阴离子固化性化合物用固化剂、固化性组合物、固化物和新型咪唑系化合物及其应用的制作方法
【专利摘要】本发明涉及包含咪唑骨架的1位用在50℃以上的温度条件下可脱离的保护基团A保护的咪唑系化合物的阴离子固化性化合物用固化剂、包含该固化剂和阴离子固化性化合物的固化性组合物和使该组合物固化而成的固化物、进而该新型咪唑系化合物及其应用。根据本发明，可以提供作为一液型固化剂使用时也具有优异的保存稳定性和良好的固化性、进而操作简便的新型咪唑系固化剂。作为上述咪唑系化合物，可以举出下述通式(1)所示的咪唑系化合物。A为在50℃以上的温度条件下可脱离的保护基团。R1～R3分别独立地为氢原子、碳数1～15的烷基、或苯基。
【专利说明】阴离子固化性化合物用固化剂、固化性组合物、固化物和新 型咪唑系化合物及其应用
【技术领域】
[0001] 本发明涉及用于使环氧化合物、环硫化合物等阴离子固化性化合物固化的阴离 子固化性化合物用固化剂、包含该固化剂和阴离子固化性化合物的固化性组合物、使该组 合物固化而成的固化物、以及作为该阴离子固化性化合物用固化剂有用的新型咪唑系化合 物。另外，本发明还涉及前述新型咪唑系化合物作为阴离子固化性化合物用固化剂的应用。
【背景技术】
[0002] 作为用于使环氧化合物、环硫化合物等阴离子固化性化合物固化的固化剂，正在 利用包含咪唑系化合物的阴离子固化性化合物用固化剂（以下也称作咪唑系固化剂）。然 而，液态的咪唑系固化剂以一液型固化剂的形式使用时，有保存稳定性明显较低的问题。
[0003] 作为咪唑系固化剂的保存稳定性的改良对策，已知有利用环氧-咪唑加成型的固 化剂（例如参见专利文献1)。然而，该固化剂有"需要复杂的混合操作"、"分散稳定性方面 存在问题"、"固化剂无法到达基材的细部而引起固化不良"的问题。
[0004] 另一方面，作为兼顾固化性和保存稳定性的阴离子发生型固化剂，已知有利用水 分产生作为固化活性物种的伯胺的酮亚胺型的潜在性固化剂（例如参见专利文献2)。但 是，使该固化剂具有潜在性的机制仅能产生伯胺，而该机制无法应用于不具有伯胺的咪唑 系固化剂。另外，该固化剂还有在固化时会产生排气的问题。
[0005] 因此，期望开发出作为一液型固化剂使用时也具有优异的保存稳定性和良好的固 化性的新型的咪唑系固化剂。
[0006] 现有技术文献
[0007] 专利文献
[0008] 专利文献1 :日本国特开2000-1526号公报
[0009] 专利文献2 :日本国特开2002-249544号公报
【发明内容】
[0010] 发明要解决的问题
[0011] 本发明的目的在于，提供作为一液型固化剂使用时也具有优异的保存稳定性和良 好的固化性、进而操作简便的新型咪唑系固化剂、包含该固化剂和阴离子固化性化合物的 固化性组合物、使该组合物固化而成的固化物、进而作为该阴离子固化性化合物用固化剂 有用的新型咪唑系化合物。
[0012] 用于解决问题的方案
[0013] 本发明人等进行了深入研究，结果发现通过用规定的保护基团保护咪唑骨架的1 位，从而可以得到解决上述课题的咪唑系固化剂。
[0014] 即，本发明提供一种阴离子固化性化合物用固化剂，其为用于使阴离子固化性化 合物固化的固化剂，其包含咪唑骨架的1位用在50°c以上的温度条件下可脱离的保护基团 A保护的咪唑系化合物。
[0015] 另外，本发明还提供包含该阴离子固化性化合物用固化剂和阴离子固化性化合物 的固化性组合物、使该固化性组合物固化而成的固化物、进而作为该阴离子固化性化合物 用固化剂有用的新型咪唑系化合物。另外，本发明还提供前述新型咪唑系化合物作为阴离 子固化性化合物用固化剂的应用。
[0016] 本发明中的咪唑系化合物以保护基团A与咪唑骨架的1位的氮原子的C-N键被热 切断而产生固化剂活性物种的方式进行设计。即，本发明中的咪唑系化合物基于如下的技 术构思进行设计：作为利用热而切断C-N键的结构，例如以容易利用热而形成共轭双键的 基团作为保护基团A来与咪唑骨架的1位的氮原子键合。
[0017] 发明的效果
[0018] 本发明的阴离子固化性化合物用固化剂不仅具有良好的固化性，而且与现有咪唑 系固化剂相比，保存稳定性高，因此作为一液型固化剂使用时也可以提高保存稳定性。进 而，本发明的阴离子固化性化合物用固化剂在常态下通常大多为液体，无需溶解操作，均匀 混合性也优异，因此操作简便。
【专利附图】
【附图说明】
[0019] 图1为由合成例8得到的、2-[(2,4-二甲氧基苯基）-(4-苯基咪唑-1-基）-甲 基]丙二酸双（2-异丙基-5-甲基己酯）的IH-NMR谱图。
【具体实施方式】
[0020] 以下，详细地说明本发明，但这些示出优选的实施方式的一个例子。需要说明的 是，本发明中，阴离子固化性化合物用固化剂是指，概念上不仅包括作为固化剂发挥作用的 物质，还包括作为固化促进剂（固化助剂）发挥作用的物质。
[0021] 本发明的阴离子固化性化合物用固化剂为用于使阴离子固化性化合物固化的固 化剂，其包含咪唑骨架的1位用在50°c以上的温度条件下可脱离的保护基团A保护的咪唑 系化合物。
[0022] 本发明中，保护基团A为在常压条件下、在低于50°C的温度下不脱离而在50°C以 上的温度下发生脱离的保护基团，通过保护基团脱离，从而固化反应会进行。
[0023] 保护基团A为在50°C以上、优选55°C以上、特别优选60°C以上的温度条件下可脱 离的保护基团。另外，从固化时的温度条件的观点出发，保护基团A优选在300°C以下、特别 优选在295°C以下的温度条件下可脱离。
[0024] 需要说明的是，保护基团A的脱离温度可以通过DSC(差示扫描量热测定）来测 定，保护基团A是否从咪唑骨架的1位脱离可以通过NMR(核磁共振）、GC(气相色谱）分析 等来确认。
[0025] 保护基团A脱离后的咪唑系化合物单独时大多为晶体，本发明中，保护基团A脱离 后，变成咪唑系化合物和源自脱离的保护基团A的化合物的混合状态，咪唑系化合物变成 溶解于源自脱离的保护基团A的化合物的状态。因此，本发明中，通常可以以液体的形式处 理。
[0026] 作为上述咪唑系化合物，例如可以举出下述通式（1)所示的咪唑系化合物。
[0027]
【权利要求】
1. 一种阴离子固化性化合物用固化剂，其包含咪唑骨架的1位用在50°C以上的温度条 件下可脱离的保护基团A保护的咪唑系化合物。
2. 根据权利要求1所述的阴离子固化性化合物用固化剂，其中，所述咪唑系化合物为 下述通式（1)所示的咪唑系化合物，
A为在50°C以上的温度条件下可脱离的保护基团，R1?R3分别独立地为氢原子、碳数 1?15的烷基、或苯基。
3. 根据权利要求1或2所述的阴离子固化性化合物用固化剂，其中，所述可脱离的保护 基团A为下述通式（2)所示的保护基团A1，
R4?R6分别独立地为氢原子或吸电子基团，R4?R6中的至少两者为吸电子基团，其中， R4可以为碳数6?18的芳香环残基或碳数1?15的烷基，该情况下，R5和R6分别为吸电 子基团。
4. 根据权利要求1或2所述的阴离子固化性化合物用固化剂，其中，所述可脱离的保护 基团A为下述通式（3)所示的保护基团A2，
R7为碳数1?15的烷基或碳数6?18的芳香环残基，R8和R9分别为吸电子基团。
5. 根据权利要求1或2所述的阴离子固化性化合物用固化剂，其中，所述可脱离的保护 基团A为下述通式（4)所示的保护基团A3，
Rltl和R11分别独立地为碳数1?15的烷基。
6. 根据权利要求1?5中的任一项所述的阴离子固化性化合物用固化剂，其中，阴离子 固化性化合物为环氧化合物或环硫化合物。
7. -种固化性组合物，其包含权利要求1?6中的任一项所述的阴离子固化性化合物 用固化剂和阴离子固化性化合物。
8. -种固化物，其是使权利要求7所述的固化性组合物固化而成的。
9. 权利要求1或2所述的咪唑系化合物作为阴离子固化性化合物用固化剂的应用。
10. -种咪唑系化合物，其由下述通式（5)表示，
R12和R13分别独立地为碳数1?15的烷基，R14?R16分别独立地为氢原子、碳数1? 15的烧基、或苯基，Ar为碳数6?18的芳香环残基。
11. 权利要求10所述的咪唑系化合物作为阴离子固化性化合物用固化剂的应用。
【文档编号】C08G59/40GK104334601SQ201380024502
【公开日】2015年2月4日 申请日期:2013年5月7日 优先权日:2012年5月10日
【发明者】工藤健二, 有光晃二 申请人:日本合成化学工业株式会社