专利名称：新型化合物以及含有该化合物的放射线敏感性组合物的制作方法
技术领域：
本发明涉及作为光聚合引发剂而有用的新型化合物以及含有该新型化合物的放射线敏感性组合物。
背景技术：
放射线敏感性组合物由于可以通过涂布工艺大量且容易地形成固化物，该固化物的微细加工也容易等优点，所以除了作为液晶装置、半导体装置制作用材料等以外，还广泛用于光固化性油墨、感光性印刷版等中。这种放射线敏感性组合物代表性包含具有乙烯基不饱和键的聚合性化合物以及光聚合引发剂。在上述固化物形成工艺中，可以通过将该放射线敏感性组合物涂布到玻璃基板等上形成覆膜，接着通过具有水银灯的曝光装置对该覆膜曝光，可以形成作为固化物的固化膜。水银灯是在紫外 可见光波长区域具有水银特有的亮线光谱的灯，在254nm、 365nm、405nm等具有强度大的水银灯特有的亮线。其中，开发出了有效利用365nm、405nm的亮线的高放射线灵敏度的光聚合引发剂(例如，参照专利文献1)。上述这种高放射线灵敏度的光聚合引发剂大多是在可见光区域具有极大吸收的化合物，大多情况下略微带有红色。而且，如果使用略微带有红色的光聚合引发剂，固化膜也同样略微呈现红色，透明性降低，所以可能无法适用于适合液晶装置等使用的在可见光区域必须有高的透过性的固化膜。另一方面，目前使用的乙酰苯类引发剂(例如，参照专利文献2)由于在300nm附近具有极大吸收，所以光聚合引发剂自身也大致是白色的，使用乙酰苯类引发剂的固化膜在可见光区域显示高的透明性。但是，这种乙酰苯类引发剂的放射线灵敏度低，为了得到具有足够表面硬度的膜，必须要高的曝光量。此外，由于乙酰苯类引发剂具有升华性，所以近年来发现由于升华导致烘焙炉或曝光时的光掩模的污染等问题(例如，参照专利文献3)。相对于此，开发出了一种特定的肟酯化合物，该化合物是低挥发性且高放射线灵敏度，可以作为即使含有大量着色颜料也可以形成固化膜的光引发剂，且具有至少两个肟酯基(例如，参照专利文献4)。然而，该肟酯化合物由于是用于形成着色的抗蚀膜的光引发剂，所以没有考虑使用该光引发剂的固化膜的透明性。另外，认为上述肟酯化合物对放射线敏感性组合物的溶解性还不足，具有改良的余地。根据上述问题，希望开发出一种升华性低，作为光聚合引发剂使用时，显示出高的放射线灵敏度，作为放射线敏感性组合物的光聚合引发剂使用时，可以得到具有高的透明性和表面硬度的固化膜，而且对放射线敏感性组合物的溶解性高的化合物。现有技术文献专利文献专利文献1日本特开2001-233842号公报专利文献2日本特开昭58-157805号公报专利文献3日本特开2007-86565号公报
专利文献4日本特表2009-519904号公报
发明内容
本发明是基于上述问题提出的发明，其主要目的在于提供一种升华性低，作为光聚合引发剂使用时，具有高的放射线灵敏度，同时对放射线敏感性组合物的溶解性高的化合物。此外，本发明的其它目的是提供可以得到具有高的透明性和表面硬度的固化膜的放射线敏感性组合物。为了解决上述问题而提出的本发明是下述式(1)所示的化合物。
权利要求
1. 一种下述式(1)所示的化合物，
2.根据权利要求1所记载的化合物，其中上述R\R2、R3和R4各自独立地是碳原子数为 1 8的烷基，上述R5是S02R6、P0 (R8) 2或者Si (R9) 3所示的基团，上述R6是氢原子的一部分或全部被乙酰氧基取代的碳原子数为2 6的烷基，上述R8是苯基，上述R9是碳原子数为 1 6的烷基。
3.一种放射线敏感性组合物，其包括[A]作为光聚合引发剂的权利要求1或2所记载的化合物，以及[B]具有乙烯基不饱和双键的聚合性化合物。
4.根据权利要求3所记载的放射线敏感性组合物，其进一步含有[C]碱可溶性树脂。
5.由权利要求3或权利要求4所记载的放射线敏感性组合物形成的固化膜。
全文摘要
本发明涉及一种新型化合物以及含有该化合物的放射线敏感性组合物。本发明的目的在于提供一种新化合物，该化合物的升华性低，作为光聚合引发剂使用时，具有高的放射线灵敏度，而且溶解性优异；以及提供可以形成具有高的表面硬度和透明性的固化膜的放射线敏感性组合物。本发明的第一方案是下述式(1)所示的化合物。本发明的第二方案是一种放射线敏感性组合物，该放射线敏感性组合物包含[A]作为光聚合引发剂的上述化合物，以及[B]具有乙烯基不饱和双键的聚合性化合物。上述放射线敏感性组合物优选进一步含有[C]碱可溶性树脂。
文档编号C07D209/86GK102161638SQ20111003038
公开日2011年8月24日 申请日期2011年1月19日 优先权日2010年2月5日
发明者一户大吾, 岩泽晴生 申请人:Jsr株式会社