技术总结
本实用新型公开了一种镜片镀膜装置，包括真空腔体以及放置于该真空腔体内的发射源和镀膜伞，发射源设置在真空腔体的底部，镀膜伞设置在真空腔体的顶部。镀膜伞包括基片安装面以及围板，基片安装面设置有若干基片安装位，基片安装面为平面，镀膜伞的上方连接旋转机构，该旋转机构安装在真空腔体的顶部，旋转机构在真空腔体的顶部旋转。采用上述结构的本实用新型基片在镀膜的过程中不存在镀膜死角，使镀膜更加均匀。
技术研发人员：袁志峰
受保护的技术使用者：中山北方晶华精密光学有限公司
文档号码：201720085843
技术研发日：2017.01.20
技术公布日：2017.09.12