蒸镀装置的制作方法

本实用新型涉及显示设备制造技术领域，特别是涉及一种蒸镀装置。

背景技术：

有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode)具有自发光、广视角、对比度高、耗电低、响应速度极快等优点。目前，制作有机发光二极管的主要方式是在真空环境下，使用蒸镀装置在基板上沉积各种功能层，形成OLED器件。

在蒸镀OLED器件的功能层时，通常利用晶振探测器对基板上沉积材料的速率及厚度进行监测。晶振探测器监测的原理是通过晶振探测器对晶振片的振动频率进行监测，进而对基板上沉积材料的速率及厚度进行监控。但当晶振片表面附着的材料达到一定量时，会影响晶振片的振动频率，从而影响晶振探测器监测的准确性。为保证监测的准确性，需对晶振片进行更换。而晶振片位于真空腔体内的不同位置，工人无法在真空腔体外对所有晶振片直接进行更换，需要进入真空腔体内更换。这样操作极不方便，且容易造成真空腔体内环境的污染。

技术实现要素：

基于此，有必要针对传统的蒸镀装置中晶振片不易更换的问题，提供一种易于更换晶振片的蒸镀装置。

具体的技术方案如下：

一种蒸镀装置，包括

腔体；

设于所述腔体内的蒸镀源；

设于所述腔体内且位于所述蒸镀源上方的载片架，所述载片架用于放置待蒸镀基板；以及

设于所述载片架与所述蒸镀源之间的监测部件，所述监测部件包括晶振探测器以及承载平台，所述承载平台设有用于放置晶振片的第一开口，所述承载平台可转动用以切换所述晶振片，所述晶振探测器用以通过监测所述晶振片的振动频率来检测所述蒸镀源的蒸镀速率。

在其中一个实施例中，所述第一开口的数量为多个。

在其中一个实施例中，所述承载平台的中部具有用于供待蒸镀材料蒸发流通的第二开口，多个所述第一开口围绕所述第二开口均匀分布。

在其中一个实施例中，所述蒸镀装置还包括设于所述腔体内的支撑部件，所述支撑部件连接于所述承载平台。

在其中一个实施例中，所述支撑部件具有圆环形导轨，所述承载平台滑动连接于所述圆环形导轨，所述承载平台可相对所述圆环形导轨转动，以带动所述承载平台上的各个所述第一开口均能够圆周转动。

在其中一个实施例中，所述支撑部件还具有环形支撑台，所述圆环形导轨可转动连接在所述环形支撑台内；

所述蒸镀装置还包括限位部件，所述限位部件连接于所述环形支撑台，所述限位部件用于对所述承载平台进行限位。

在其中一个实施例中，所述承载平台突出于所述环形支撑台的上表面，所述承载平台的外周面具有限位槽，所述限位部件包括限位元件以及伸缩驱动元件，所述伸缩驱动元件设在所述环形支撑台上且连接于所述限位元件，所述伸缩驱动元件用于驱动所述限位元件插入所述限位槽以对所述承载平台进行限位或者复位。

在其中一个实施例中，所述监测部件还包括遮挡板，所述遮挡板连接在所述承载平台上以用来遮挡所述第一开口。

在其中一个实施例中，所述监测部件还包括设在所述承载平台上的遮挡驱动元件，所述遮挡驱动元件连接于所述遮挡板，所述遮挡驱动元件用于驱动所述遮挡板遮挡或打开所述第一开口。

在其中一个实施例中，所述蒸镀装置还包括设在所述腔体内的升降部件，所述升降部件连接于所述支撑部件，所述升降部件能够驱动所述支撑部件运动以带动所述承载平台上升或下降。

与现有技术相比，本实用新型具有以下有益效果：

本实用新型的蒸镀装置，包括腔体以及设于腔体内的蒸镀源、设于腔体内且位于蒸镀源上方的载片架，设于所述载片架与蒸镀源之间的监测部件，监测部件包括晶振探测器以及承载平台，承载平台设有用于放置晶振片的第一开口，承载平台可转动用以切换晶振片。当晶振片表面附着的材料达到一定量需要对其进行更换时，工人在腔体的仓门处即可通过转动承载平台，实现对处于腔体内不同位置的晶振片进行更换，无需进入腔体内部，操作简单方便，且不会造成腔体内环境的污染。

附图说明

图1为一实施例所述的蒸镀装置的结构示意图；

图2为图1所示的蒸镀装置的监测部件的俯视图。

附图标记说明

10、蒸镀装置；100、腔体；200、载片架；300、蒸镀源；400、监测部件； 410、承载平台；411、第一开口；412、第二开口；420、遮挡板；500、支撑部件；510、圆环形导轨；520、环形支撑台；600、限位部件；700、升降部件； 20、晶振片。

具体实施方式

为了便于理解本实用新型，下面将参照相关附图对本实用新型进行更全面的描述。附图中给出了本实用新型的较佳实施例。但是，本实用新型可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本实用新型的公开内容的理解更加透彻全面。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

参见图1及图2所示，本实用新型一实施例涉及一种蒸镀装置10。上述的蒸镀装置10包括腔体100；

设于腔体100内的蒸镀源300；

设于腔体100内且位于蒸镀源300上方的载片架200，载片架200用于放置待蒸镀基板；以及

设于载片架200与蒸镀源300之间的监测部件400，监测部件400包括晶振探测器以及承载平台410，承载平台410设有用于放置晶振片的第一开口411，承载平台410可转动用以切换晶振片，晶振探测器用以通过监测晶振片的振动频率来检测蒸镀源300的蒸镀速率。

在一具体的示例中，蒸镀源300的数量为多个。各个蒸镀源300用于盛放不同的材料，使得本实施例的蒸镀装置10能够实现对同一基板蒸镀不同材料。

在一具体的示例中，第一开口411的数量可以是多个，例如两个、三个或者四个等。相邻第一开口411之间的距离相等，也即多个孔均匀分布于在承载平台410上。不难理解，第一开口411具体开设在承载平台上的位置以及数量可以依据实际蒸镀源300的位置以及数量来确定。

在一具体的示例中，承载平台410的中部具有用于供待蒸镀材料蒸发流通的第二开口412。多个第一开口411围绕第二开口412均匀分布。第二开口412 可以呈三角形、长方形或圆形，附图2所示的第二开口412呈圆形。第二开口 412的设置，使得承载平台410呈环形，承载平台410呈环形能够保证蒸镀源 300蒸发出的材料最大限度的附着至待蒸镀基板上，避免过多附着至承载平台 410上。

在一具体的示例中，蒸镀装置10还包括设于腔体100内的支撑部件500。支撑部件连接于承载平台410。

在一具体的示例中，支撑部件500具有圆环形导轨510。承载平台410滑动连接于圆环形导轨510，承载平台410可相对圆环形导轨510转动，以带动承载平台410上的各个第一开口411均能够圆周转动。

优选地，载片架200的中心、承载平台410的中心以及圆环形导轨510的中心在同一条直线上。载片架200的中心、承载平台410的中心以及圆环形导轨510的中心在同一条直线上能够确保蒸镀源300蒸发出的材料通过承载平台 410的第二开口412以及圆环形导轨510中部，附着至载片架200上的待蒸镀基板表面。

在一具体的示例中，监测部件400还包括旋转驱动元件。旋转驱动部件连接于承载平台410，旋转驱动部件能够驱动承载平台410转动。

在一具体的示例中，承载平台410具有万向轮，承载平台410通过万向轮滑动连接于圆环形导轨510，可实现承载平台410相对圆环形导轨510转动。

在一具体的示例中，支撑部件500还具有环形支撑台520。圆环形导轨510 可转动连接在环形支撑台520内。蒸镀装置10还包括限位部件600。限位部件 600连接于环形支撑台520，限位部件600用于对承载平台410进行限位。在蒸镀装置10对基板进行蒸镀时，限位部件600对承载平台410进行固定，确保监测部件400稳定监测蒸镀源300的蒸镀速率。当蒸镀结束需要更换晶振片20时，将限位部件600释放，承载平台410可转动，便于工人在腔体100外更换晶振片20。

优选地，承载平台410突出于环形支撑台520的上表面，承载平台410的外周面具有限位槽。限位部件600包括限位元件以及伸缩驱动元件。伸缩驱动元件设在环形支撑台520上且连接于限位元件，伸缩驱动元件用于驱动限位元件插入限位槽以对承载平台410进行限位或者复位。

在一具体的示例中，监测部件400还包括遮挡板420。遮挡板420连接在承载平台410上以用来遮挡第一开口411。在蒸镀结束，蒸镀源300开始降温时，蒸镀源300仍会蒸发出材料，附着在晶振片20上，使晶振片20的使用寿命降低。遮挡板420的设置，可以在蒸镀源300结束工作开始降温时，通过遮挡板 420遮挡住第一开口411，避免多余材料附着到晶振片20上以延长晶振片20的使用寿命。

在一具体的示例中，监测部件400还包括设在承载平台410上的遮挡驱动元件。遮挡驱动元件连接于遮挡板420，遮挡驱动元件用于驱动遮挡板420遮挡或打开第一开口411。

遮挡板420可以设在第一开口411外，此时，遮挡驱动元件设在支撑部件 500上，遮挡驱动元件连接于遮挡板420，遮挡驱动元件用于驱动遮挡板420至第一开口411处遮挡第一开口411，或者驱动遮挡板420移开第一开口411处打开第一开口411。

或者，遮挡板420可以设在第一开口411内，此时，遮挡驱动元件连接于遮挡板420，遮挡驱动元件用于驱动遮挡板420张开或闭合以实现对第一开口 411的遮挡或打开。

优选地，遮挡板420的直径大于第一开口411的直径。遮挡板420的直径大于第一开口411的直径能够确保蒸镀源300结束工作开始降温时，蒸发出的材料全部附着于遮挡板420，而不会沉积至晶振片20上。

在一具体的示例中，蒸镀装置10还包括设在所述腔体100内的升降部件 700。升降部件700连接于支撑部件500，升降部件700能够驱动支撑部件500 运动以带动承载平台410上升或下降。升降部件700的设置能够调节监测部件 400与蒸镀源300的相对位置，也即可以实现根据实际蒸镀及监测需要调节监测部件400与蒸镀源300的相对位置。

在一具体的示例中，承载平台410上设有散热部件，散热部件用于对晶振探测器进行散热。进一步地，散热部件可以是散热管、水冷板等。当散热部件是散热管时，散热管内密封有冷却液，散热管能够对晶振探测器及时的进行散热。

上述的蒸镀装置10，包括腔体100以及设于腔体100内的蒸镀源300、设于腔体100内且位于蒸镀源300上方的载片架200，设于载片架200与蒸镀源 300之间的监测部件400，监测部件400包括晶振探测器以及承载平台410，承载平台410设有用于放置晶振片的第一开口411，承载平台410可转动用以切换晶振片。当晶振片20表面附着的材料达到一定量需要对其进行更换时，工人在腔体100的仓门处即可通过转动承载平台410，实现对处于腔体100内不同位置的晶振片20进行更换，无需进入腔体100内部，操作简单方便，且不会造成腔体100内环境的污染。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。