一种基板传输装置及磁控溅射设备的制作方法

本实用新型涉及磁控溅射技术领域，尤其涉及一种基板传输装置及磁控溅射设备。

背景技术：

在显示面板的生产过程，需要采用多种设备，如磁控溅射设备，通过磁控溅射方式在基板(例如玻璃基板)上制备各种金属膜、介质膜、半导体膜、磁性薄膜等。

图1～3为现有技术磁控溅射设备中玻璃基板传输装置的结构示意图，包括装载架01和设置在装载架01下方的滚轮组件02，该装载架01内装设有玻璃基板010，装载架01下部的滑轨011可与滚轮组件02配合，通过滚轮组件02中滚轮的滚动带动装载架01移动。

因滚轮组件02和滑轨011的相对移动是通过滚动摩擦实现的，在运动过程中，会摩擦产生微小的颗粒(如滚轮组件02和滑轨011均为不锈钢，摩擦产生金属颗粒)，微小颗粒吸附在玻璃基板上，从而降低玻璃基板上的薄膜晶体管阵列的良率。

技术实现要素：

本实用新型的实施例提供一种基板传输装置及磁控溅射设备，可解决现有技术中滚轮摩擦产生的微小颗粒会吸附在基板上而影响基板良率的问题。

为达到上述目的，本实用新型的实施例采用如下技术方案：

一种基板传输装置，包括用于承载基板的装载架、基座和磁悬浮装置，所述基座内设有导轨，所述磁悬浮装置包括设置在所述装载架上的第一磁性组件和设置在所述导轨内的第二磁性组件，所述第一磁性组件的磁场和所述第二磁性组件的磁场相互作用以使所述装载架悬浮且沿所述导轨移动。

本实用新型实施例还公开了一种磁控溅射设备，包括上述技术方案所述的基板传输装置。

本实用新型实施例提供的基板传输装置及磁控溅射设备，包括可承载基板的装载架、基座以及磁悬浮装置，由于磁悬浮装置中的第一磁性组件设置在装载架上，第二磁性组件设置在导轨内，通过第一磁性组件和第二磁性组件之间的磁场相互作用，即可使装载架悬浮且沿导轨移动。因在传输上述基板的过程中，装载架与基座没有接触，无机械摩擦，无接触磨损，可避免在基板传输过程产生微小颗粒影响薄膜晶体管阵列的问题，从而提高基板的良率。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有技术中磁控溅射设备中玻璃基板传输装置的结构示意图之一；

图2为现有技术中磁控溅射设备中玻璃基板传输装置的结构示意图之二；

图3为现有技术中磁控溅射设备中玻璃基板传输装置的结构示意图之三；

图4为本实用新型实施例基板传输装置的结构示意图；

图5为本实用新型实施例基板传输装置中基座的结构示意图之一；

图6为本实用新型实施例基板传输装置中基座的结构示意图之二；

图7为本实用新型实施例基板传输装置中磁性件设置在装载架底部的结构示意图；

图8为本实用新型实施例基板传输装置中磁性件设置在装载架两侧的结构示意图；

图9为本实用新型实施例基板传输装置中驱动导向电磁铁设置在导轨两侧的结构示意图之一；

图10为本实用新型实施例基板传输装置中驱动导向电磁铁设置在导轨两侧的结构示意图之二。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

参照图4～6，本实用新型实施例的基板传输装置，包括装载架1、基座2和磁悬浮装置3，其中，装载架1用于承载基板，基座2内设有导轨21，磁悬浮装置3包括第一磁性组件和第二磁性组件，第一磁性组件设置在装载架1上，第二磁性组件设置在导轨21内，第一磁性组件的磁场和第二磁性组件的磁场相互作用以使装载架1悬浮且沿导轨21移动。

本实用新型实施例提供的基板传输装置，包括可承载基板的装载架1、基座2以及磁悬浮装置3，由于磁悬浮装置3中的第一磁性组件设置在装载架1上，第二磁性组件设置在导轨21内，通过第一磁性组件和第二磁性组件之间的磁场相互作用，即可使装载架1悬浮且沿导轨21移动。因在传输上述基板的过程中，装载架1与基座2没有接触，无机械摩擦，无接触磨损，可避免在玻璃基板传输过程产生微小颗粒而影响薄膜晶体管阵列的问题，从而提高基板的良率。

上述装载架1的结构多种多样，本实用新型实施例以装载架1为玻璃装载架为例，包括用于固定基板的装载框11，装载框11的下端安装有多个支撑柱12，还包括与上述导轨21形状大小相适应的滑轨13，支撑柱12竖直固定在滑轨13上，如图4所示。

可选地，第一磁性组件包括设置在装载架1下部的磁性件31，第二磁性组件包括多个磁性单元32，多个磁性单元32沿导轨21的延伸方向分布。该磁性单元32包括支撑磁铁321和驱动导向磁铁322，支撑磁铁321与磁性件31之间可产生磁力以支撑装载架1悬浮在导轨21上。当然，上述的支撑磁铁321和驱动导向磁铁322也可采用同一磁铁，其控制较复杂。

支撑磁铁321与磁性件31之间的磁力可为相互吸引、相互排斥、或相互吸引和相互排斥，如将支撑磁铁321设置在导轨21两侧的上边沿，磁性件31也分别在装载架1下部的两侧，若支撑磁铁321的横向安装，支撑磁铁321远离导轨21内壁的磁极与磁性件31靠近外侧的磁极极性相反，两者相互吸引；又如支撑磁铁321设置在导轨21的下部，磁性件31设置在装载架1的下部，支撑磁铁321和磁性件31相互靠近的磁极极性相反，两者相互排斥，如图7所示；若支撑磁铁321竖直安装，支撑磁铁321靠近导轨21上边沿的磁极极性与磁性件31靠近外侧的磁极极性相反，远离上边沿的磁性极性与磁性件31靠近外侧的磁极极性相同，两者之间既有吸引力和排斥力，如图8所示；当然吸引力和排斥力结合的方案，也可是在导轨21的下部和上部均设置支撑磁铁321的设计。

可选地，上述磁性件31可为直线电机的转子，驱动导向磁铁322为直线电机的定子。

可选地，磁性件31可采用条形的永磁铁，支撑磁铁321和/或驱动导向磁铁322为电磁铁。本实用新型实施例还包括控制器(图中未示出)，控制器与支撑磁铁321和/或驱动导向磁铁322电连接，以控制支撑磁铁321和/或驱动导向磁铁322的磁力。即若支撑磁铁321为电磁铁，控制器与支撑磁铁321电连接；若驱动导向磁铁322为电磁铁，控制器与驱动导向磁铁322电连接；若支撑磁铁321和驱动导向磁铁322均为电磁铁，控制器分别与支撑磁铁321和驱动导向磁铁322电连接。

支撑磁铁321通电后，调整电流强度，以使支撑磁铁321与磁性件31产生足够的电磁力将装载架1浮起。参照图9～10，驱动导向磁铁322驱动装载架1运动的工作原理为：控制器控制沿装载架1运动方向、位于装载架1之前的一个磁性单元中的驱动导向磁铁322与装载架1的磁性件31极性相反、位于装载架1之后的一个磁性单元中的驱动导向磁铁322与装载架1的磁性件31极性相同(图10中箭头所示为装载架的运动方向)。

此外，上述的磁性单元32还包括传感器323，传感器323用于检测装载架1的悬浮位置，且与控制器电连接。传感器323将检测到的装载件的位置信息反馈至控制器，控制器对比设定位置后调整或保持支撑磁铁321和/或驱动导向磁铁322的输入电流，以纠正装载架1的位置。

可选地，上述的传感器323可为水平位移传感器3231、垂直位移传感器3232，或包括水平位移传感器3231和垂直位移传感器3232。本实用新型实施例中传感器323包括水平位移传感器3231和垂直位移传感器3232，其中，水平位移传感器3231设置在导轨21的上边沿，用于检测装载架1的水平位置，垂直位移传感器3232设置在导轨21的底部，用于检测装载架1的竖直位置，通过水平位移传感器3231和垂直位移传感器3232可使装载架1始终与导轨21保持一定的间隙运动。

当装载架1到达设定位置时，装载架1下落到导轨21上。为避免装载架1下落时撞击导轨21上的支撑磁铁321或驱动导向磁铁322等组件，本实用新型实施例中磁性单元还包括支撑件324，当装载架1停止运行时，支撑件324用于支撑装载架1，并保证在基板上制备膜层的过程中，基板不会发生偏移。

可选地，支撑件324为机械支撑杆，机械支撑杆的高度大于支撑磁铁321的高度，且小于支撑磁铁321的高度和装载悬浮气隙之和；或支撑件324为气动伸缩杆，当需要支撑装载架1时，气动伸缩杆伸长以支撑装载架1。通常悬浮气隙较小，导致机械支撑杆与悬浮状态中的装载架1间距脚较小，装载架1稍微上下晃动，容易撞击机械支撑杆并产生摩擦滑行。因此，优选地，本实用新型实施例中支撑件324采用气动伸缩杆。

可选地，导轨21的截面可为方形或圆弧形，本实用新型实施例中采用的导轨21截面为圆弧形，在一个磁性单元32中，驱动导向磁铁322为两个，且分别设置在导轨21的两侧边沿处，支撑磁铁321为单个，且均匀分布在驱动导向磁铁322之间，支撑磁铁321中的一个位于导轨21的底部。

本实用新型实施例还公开了一种磁控溅射设备，包括上述所有的基板传输装置。由于在本实施例的磁控溅射设备内安装的基板传输装置与上述各实施例中提供的基板传输装置结构相同，因此二者能够解决相同的技术问题，并达到相同的预期效果。

以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。