专利名称：液晶取向处理剂、液晶取向膜以及使用其的液晶显示元件的制作方法
技术领域：
本发明涉及液晶显示元件所用的液晶取向处理剂、液晶取向膜和液晶显示元件。
背景技术：
液晶显示元件中，液晶取向膜承担着使液晶在一定的方向上取向的作用。现在，工业上使用的主要的液晶取向膜通过将聚酰亚胺前体即聚酰胺酸(polyamic acid)、由聚酰亚胺的溶液构成的聚酰亚胺类的液晶取向处理剂涂布在基板上成膜而制得。此外，使液晶相对于基板面平行取向或倾斜取向时，成膜后，进一步采用摩擦进行表面延伸处理。此外， 也有提出偏光紫外线照射等利用各向异性光化学反应的方法作为摩擦处理的替代，近年来进行了面向工业化的研究。液晶取向膜也用于对液晶相对于基板的角度即液晶的预倾角进行控制，液晶显示元件高性能化，其使用范围逐年扩大，其中，并不仅仅单是获得规定的预倾角，预倾角的稳定性也变得越来越重要。从预倾角的稳定性这一点，作为在液晶取向膜的制造工序中不依赖于摩擦条件而获得规定的预倾角的目的，提出使聚酰亚胺类的液晶取向处理剂中含有在分子内具有两个以上环氧基的化合物(例如，参照专利文献I)。此外，液晶显示装置的制造工序中，为了提高液晶的取向均匀性，有时在封入液晶后进行加热处理使液晶暂时各向同性。但是，当预倾角的稳定性低时，在该各向同性处理后，出现不能获得目标大小的预倾角或者预倾角出现参差不齐的问题。尤其，为了得到高亮度而使用发热量大的背光灯的液晶显示元件和车载用的液晶显示元件，例如车载导航系统或指示屏，有时在高温环境下长时间使用或放置。在这样的严酷条件下，预倾角慢慢变化时，引起无法获得初期显示特性或在显示中产生参差不齐等问题。近年来，大画面且高精细的液晶电视被广泛实用化，与显示文字或静止画面的监控用途的液晶显示元件相比，这样的液晶显示元件主要要求能够耐受在严酷的使用环境下长期使用的特性。因此，要求液晶取向膜具有更高的可靠性。尤其是电特性之一的电压保持率下降时，容易发生出现拖尾线这样的液晶显示元件显示不良，得不到可靠性高的液晶显示元件。因此，希望不仅是初期特性良好，而且例如即使长时间暴露于高温下后电压保持率仍然不易下降。现有技术文献专利文献专利文献I :日本专利特开平7-234410号公报
发明内容
发明所要解决的技术问题本发明是鉴于上述情况而完成的发明，课题是提供一种液晶取向膜、具有该液晶取向膜的液晶显示元件以及用于形成该液晶取向膜的液晶取向处理剂，所述液晶取向膜即使长时间处于高温环境下，预倾角的稳定性也优异，且电压保持率的降低也得以抑制。解决技术问题所采用的技术方案发明人深入研究，结果发现，含有使用特定二胺化合物作为二胺成分的聚酰胺酸和/或将该聚酰胺酸酰亚胺化而得到的聚酰亚胺的液晶取向处理剂对于达到上述目的是非常有效的，从而完成了本发明。上述特定的二胺化合物包括文献中未曾记载的新化合物。S卩，本发明具有以下的要点。(I) 一种液晶取向处理剂，包含选自使含有式[I]所示的二胺化合物的二胺成分和四羧酸二酐反应而得到的聚酰胺酸、以及使该聚酰胺酸脱水闭环而得到的聚酰亚胺中的至少一种聚合物。
化I
权利要求
1.一种液晶取向处理剂，包含选自使含有式[I]所示的二胺化合物的二胺成分和四羧酸二酐反应而得到的聚酰胺酸、以及使该聚酰胺酸脱水闭环而得到的聚酰亚胺中的至少一种聚合物， 化I
2.如权利要求I所述的液晶取向处理剂，式[I]的X2是单键或碳数I 5的亚烷基。
3.如权利要求I或2所述的液晶取向处理剂，式[I]的X4是碳数I 5的烷基。
4.如权利要求I 3中任一项所述的液晶取向处理剂，式[I]的X1是 _0-、-CONH-或-COO-，X3 是单键或 _0-，η 是 I。
5.如权利要求I 4中任一项所述的液晶取向处理剂，二胺成分中的5 80摩尔％是式[I]所示的二胺化合物。
6.—种液晶取向膜,通过使用权利要求I 5中任一项所述的液晶取向处理剂而得。
7.一种液晶显示元件，具有权利要求6所述的液晶取向膜。
8.下式[I]所示的二胺化合物， 化2
9.将含有权利要求8所述的式[I]所示的二胺化合物的二胺成分与四羧酸二酐反应而得到的聚酰胺酸、或者将该聚酰胺酸脱水闭环而得到的聚酰亚胺。
全文摘要
液晶取向处理剂，包含选自使含有式[1]所示的二胺化合物的二胺成分和四羧酸二酐反应而得到的聚酰胺酸、以及使该聚酰胺酸脱水闭环而得到的聚酰亚胺中的至少一种聚合物。化1(式[1]中，X1为-O-、-NH-、-N(CH3)-、-CONH-、-NHCO-、-CH2O-、-COO-、-OCO-、-CON(CH3)-或-N(CH3)CO-,X2为单键、碳数1～20的脂肪族烃基、非芳香族环式烃基或芳族烃基,X3为单键、-O-、-NH-、-N(CH3)-、-CONH-、-NHCO-、-COO-、-OCO-、-CON(CH3)-、-N(CH3)CO-或-O(CH2)m-,其中m为1～5的整数，X4表示碳数1～20的有机基团，n为1～4的整数。)
文档编号C07D305/06GK102667594SQ20108005918
公开日2012年9月12日 申请日期2010年12月20日 优先权日2009年12月25日
发明者保坂和义, 北浩, 园山幸司, 片山雅章 申请人:日产化学工业株式会社