一种反应釜中除杂试剂的添加装置的制作方法

文档序号:22239538发布日期:2020-09-15 19:50阅读:234来源:国知局
一种反应釜中除杂试剂的添加装置的制作方法

本实用新型属于除杂装置技术领域,尤其涉及一种反应釜中除杂试剂的添加装置。



背景技术:

湿法冶金除杂过程中,除杂试剂一般为固体或液体,并从反应釜上方加入,通过釜内搅拌扩散与杂质离子发生反应。

但是此种加料方式在除杂的过程中也会与有价金属产生大量沉淀,导致有价金属损失率较高,并且除杂的效率低,除杂试剂的有效使用率也不高。



技术实现要素:

鉴于上述问题,本实用新型的目的在于提供一种反应釜中除杂试剂的添加装置,旨在解决现有的加料方式存在除杂效率低以及有价金属损失率高的技术问题。

本实用新型采用如下技术方案:

所述添加装置包括从上至下依次设置的若干层圆形管道,每层圆形管道上均开有多个圆孔,每层圆形管道上焊接有与所述圆孔一一对应的滑道,所述滑道上安装有连接滑杆,所述连接滑杆上固定有磁性活塞,所述磁性活塞朝向对应的圆孔设置,所述添加装置还包括与各层圆形管道连通的输料管。

进一步的,所述连接滑杆底部有滑块,所述滑块位于所述滑道内。

进一步的,所述滑道成对设置,所述连接滑杆两端有滑块,且位于对应侧滑道内。

进一步的,所述滑道的末端安装有挡块。

进一步的,所述圆形管道从上往下为四层。

进一步的,最下层圆形管道上圆孔方向竖直向上,其余三层圆形管道的圆孔方向朝向反应釜搅拌轴,并斜向下15°设置。

进一步的,所述输料管有两根,所有圆形管道之间还通过两根实心管道连接一体。

进一步的,每层圆形管道上的圆孔均匀分布,且从上至下四层圆形管道上的圆孔数量分别为12个、10个、8个和4个。

进一步的,从上至下四层圆形管道所开圆孔的孔径大小比例为3:4:5:6。

本实用新型的有益效果是:本实用新型提供一种反应釜中除杂试剂的添加装置,通过设置若干层圆形管道,并在每层圆形管道上开有圆孔,除杂试剂通过圆孔可以快速均匀的分布在反应釜各位置处,除杂试剂与杂质离子的沉淀反应进行得更加快速和充分,试剂消耗量可有效降低25%,有价金属沉淀率可有效降低50%,当停止加入除杂试剂时,磁性活塞封闭圆孔,能有效防止反应釜内液体进入圆形管道内部,造成腐蚀堵塞等情况,本装置还具有结构简单、使用方便的特点。

附图说明

图1是本实用新型实施例提供的添加装置的主视图;

图2是本实用新型实施例提供的添加装置的俯视图;

图3是本实用新型实施例提供的圆形管道的其中一个圆孔的结构图;

图4是本实用新型实施例提供的最上层圆形管道的开孔俯视图;

图5是本实用新型实施例提供的第二层圆形管道的开孔俯视图;

图6是本实用新型实施例提供的第三层圆形管道的开孔俯视图;

图7是本实用新型实施例提供的最底层圆形管道的开孔俯视图。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。

为了说明本实用新型所述的技术方案,下面通过具体实施例来进行说明。

如图1-3所示,本实施例提供的反应釜中除杂试剂的添加装置,所述添加装置包括从上至下依次设置的若干层圆形管道1,从上至下依次标记为11、12、13、14,每层圆形管道上均开有多个圆孔,每层圆形管道上焊接有与所述圆孔一一对应的滑道2,所述滑道上安装有连接滑杆3,所述连接滑杆上固定有磁性活塞4,所述磁性活塞朝向对应的圆孔设置,所述添加装置还包括与各层圆形管道连通的输料管5。

工作时,除杂试剂通过柱塞泵经输料管输送至各层圆形管道内,并通过圆形管道内的圆孔可以快速均匀的分布在反应釜各位置处,当停止泵料时,管道内压强减小,一方面,在反应釜内液体压力下,磁性活塞朝向圆孔移动,另一方面,磁性活塞具有磁性,而圆形管道为铁质材料,因此磁性活塞被吸引,因此磁性活塞能够堵住圆孔。溶液中同时存在镍钴重金属离子和杂质,若直接从反应釜的上方加入除杂试剂,虽然除杂试剂对杂质离子的沉淀选择性优于镍钴重金属离子,但杂质离子和镍钴重金属离子的浓度差距比较大,只有在除杂试剂所在局部范围内的杂质离子与除杂试剂的接触反应,除杂试剂在反应釜内分散过程中,有部分除杂试剂被钴镍离子消耗沉淀,因此为了尽量消除杂质,需要更多的除杂试剂,而且也会损失部分钴镍离子。而采用本添加装置,在很短的时间内,除杂试剂能均匀的分布在反应釜内,增加了除杂试剂与杂质离子的接触几率,由于除杂试剂与杂质离子的沉淀选择性优于镍钴重金属离子,因此基本上除杂试剂不会与镍钴离子反应,减少了除杂试剂的用量,不仅可有效清除反应釜内的杂质的同时,也不会影响镍钴有价离子的含量。

本装置通过设置若干层圆形管道,并在每层圆形管道上开有圆孔,除杂试剂通过圆孔可以快速均匀的分布在反应釜各位置处,除杂试剂与杂质离子的沉淀反应进行得更加快速和充分,试剂消耗量可有效降低25%,有价金属沉淀率可有效降低50%。

作为一种具体结构,如图3,本实施例中所述连接滑杆底部有滑块6,所述滑块位于所述滑道2内,所述滑道2成对设置,所述连接滑杆3两端有滑块6,且位于对应侧滑道内,所述滑道2的末端安装有挡块7,除杂试剂泵入圆形管道,管道内压强增加,通过除杂试剂的冲击力推动磁性活塞移动而打开圆孔,磁性活塞带动滑块沿滑道移动,当滑块与挡块接触时,滑块停止移动,当停止加入除杂试剂时,磁性活塞通过与圆形管道之间的磁力吸引以及反应釜内液体压力而关闭圆孔,能有效防止反应釜内液体进入圆形管道内部,造成腐蚀堵塞等情况。即使有少量液体进入到圆形管道内,下次泵料时会一并带出,不会堵塞圆形管道。

更为具体的,如图4-7,所述圆形管道从上往下为四层,最下层圆形管道上圆孔方向竖直向上,其余三层圆形管道的圆孔方向朝向反应釜搅拌轴,并斜向下15°设置,每层圆形管道上的圆孔均匀分布,且从上至下四层圆形管道上的圆孔数量分别为12个、10个、8个和4个,从上至下四层圆形管道所开圆孔的孔径大小比例为3:4:5:6。此外,所述输料管有两根,所有圆形管道之间还通过两根实心管道连接一体。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。



技术特征:

1.一种反应釜中除杂试剂的添加装置,其特征在于,所述添加装置包括从上至下依次设置的若干层圆形管道,每层圆形管道上均开有多个圆孔,每层圆形管道上焊接有与所述圆孔一一对应的滑道,所述滑道上安装有连接滑杆,所述连接滑杆上固定有磁性活塞,所述磁性活塞朝向对应的圆孔设置,所述添加装置还包括与各层圆形管道连通的输料管。

2.如权利要求1所述反应釜中除杂试剂的添加装置,其特征在于,所述连接滑杆底部有滑块,所述滑块位于所述滑道内。

3.如权利要求2所述反应釜中除杂试剂的添加装置,其特征在于,所述滑道成对设置,所述连接滑杆两端有滑块,且位于对应侧滑道内。

4.如权利要求3所述反应釜中除杂试剂的添加装置,其特征在于,所述滑道的末端安装有挡块。

5.如权利要求1-4任一项所述反应釜中除杂试剂的添加装置,其特征在于,所述圆形管道从上往下为四层。

6.如权利要求5所述反应釜中除杂试剂的添加装置,其特征在于,最下层圆形管道上圆孔方向竖直向上,其余三层圆形管道的圆孔方向朝向反应釜搅拌轴,并斜向下15°设置。

7.如权利要求6所述反应釜中除杂试剂的添加装置,其特征在于,所述输料管有两根,所有圆形管道之间还通过两根实心管道连接一体。

8.如权利要求7所述反应釜中除杂试剂的添加装置,其特征在于,每层圆形管道上的圆孔均匀分布,且从上至下四层圆形管道上的圆孔数量分别为12个、10个、8个和4个。

9.如权利要求8所述反应釜中除杂试剂的添加装置,其特征在于,从上至下四层圆形管道所开圆孔的孔径大小比例为3:4:5:6。


技术总结
本实用新型适用于除杂装置技术领域,提供一种反应釜中除杂试剂的添加装置,通过设置若干层圆形管道,并在每层圆形管道上开有圆孔,除杂试剂通过圆孔可以快速均匀的分布在反应釜各位置处,除杂试剂与杂质离子的沉淀反应进行得更加快速和充分,试剂消耗量可有效降低25%,有价金属沉淀率可有效降低50%,当停止加入除杂试剂时,磁性活塞封闭圆孔,能有效防止反应釜内液体进入圆形管道内部,造成腐蚀堵塞等情况,本装置还具有结构简单、使用方便的特点。

技术研发人员:许开华;蒋振康;李玉华;吴光源;梁炳;李杨
受保护的技术使用者:荆门市格林美新材料有限公司
技术研发日:2019.11.08
技术公布日:2020.09.15
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