一种真空镀膜装置的制造方法
【专利摘要】一种真空镀膜装置，包括壳体，所述壳体内的顶部设有中心轴，所述中心轴下方设有工件放置架，所述工件放置架包括四块放置板，所述放置板呈圆周布置在中心轴上，所述放置板上设有若干放置槽，所述放置槽两侧分别设有滑移槽，所述滑移槽内设有滑移板，所述滑移槽与滑移板活动连接；所述壳体内还设有四块隔板，所述隔板在壳体内呈圆周布置，且与放置板呈交错设置。本实用新型的有益效果是结构设计合理，使用方便，当将工件放入放置槽内，根据尺寸的大小调节放置槽底部的滑移板的位置，这样可以适用不同尺寸的工件，节约资源；蒸发源内可以放置不同的材料，这样就可以实现同时镀膜，隔板避免了蒸发源的相互污染。
【专利说明】
一种真空镀膜装置
技术领域
[0001 ]本实用新型涉及镀膜技术领域，具体涉及一种真空镀膜装置。
【背景技术】
[0002]真空镀膜技术初现于20世纪30年代，四五十年代开始出现工业应用，工业化大规模生产开始于20世纪80年代，在电子、宇航、包装、装潢、烫金印刷等工业中取得广泛的应用。真空镀膜是指在真空环境下，将某种金属或金属化合物以气相的形式沉积到材料表面(通常是非金属材料)，属于物理气相沉积工艺。因为镀层常为金属薄膜，故也称真空金属化。广义的真空镀膜还包括在金属或非金属材料表面真空蒸镀聚合物等非金属功能性薄膜。在所有被镀材料中，以塑料最为常见，其次，为纸张镀膜。相对于金属、陶瓷、木材等材料，塑料具有来源充足、性能易于调控、加工方便等优势，因此种类繁多的塑料或其他高分子材料作为工程装饰性结构材料，大量应用于汽车、家电、日用包装、工艺装饰等工业领域。
[0003]在现有技术中，往往将材料高温加热，然后冷却到基片形成薄膜，在镀膜过程中，由于材料会形成气体，由于真空腔体内存在多个蒸发源，当使用其中一个蒸发源时，会对其他的蒸发源造成污染，影响镀膜的质量;此外，还会出现不同大小的工件需要不同的工件放置架，造成较大的资源浪费。
【实用新型内容】
[0004]本实用新型的目的在于提供一种真空镀膜装置，以解决上述【背景技术】中提出的问题。
[0005]为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案:
[0006]—种真空镀膜装置，包括壳体，所述壳体内的顶部设有中心轴，所述中心轴下方设有工件放置架，所述工件放置架包括四块放置板，所述放置板呈圆周布置在中心轴上，所述放置板上设有若干放置槽，所述放置槽两侧分别设有滑移槽，所述滑移槽内设有滑移板，所述滑移槽与滑移板活动连接;所述壳体内还设有四块隔板，所述隔板在壳体内呈圆周布置，且与放置板呈交错设置。
[0007]作为本实用新型进一步的方案:所述隔板将壳体分为四个区域，每个区域的底部均放置有蒸发源。
[0008]作为本实用新型再进一步的方案:所述放置板和隔板均呈十字形。
[0009]作为本实用新型再进一步的方案:所述壳体的上部设有气管，所述气管与外部的真空栗相连接。
[0010]本实用新型的有益效果是结构设计合理，使用方便，当将工件放入放置槽内，根据尺寸的大小调节放置槽底部的滑移板的位置，这样可以适用不同尺寸的工件，节约资源;蒸发源内可以放置不同的材料，这样就可以实现同时镀膜，隔板避免了蒸发源的相互污染。
【附图说明】[ΟΟ??]图1为本实用新型的结构不意图；
[0012]图2为本实用新型图1中的A-A向视图；
[0013]图3为本实用新型图2中的B处放大图。
[0014]图中:1-壳体、2-中心轴、3-放置板、4-气管、5-真空栗、6-隔板、7-蒸发源、31-放置槽、32-滑移槽、33-滑移板。
【具体实施方式】
[0015]下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
[0016]请参阅图1、图2和图3，本实用新型实施例中，一种真空镀膜装置，包括壳体I，所述壳体I内的顶部设有中心轴2，所述中心轴2下方设有工件放置架，所述工件放置架包括四块放置板3，所述放置板3呈圆周布置在中心轴2上，所述放置板3上设有若干放置槽31，所述放置槽31两侧分别设有滑移槽32，所述滑移槽32内设有滑移板33，所述滑移槽32与滑移板33活动连接，具体使用时，将工件放入放置槽31内，根据尺寸的大小调节放置槽31底部的滑移板33的位置，这样可以适用不同尺寸的工件，节约资源。
[0017]所述壳体I内还设有四块隔板6，所述隔板6在壳体I内呈圆周布置，且与放置板3呈交错设置，所述隔板6将壳体I分为四个区域，每个区域的底部均放置有蒸发源7，蒸发源7内可以放置不同的材料，这样就可以实现同时镀膜，隔板6避免了蒸发源7的相互污染。
[0018]所述放置板3和隔板6均呈十字形。
[0019]所述壳体I的上部设有气管4，所述气管4与外部的真空栗5相连接。
[0020]对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
[0021]此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。
【主权项】
1.一种真空镀膜装置，包括壳体，其特征在于，所述壳体内的顶部设有中心轴，所述中心轴下方设有工件放置架，所述工件放置架包括四块放置板，所述放置板呈圆周布置在中心轴上，所述放置板上设有若干放置槽，所述放置槽两侧分别设有滑移槽，所述滑移槽内设有滑移板，所述滑移槽与滑移板活动连接;所述壳体内还设有四块隔板，所述隔板在壳体内呈圆周布置，且与放置板呈交错设置。2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜装置，其特征在于，所述隔板将壳体分为四个区域，每个区域的底部均放置有蒸发源。3.根据权利要求1或2所述的一种真空镀膜装置，其特征在于，所述放置板和隔板均呈十字形。4.根据权利要求1所述的一种真空镀膜装置，其特征在于，所述壳体的上部设有气管，所述气管与外部的真空栗相连接。
【文档编号】C23C14/24GK205501400SQ201620047367
【公开日】2016年8月24日
【申请日】2016年1月19日
【发明人】刘玉杰
【申请人】天津涂冠科技有限公司