技术总结
本发明公开一种防辐射的低熔点高弹性玻璃基板，包括按重量百分比的以下原料：45.1～55%的SiO2、10.6～15.6%的P2O5、13.4～22.4%的Al2O3、0.1～1%的ZrO2、10.1～15.1%的Na2O、1～5%的K2O、0.1～1%的CaO、1.3～5%的MgO以及0.4～5%的助剂，所述助剂为NaNO3、NaF、CeO2与SnO2的混合物；SiO2与P2O5作为网络形成体氧化物，构建玻璃网络构架，P2O5能够提高玻璃基板在紫外区域的透过率；Al2O3与ZrO2作为网络中间体氧化物，增加玻璃基板的热稳定性和化学稳定性，Na2O、K2O、CaO与MgO作为网络外体氧化物，改善玻璃性能；助剂能够在玻璃基板的制造中起到澄清、脱色与助熔的作用；按本发明原料配比所制得的玻璃基板不仅防辐射，而且具有较高的弹性模量、耐划伤，能够在复杂环境长期使用，并且由于熔化温度低，能够降低生产难度、满足规模制造的需求。
技术研发人员：彭寿;曹欣
受保护的技术使用者：蚌埠玻璃工业设计研究院;中国建材国际工程集团有限公司
文档号码：201611188411
技术研发日：2016.12.21
技术公布日：2017.05.10