本发明涉及一种氧化铝多孔支撑剂的制备方法。
背景技术：
支撑剂是指具有一定粒度和级配的天然砂或人造高强陶瓷颗粒。氧化铝支撑剂由于其工作环境的原因，对其耐高温、耐高压、耐腐蚀、高强度、高导流能力、低密度、低破碎率等要求较高。现有的氧化铝支撑剂难以同时同时兼备上述技术要求。
技术实现要素：
本发明所要解决的技术问题是，克服以上现有技术的缺点：提供一种具有耐高温、耐高压、耐腐蚀、高强度、高导流能力、低密度、低破碎率的氧化铝多孔支撑剂的制备方法。
本发明的技术解决方案如下：一种氧化铝多孔支撑剂的制备方法，包括以下步骤：
1）将氧化铝粉与蒙脱石、硅酸铝、白炭黑、高岭土混合球磨至平均粒径为120-280微米的混合微粉；
2）将步骤1）制得的混合微粉放入成球机中加水滚制成球状生坯，再将球状生坯置于烧结窑中，以每小时120-135℃的升温速率升温至1500-1800℃，保温5-10小时转相，冷却后水洗至ph值为6-8制得球状熟坯；
3）将步骤2）制得的球状熟坯加入粒状合成树脂中搅拌10-30分钟实现球状熟坯的表面处理，筛除合成树脂后，于100-120℃温度下烘干，即得氧化铝多孔支撑剂。
作为优化，步骤1）中，混合微粉的组成按重量份计如下：氧化铝粉100-200份，蒙脱石10-36份，硅酸铝20-27份，白炭黑2-7份，高岭土1.5-4.5份。
作为优化，步骤2）中，将球状生坯置于烧结窑中，以每小时130℃的升温速率升温至1600℃，保温5-10小时相变转化。
作为优选，步骤3）中，所述合成树脂为粒度小于所述球状熟坯的树脂粒料，所述树脂粒料为聚乙烯、聚丙烯、聚氯乙烯中的一种。
作为最优选，步骤1）中，混合微粉的组成按重量份计如下：氧化铝粉100份，蒙脱石18份，硅酸铝25份，白炭黑2份，高岭土1.5份。
本发明的有益效果是：本发明通过结合各功能组分在烧结过程的晶相转化特点，通过具体的组分比例结合烧结与处理工艺，能有效保证氧化铝支撑剂强度的同时，改善其微孔形态，降低其密度，使其具备较高抗压强度的同时，大大提高比表面积及孔容，本发明采用合成树脂在氧化铝支撑剂表面处理，能够进一步提高支撑剂的强度和导流性能，使其具有耐高温、耐高压、耐腐蚀、高强度、高导流能力、低密度、低破碎率的特点，以达到为多种类催化剂产品的支撑、延长催化剂的使用寿命的要求。
具体实施方式
下面用具体实施例对本发明做进一步详细说明，但本发明不仅局限于以下具体实施例。
实施例一
一种氧化铝多孔支撑剂的制备方法，包括以下步骤：
1）将氧化铝粉与蒙脱石、硅酸铝、白炭黑、高岭土混合球磨至平均粒径为120-280微米的混合微粉；混合微粉的组成按重量份计如下：氧化铝粉120份，蒙脱石20份，硅酸铝25份，白炭黑5份，高岭土2.5份。
2）将步骤1）制得的混合微粉放入成球机中加水滚制成球状生坯，再将球状生坯置于烧结窑中，以每小时130℃的升温速率升温至1600℃，保温10小时实现相变转化，冷却后水洗至ph值为6-8制得球状熟坯；
3）将步骤2）制得的球状熟坯加入粒状合成树脂中搅拌10-30分钟实现球状熟坯的表面处理，所述合成树脂为粒度小于所述球状熟坯的聚乙烯粒料，筛除合成树脂后，于100℃温度下烘干，即得氧化铝多孔支撑剂。
实施例二
一种氧化铝多孔支撑剂的制备方法，包括以下步骤：
1）将氧化铝粉与蒙脱石、硅酸铝、白炭黑、高岭土混合球磨至平均粒径为120-280微米的混合微粉；混合微粉的组成按重量份计如下：氧化铝粉180份，蒙脱石18份，硅酸铝25份，白炭黑3份，高岭土4.5份。
2）将步骤1）制得的混合微粉放入成球机中加水滚制成球状生坯，再将球状生坯置于烧结窑中，以每小时120℃的升温速率升温至1800℃，保温5小时实现相变转化，冷却后水洗至ph值为6-8制得球状熟坯；
3）将步骤2）制得的球状熟坯加入粒状合成树脂中搅拌10-30分钟实现球状熟坯的表面处理，所述合成树脂为粒度小于所述球状熟坯的聚乙烯粒料，筛除合成树脂后，于100-120℃温度下烘干，即得氧化铝多孔支撑剂。
实施例三
一种氧化铝多孔支撑剂的制备方法，包括以下步骤：
1）将氧化铝粉与蒙脱石、硅酸铝、白炭黑、高岭土混合球磨至平均粒径为120-280微米的混合微粉；混合微粉的组成按重量份计如下：氧化铝粉100份，蒙脱石18份，硅酸铝25份，白炭黑2份，高岭土1.5份。
2）将步骤1）制得的混合微粉放入成球机中加水滚制成球状生坯，再将球状生坯置于烧结窑中，以每小时130℃的升温速率升温至1600℃，保温5-10小时实现相变转化，冷却后水洗至ph值为6-8制得球状熟坯；
3）将步骤2）制得的球状熟坯加入粒状合成树脂中搅拌10-30分钟实现球状熟坯的表面处理，所述合成树脂为粒度小于所述球状熟坯的聚乙烯粒料，筛除合成树脂后，于100-120℃温度下烘干，即得氧化铝多孔支撑剂。
以上仅是本发明的特征实施范例，对本发明保护范围不构成任何限制。凡采用同等交换或者等效替换而形成的技术方案，均落在本发明权利保护范围之内。