子，可W举出即2。4〇)0、啡2。4〇)0、N03、啡2。+苗〇3、（C"F2wiS〇2)2N、 (CnF2n"S〇2)3C、RC6H4SO3、PO43、AICI4、AI2CI7、Cl〇4、BF4、PFe、AsFe、SbFe、SCN等。运些 离子性化合物既可W单独使用，也可W混合两种W上使用。为了离子性物质的稳定化，也可 W添加含有聚氧化亚烷基结构的化合物。
[0065] 其中，作为阳离子，优选具有碱金属阳离子的离子性化合物（碱金属盐）。作为 碱金属盐，可W举出：裡、钢、钟的金属盐，具体而言，例如，优选使用通过由Li\^\r等的 阳离子与C1、化、I、BF4、PFe、SCN、Cl〇4、CF3SO3、（FS02)2N、（CF3S02)2N、（C2FsS〇2)2N、 (CF3S02)3C等的阴离子所组成的金属盐。其中，特别优选使用LiBr、Lil、LiBF4、LiPFe、 LiSCN、LiCl〇4、LiCFsSOs、Li(FS02)2N、Li(CF3SO2)2N、Li(C2F5SO2)2N、Li(CF3SO2)3C等裡盐。运 些碱金属盐既可W单独使用，也可W混合两种W上使用。为了离子性物质的稳定化，也可W 添加含有聚氧化亚烷基结构的化合物。
[0066] 抗静电剂相对于剥离剂的添加量，是根据抗静电剂的种类、与剥离剂的亲和性程 度的不同而不同，只要考虑到从被粘附体上剥离表面保护膜时所需的剥离静电压、对被粘 附体的污染性、粘结特性等而进行设定即可。
[0067] 对于剥离剂和抗静电剂的混合方法而言，并没有特别的限定。可W采用下列混合 方法中的任一种方法：在剥离剂中添加抗静电剂进行混合后，添加剥离剂固化用催化剂并 加W混合的方法；预先采用有机溶剂稀释剥离剂后，添加抗静电剂W及剥离剂固化用催化 剂并加W混合的方法；预先采用有机溶剂稀释剥离剂后，添加催化剂而进行混合，然后添加 抗静电剂并加W混合的方法等。另外，根据需要，也可W添加硅烷偶联剂等粘合促进剂、含 有聚氧化亚烷基的化合物等的辅助抗静电效果的材料。
[0068] 对于剥离剂和抗静电剂的混合比率而言，并没有特别的限定，但相对于剥离剂的 固体成分100,优选抗静电剂W固体成分计为5~100左右的比例。相对于剥离剂的固体成 分100,若抗静电剂的W固体成分换算的添加量小于5的比例，则抗静电剂对粘结剂层表面 的转移量也变少，难W使粘结剂层发挥抗静电的功能。另外，相对于剥离剂的固体成分100， 若抗静电剂的W固体成分换算的添加量超过100的比例，则会导致剥离剂也与抗静电剂一 起被转移至粘结剂层表面，因此，可能会降低粘结剂层的粘结特性。 W例本发明中，在表面保护膜10的基材膜1上形成粘结剂层2的方法W及贴合剥离膜 5的方法，均可采用公知的方法来进行，没有特别的限定。具体而言，可W举出：（1)将用于 形成粘结剂层2的树脂组合物涂布于基材膜1的单面上并进行干燥，形成粘结剂层后贴合 剥离膜5的方法；（2)将用于形成粘结剂层2的树脂组合物涂布于剥离膜5表面上并进行 干燥，形成粘结剂层后，贴合基材膜1的方法等。可W采用其中的任一种方法。
[0070] 另外，当将粘结剂层2形成于基材膜1表面时，可采用公知的方法来进行。具体而 言，能够使用逆转涂布、逗号刮刀涂布、凹版涂布、狭缝式挤压涂布、麦勒棒（Mayerbar)涂 布、气刀涂布等公知的涂布方法。
[0071] 另外，同样地，当将剥离剂层4形成于树脂膜3时，可W采用公知的方法来进行。具 体而言，能够采用凹版涂布、麦勒棒涂布、气刀涂布等公知的涂布方法。
[0072]对具有上述构成的本发明的表面保护膜10而言，从作为被粘附体的光学用膜上 剥离时的表面电位优选为+0. 7kv~一0. 7kV。并且，更优选表面电位为+0. 5kV~一0. 5kV， 特别优选表面电位为+0. 3kV~一0. 3kV。该表面电位能够通过改变剥离剂层中所含的抗静 电剂的种类、添加量等来进行调整。
[0073]图2是表示从本发明的表面保护膜上剥下剥离膜后的状态的剖面图。
[0074]通过将剥离膜5从如图1所示的表面保护膜10上剥下，剥离膜5的剥离剂层4所 含的抗静电剂（附图标记7)的一部分，被转移（附着）至表面保护膜10的粘结剂层2的 表面。因此，在图2中，W附图标记7的斑点示意性地示出了附着在表面保护膜的粘结剂层 2的表面的抗静电剂。通过抗静电剂7的成分从剥离膜5转移至粘结剂层2的表面，与转 移前的粘结剂层2相比，减少从被粘附体剥下粘结剂层2时的剥离静电压。此外，从被粘附 体上剥下粘结剂层时的剥离静电压，可采用公知的方法进行测定。例如，将表面保护膜贴合 于偏光板等的被粘附体后，在使用高速剥离试验机灯EST邸产业株式会社灯ESTERSangyo Co.，Ltd.)制造）W每分钟40m的剥离速度剥离表面保护膜的同时，使用表面电位计（株式 会社基恩：t化eyenceColoration)制造）每10ms测定被粘附体表面的表面电位，并将此 时的表面电位绝对值的最大值作为剥离静电压（kV)进行测定。
[0075]对本发明的表面保护膜而言，当将图2所示的剥下了剥离膜的状态的表面保护膜11贴合于被粘附体上时，被转移至该粘结剂层2表面的抗静电剂与被粘附体的表面进行接 触。通过该操作，能够较低地抑制再次从被粘附体上剥下表面保护膜时的剥离静电压。
[0076]图3是表示本发明的光学部件的实施例的剖面图。
[0077]在将剥离膜5从本发明的表面保护膜10上剥下从而粘结剂层2外露的状态下，通 过该粘结剂层2贴合于作为被粘附体的光学部件8上。
[0078] 目P，在图3中示出了贴合有本发明表面保护膜10的光学部件20。作为光学部件， 可W举出偏光板、相位差板、透镜膜、兼用作相位差板的偏光板、兼用作透镜膜的偏光板等 光学用膜。运种光学部件被用作液晶显示面板等的液晶显示装置、各种计量仪器类光学系 统装置等的构成部件。另外，作为光学部件，还可W举出防反射膜、硬涂膜、触摸面板用透明 导电膜等光学用膜。
[0079] 基于本发明的光学部件，当将表面保护膜10从作为被粘附体的光学部件（光学用 膜）上剥离去除时，能够充分地将剥离静电压抑制在低水平。因此，不用担屯、会破坏驱动 1C、TFT元件、栅极线驱动电路等的电路部件，能够提高制造液晶显示面板等工序中的生产 效率，确保生产工序的可靠性。 阳〇8〇] 实施例
[0081] 下面，通过实施例进一步说明本发明。
[0082] (表面保护膜的制造） 阳〇8引（实施例1)
[0084] 将5重量份的加成反应型聚硅氧烷类剥离剂（产品名称为SRX-211，剥离剂不挥发 物质的含量为30重量％，陶氏康宁东丽株式会社制造）、5重量份的双（氣横酷）亚胺裡的 20重量％醋酸乙醋溶液、90重量份的甲苯与醋酸乙醋为1:1的混合溶剂、W及0. 05重量份 的销催化剂（产品名称为SRX-212化talyst，陶氏康宁东丽株式会社制造）混合在一起并进 行揽拌混合，配制了用于形成实施例1的剥离剂层的涂料。采用麦勒棒，将用于形成实施例 1的剥离剂层的涂料，W使干燥后的厚度成为0.2μπι的方式，涂布在厚度为38μπι的聚对 苯二甲酸乙二醇醋膜的表面，并在120°C的热风循环式烘炉中干燥1分钟，获得了实施例1 的剥离膜。另一方面，添加100重量份的聚氨醋类粘结剂（产品名称为"ARAC0ATFT200"， 粘结剂不挥发物质的含量为40重量％，荒川化学工业株式会社制造）、5. 7重量份的固化剂 (产品名称为"ARAC0ATCL2503"，固化剂不挥发物质的含量为40重量％，荒川化学工业株 式会社制造）并进行混合而获得涂抹液，将该涂抹液W使干燥后的厚度成为20μm的方式， 涂布在厚度为38μm的聚对苯二甲酸乙二醇醋膜的表面之后，在100°C的热风循环式烘炉 中干燥2分钟，形成了粘结剂层。然后，在该粘结剂层的表面，贴合了上述制造的实施例1 的剥离膜的剥离剂层（聚硅氧烷处理面）。将所得到的粘结膜在40°C的环境下保溫5天， W使粘结剂固化，获得了实施例1的抗静电表面保护膜。
[0085] (实施例2)
[0086] 除了将抗静电剂改变为双（Ξ氣甲横酷）亚胺裡W外，与实施例1同样地进行操 作，获得了实施例2的保护膜。
[0087] (比较例1)
[0088] 将5重量份的加成反应型聚硅氧烷类剥离剂（产品名称为SRX-211，剥离剂不挥 发物质的含量为30重量％，陶氏康宁东丽株式会社制造）、95重量份的甲苯与醋酸乙醋为 1:1的混合溶剂、W及0. 05重量份的销催化剂（产品名称为SRX-212化talyst，陶氏康宁东 丽株式会社制造）混合在一起并进行揽拌混合，配制了用于形成比较例1的剥离剂层的涂 料。采用麦勒棒，将用于形成比较例1的剥离剂层的涂料，W使干燥后的厚度成为0.2μπι 的方式，涂布在厚度为38μm的聚对苯二甲酸乙二醇醋膜的表面，并在120°C的热风循环式 烘炉中干