燥1分钟，获得了比较例1的剥离膜。另一方面，添加100重量份的聚氨醋类粘结 剂（产品名称为"ARAC0ATFT200"，粘结剂不挥发物质的含量为40重量％，荒川化学工业 株式会社制造）、5. 7重量份的固化剂（产品名称为"ARAC0AT化2503"，固化剂不挥发物质 的含量为40重量％，荒川化学工业株式会社制造），并混合了10重量份的双（氣横酷）亚 胺裡的20重量％醋酸乙醋溶液，将混合而成的涂抹液，W使干燥后的厚度成为20μm的方 式，涂布在厚度为38μm的聚对苯二甲酸乙二醇醋膜的表面之后，在100°C的热风循环式烘 炉中干燥2分钟，形成了粘结剂层。然后，在该粘结剂层的表面，贴合了上述所制造的比较 例1的剥离膜的剥离剂层（聚硅氧烷处理面）。将所得到的粘结膜在40°C的环境下保溫5 天，W使粘结剂固化，获得了比较例1的抗静电表面保护膜。
[0089] (比较例。
[0090] 除了在剥离剂层中不添加双（氣横酷）亚胺裡W外，与实施例1同样地进行操作， 获得了比较例2的表面保护膜。
[0091] 下面，示出评价试验的方法和结果。
[0092](剥离剂层和粘结剂层的表面电阻率的测定方法）
[0093]采用Ξ菱化学株式会社制造的化resta( /、^kス《，注册商标）一UP，在外加电 压100V、测定时间30秒的条件下，测定了剥离膜的剥离剂层的表面电阻率和表面保护膜的 粘结剂层的表面电阻率。测定了将单独的剥离膜（剥离膜单体）在40°C环境下保溫5天而 进行老化后的试样的剥离剂层的表面电阻率A;W及，将贴合了粘结剂层和剥离剂层而成 的粘结膜在4(TC环境下保溫5天后，从粘结膜上剥下剥离膜，并分别测定了粘结膜的粘结 剂层的表面电阻率B和剥离膜的剥离剂层的表面电阻率C。
[0094]〈剥离膜的剥离力的测定方法〉 阳0巧]W宽度50mm、长度150mm的尺寸切割表面保护膜的试样。在23°CX50%RH的试 验环境下，使用拉伸试验机W300mm/分钟的剥离速度向180°方向剥掉剥离膜，测定此时 的强度，并将其作为剥离膜的剥离力（N/50mm)。
[0096]〈表面保护膜的粘结力的测定方法〉
[0097]义用贴合机在玻璃板表面贴合了防眩低反射处理过的偏光板（AG-LR偏光板）。然 后，将切割成宽度为25mm的表面保护膜贴合于偏光板的表面后，在23°CX50%RH的试验 环境下保管1天。然后，使用拉伸试验机W300mm/分钟的剥离速度向180°方向剥离掉表 面保护膜，测定此时的强度，并将其作为粘结力（N/25mm)。
[009引〈表面保护膜的剥离静电压的测定方法〉
[0099]采用贴合机在玻璃板表面贴合了防眩低反射处理过的偏光板（AG-LR偏光板）。 然后，将切割成宽度为25mm的表面保护膜贴合于偏光板的表面后，在23°CX50%RH的试 验环境下保管1天。然后，在使用高速剥离试验机（TEST邸产业株式会社（TESTERSangyo Co.，Ltd.)制造）W每分钟40m的剥离速度剥离表面保护膜的同时，使用表面电位计（株式 会社基恩：t化eyenceCorporation)制造）每10ms测定前述偏光板表面的表面电位，并将 此时的表面电位绝对值的最大值作为剥离静电压（kV)。
[0100] 〈表面保护膜的表面污染性的确认方法〉 阳101] 义用贴合机在玻璃板表面贴合了防眩低反射处理过的偏光板（AG-LR偏光板）。 然后，将切割成宽度为25mm的表面保护膜贴合于偏光板的表面后，在23°CX50%RH的试 验环境下保管3天和30天。然后，剥下表面保护膜，通过目测观察了偏光板表面上有无污 染，确认了表面污染性。作为表面污染性的判定基准，当偏光板上无污染的转移时判定为 (0)，当确认偏光板上有污染的转移时判定为（X)。 阳102] 对所得到的实施例1~2和比较例1~2的表面保护膜进行测定，并将测定结果示 于表1中。其中，'卞T200"是指ARAC0AT(六号3 -h)FT200中含有的粘结剂不挥发物质， "化2503"是指ARAC0AT化2503中含有的固化剂不挥发物质/'LiFSI"是指双（氣横酷）亚 胺裡，"LiTFSI"是指双（Ξ氣甲横酷）亚胺裡/'211"是指SRX-211中含有的剥离剂不挥 发物质，"212"是指SRX- 212。
[0103] 另外，分别地，表面电阻率A是指对单独的剥离膜（剥离膜单体）进行老化后的 剥离膜的剥离面的表面电阻率（Ω/□)，表面电阻率B是指表面保护膜的粘结剂面的表面 电阻率（Ω/ □)，表面电阻率C是指从粘结剂面上剥离后的剥离膜的剥离面的表面电阻 率（Ω/口）。表中的OR是"OverRange(超出额定范围）"的简写，是指超出表面电阻仪 化iresta(/、^kスク）一IP)的测定范围，意思是表面电阻率为1Ε+13Ω/ΠΚ上。另外， 表面电阻率是通过JISX0210规定的指数记数法进行了表记。例如，4.犯+8是指4. 9X10 的8次乘方。
[0104]表 1阳1化]
阳106] 表面电阻率：单位是Ω/Π，4.犯+8的表记是指4. 9X10的8次乘方。 阳107] 根据表1所示的测定结果，可知下述情况。
[0108] 本发明的实施例1~2的表面保护膜具有适当的粘结力，并对被粘附体的表面没 有污染，且从被粘附体上剥离表面保护膜时的剥离静电压低。另外，剥离膜的剥离剂层的表 面电阻率在单独的剥离膜时是4. 9Ε+8~6. 4Ε+8Ω/ □，但在贴合于粘结剂面且进行剥离后 的剥离膜的剥离剂层的表面电阻率则超出额定范围（overrange) (1.0Ε+13Ω/nW上）， 与此相比，粘结剂面的表面电阻率降低至7. 8E+9~1. 2Ε+10Ω/ □，由此可知，抗静电剂已 从剥离剂面向粘结剂面移动。
[0109] 另一方面，对于粘结剂层中添加了抗静电剂的比较例1的表面保护膜而言，虽然 从被粘附体上剥离表面保护膜时的剥离静电压低而良好，但剥离后对被粘附体的污染多。 另外，在未使用抗静电剂的比较例2中，虽改善了对被粘附体的污染性，但从被粘附体上剥 离表面保护膜时的剥离静电压高。
[0110] 工业实用性 阳111] 本发明的表面保护膜，例如，能够应用于偏光板、相位差板、透镜膜等的光学用膜 中，此外，在各种光学部件等的生产工序等中，贴合于该光学部件等而用于保护其表面。另 夕F，本发明的表面保护膜，能够减少从被粘附体上剥离时产生的静电量，并且，抗剥离静电 性能无经时变化（不会随着时间推移而发生变化）且对被粘附体的污染少，能够提高生产 工序的成品率，在产业上的利用价值大。
【主权项】
1. 一种表面保护膜，其是在由具有透明性的树脂构成的基材膜的单面上形成有聚氨酯 类粘结剂层，并在该粘结剂层上贴合了具有剥离剂层的剥离膜的表面保护膜，其中， 该剥离膜是在树脂膜的单面上层叠剥离剂层而成，所述剥离剂层包含剥离剂和不与该 剥离剂发生反应的抗静电剂， 所述抗静电剂成分从所述剥离膜向所述粘结剂层的表面转移，减少将所述粘结剂层从 被粘附体剥离时的剥离静电压。2. 如权利要求1所述的表面保护膜，其中，所述抗静电剂是离子性化合物。3. 如权利要求2所述的表面保护膜，其中，所述抗静电剂是以碱金属作为阳离子的离 子性化合物。4. 如权利要求1~3中任一项所述的表面保护膜，其中，所述粘结剂层是使聚氨酯类粘 结剂交联而成。5. 如权利要求1~4中任一项所述的表面保护膜，其中，从作为被粘附体的光学用膜剥 离时的表面电位为+0. 7kV~一 0. 7kV。6. 如权利要求1~5中任一项所述的表面保护膜，其中，从所述粘结剂层剥离时的所述 剥离膜的剥离力为〇· 005~0· 3N/50mm。7. -种光学部件，其贴合有权利要求1~6中任一项所述的表面保护膜。
【专利摘要】本发明提供在切裁时难以出现因粘结剂引起的异物(胶块)且对表面有凹凸的光学用膜的适应性(润湿性)也好，对被粘附体的污染少，对被粘附体的低污染性无经时变化，还具有无经时劣化的优良的抗剥离静电性能的表面保护膜及贴合有该表面保护膜的光学部件。表面保护膜在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成由聚氨酯类粘结剂构成的粘结剂层(2)，在粘结剂层(2)上贴合具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)，其中，剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面层叠有包含剥离剂和不与该剥离剂发生反应的抗静电剂的剥离剂层(4)，抗静电剂成分从剥离膜(5)向粘结剂层(2)的表面转移，减少将粘结剂层(2)从被粘附体剥离时的剥离静电压。
【IPC分类】G02B1/10, C09J7/02
【公开号】CN105331296
【申请号】CN201510397304
【发明人】新见洋人, 小林弘幸, 春日充, 五十岚智美, 木俣绘美子, 林益史
【申请人】藤森工业株式会社
【公开日】2016年2月17日
【申请日】2015年7月8日