技术总结
本实用新型公开了一种靶材真空清洗隔离装置，包括挡板、上支撑结构和下支撑结构，该挡板设置于真空腔体内，挡板通过上支撑结构设置于真空腔体的上腔壁上，挡板通过下支撑结构设置于真空腔体的下腔壁上，所述挡板的后方设有靶材，上支撑结构包括气动元件、N极磁铁和S极磁铁，真空腔体的上腔壁上开设有开孔，该开孔的上侧设有非金属件，N极磁铁位于非金属件的上方，该N极磁铁与气动元件连接，S极磁铁位于开孔的下方，S极磁铁与挡板的上端相接，下支撑结构为一轴承支撑件，轴承支撑件的内腔为锥形腔，挡板的下端设有一连接轴，连接轴连接于轴承支撑件的内腔中。本实用新型可以保证在靶材清洗时不会污染工件，且也可以保证真空腔室的密封性。
技术研发人员：张建明;金章斌;邓晓良
受保护的技术使用者：苏州吉恒纳米科技有限公司
文档号码：201720134163
技术研发日：2017.02.15
技术公布日：2017.08.22