
技术研发人员：J·约德伏斯基;N·B·帕蒂班德拉;P·K·纳万卡尔;L-Q·夏;藤田敏明;R·霍夫曼;J·吴;S·萨蒂亚;B·吴
受保护的技术使用者：应用材料公司
技术研发日：2013.01.31
技术公布日：2017.10.20