）的一类材料的材料形成。例如，可W 使用有机娃、氣代有机娃和/或VIT0N。该可重复成像的表面可W由安装层上的相对薄的层 形成，选择相对薄的层的厚度W平衡印刷或标识性能、耐久性和可制造性。
[0027] 该可重复成像的表面可W由复合材料形成，所述复合材料含有补强、或者热或电 传导性粒子，或含有改变表面的表面能的粒子。该复合可重复成像的层可W调节至能满足 成像、部分除水、墨水润湿性或其它印刷要求。可W包含到可重复成像的复合材料表面中的 粒子包括金属氧化物、炭黑、石墨、石墨締、碳纳米管和金属氧化物纳米管。
[002引该成像构件110用于在转印漉隙112处将墨水图像施加到图像接收介质基底114。 转印漉隙112由作为图像转印机构160的一部分的加压漉118形成，所述加压漉118在成像 构件110的方向上施加压力。图像接收介质基底114不应被认为限制于任何特定的组成， 例如纸、塑料或复合片材膜。示例性系统100可用于在多种图像接收介质基底上产生图像。 714申请还说明了可W使用的多种标识（印刷）材料，包括颜料密度大于10重量％的标识 材料。如714申请所做的那样，本公开将使用术语墨水来称呼多种印刷或标识材料，W包括 通常被理解为是墨水、颜料和可W通过示例性系统100施加W在图像接收介质基底114上 产生输出图像的其它材料的那些材料。
[0029] 该714申请描述和说明了成像构件110的细节，包括该成像构件110由在结构安 装层上形成的可重复成像的表面层组成，该结构安装层可W是例如圆柱形巧，或在圆柱形 巧上的一个或多个结构层。
[0030] 该示例性系统100包括通常包含一系列漉的润版液系统120,其可W视为润版漉 或润版单元，用于用润版液均匀地润湿成像构件110的可重复成像的表面。润版液系统120 的目的是向该成像构件110的可重复成像的表面输送润版液的层，该层通常具有均匀和受 控的厚度。如上所述，已知润版液如润版药水可W主要包含水，并如下文更详细地描述的 那样任选加入少量的异丙醇或己醇W减少表面张力W及降低支持随后的激光制图所需的 蒸发能。还可W向该润版药水中加入少量的某些表面活性剂。或者，可W使用其它合适的 润版液W提高墨水基数字光刻系统的性能。示例性的润版液包括水、Novw7600 (1，1，1，2， 3,3-六氣-4-(1，1，2,3,3,3-六氣丙氧基、）戊烧并具有〔45#870778-34-0)和04(八甲基 环四硅氧烷）。其它合适的润版液公开在例如2011年10月28日提交的题为"DAMPENING FLUIDFORDIGITALLITHOGRAPHICPRINTING"的共同未决的美国专利申请 13/284, 114 中。
[0031] 一旦该润版液计量添加到成像构件110的可重复成像的表面上，可W使用传感器 125测量润版液厚度，该传感器125可W提供反馈W通过润版液系统120控制润版液向该成 像构件110的可重复成像的表面上的计量添加。
[0032] 在通过润版液系统120在该成像构件110的可重复成像的表面上提供精确和均匀 量的润版液后，可W使用光学图案化子系统130,通过使用例如激光能量的依图像图案化该 润版液层，从而在均匀的润版液层中选择性形成潜像。通常，该润版液将不会有效地吸收光 能（IR或可见）。该成像构件110的可重复成像的表面应理想地吸收由靠近该表面的光学 图案化子系统130所发射的大部分激光能量（可见或不可见，如IR)W尽量减少加热润版 液时浪费的能量，并尽量减少热的横向发散，W便保持高空间分辨能力。或者，可W向润版 液中添加适当的福射敏感组分W辅助吸收入射的福射激光能量。虽然在上文中光学图案化 子系统130被描述为激光发射器，但是，要理解的是，多种不同的系统可用于输送光学能量 W图案化该润版液。
[0033] 在714申请中参照图5详细描述了该示例性系统110的光学图案化子系统130进 行的图案化过程中的工作机理。简而言之，施加来自光学图案化子系统130的光学图案化 能量使得选择性去除了部分润版液层。
[0034] 在通过光学图案化子系统130图案化该润版液层后，将成像构件110的可重复成 像的表面上的图案化层提供到墨椿子系统140。该墨椿子系统140用于在润版液层和成像 构件110的可重复成像的表面层上施加均匀的墨水层。该墨椿子系统140可W使用网纹 漉W将胶版印刷墨水计量施加到一个或多个墨水形成漉上，所述墨水形成漉与该成像构件 110的可重复成像的表面层接触。单独地，该墨椿子系统140可W包括其它传统元件，如一 系列计量漉W向可重复成像的表面提供精确的墨水进料速率。该墨椿子系统140可W将墨 水沉积到表现可重复成像的表面的成像部分的袋，而在润版液的未格式化部分上的墨水将 不会粘接到该些部分上。
[0035] 驻留在成像构件110的可重复成像的层中的墨水的粘着性和粘度可W通过多种 机制来改变。一种此类机制可W设及使用流变性（复合粘弹性模量）控制子系统150。该 流变性控制系统150可W在可重复成像的表面上形成墨水的部分交联巧，W例如提高墨水 相对于可重复成像的表面层的粘合强度。固化机制可W包括光学或光固化、热固化、干燥或 各种形式的化学固化。冷却也可用于经由多种物理冷却机制W及经由化学冷却来改变流变 性。
[0036] 该墨水随后从成像构件110的可重复成像的表面使用转印子系统160转印到图像 接收介质114的基底上。当基底114通过成像构件110与加压漉118之间的漉隙，使得成 像构件110的可重复成像的表面的孔隙内的墨水与基底114物理接触时，发生转印。由于 墨水的粘附性已经通过流变性控制系统150改变，改变的墨水粘附性导致墨水粘附到基底 114上并与成像构件110的可重复成像的表面分离。小屯、控制转印漉隙112处的温度与压力 条件可W使得墨水从成像构件110的可重复成像的表面向基底114的转印效率超过95%。 虽然可能一些润版液还会润湿基底114,此类润版液的体积将是最小的，并将快速蒸发或被 基底114吸收。
[0037] 在某些胶印光刻系统中，应当认识到，胶印漉（图1中未显示）可W首先接收墨水 图像图案并随后根据已知的间接转印法将该墨水图像图案转印到基底。在将大部分墨水转 印到基底114后，必须从成像构件110的可重复成像的表面上除去任何剩余墨水和/或剩 余润版液，优选不刮擦或磨碎该表面。可W使用气刀除去剩余润版液。但是，预期会残留一 定量的墨水残余物。去除此类残留的墨水残余物可W通过使用一定形式的清洁子系统170 来实现。714申请描述了此类清洁子系统170的细节，该清洁子系统170包括至少第一清洁 构件，如与成像构件110的可重复成像的表面物理接触的粘性或黏性构件，该粘性或黏性 构件除去剩余墨水和来自成像构件110的可重复成像的表面的润版液的任何残留的少量 表面活性剂化合物。该粘性或黏性构件随后可W与光滑漉接触，剩余墨水可W从该粘性或 黏性构件转印到该光滑漉上，墨水随后通过例如刮墨刀从该光滑漉上剥离。
[003引 714申请详细描述了其它机制，通过该些机制可W促进成像构件110的可重复成 像的表面的清洁。但是，无论清洁机制如何，从成像构件110的可重复成像的表面上清洁剩 余墨水与润版液对于在提出的系统中防止重像是必不可少的。一旦清洁，将成像构件110 的可重复成像的表面再次提供至润版液系统120,由此将新鲜的润版液层供给到成像构件 110的可重复成像的表面，并重复该过程。
[0039] 虽然图1显示了示例性印刷系统，实施方案的墨水可W通过该系统使用，其它印 刷方法和系统也可获益于使用根据实施方案的墨水。根据实施方案的墨水可用于相关技 术的印刷，无论是上文已经公开的墨水基数字印刷还是目前已知或今后开发的喷墨打印， 包括间接或胶版印刷。例如，根据实施方案的墨水可用于使用喷墨打印系统与方法的印刷 (如图2中显示的系统），所述系统与方法使用中间转印表面。
[0040] 特别地，图2显示了转印定影水性墨水印刷系统，采用该系统，可W有利地实施实 施方案的墨水与方法。图2显示了中央成像滚筒201。布置打印头205(其可W是适于喷射 水性墨水的喷墨打印头）W便将墨水直接喷到中间基底或成像构件205的表面上。
[0041] 该水性墨水可W喷射到通过润版液计量添加系统209施加的润版液层中。在将墨 水直接喷射到