源一般的是高压隶灯，常用具有365nm发射波长的隶灯或经过光栅过滤 的365nm光线。 阳044] 具体的碱性显影液是氨水、氨氧化钢溶液、氨氧化钟溶液、碳酸钢溶液或碳酸钟溶 液等，可W将未曝光的膜层溶解清洗掉。
[0045] 采用本发明阻焊油墨得到的阻焊膜，具有如下优点：图案尺寸更精准，显影后图案 边缘更洁净整齐。
【具体实施方式】
[0046] 实施例1
[0047] 1)阻焊油墨配制：
[0048] 用表1所示的量（质量份）配合表1所示的成分，并揽拌，混合使其分散，分别得 到光固化阻焊油墨配方A-E。
[0049] 表 1 「nnf；n1
[0051] 2)阻焊膜成膜过程：
[0052] 将各个光固化阻焊油墨配方丝网印刷至经去氧化处理的覆铜板上，使用热风循环 干燥箱，在75 °C下干燥40min，干燥后，缓慢冷却至室溫，在其上固定描绘有线宽为20 ym 及150 ym线宽图案的光掩膜，用隶灯W 150mJ/cm2的曝光量进行正面曝光，利用Iwt %的 NazCOs水溶液W喷压0. 25MPa、溫度30°C显影90s后，水洗吹干。
[0053] 3)阻焊膜性能评价：
[0054] 边缘整齐度评价：
[0055] 用100倍体式显微镜观察样板图案边缘整齐度。其结果示于表2。判定基准如下：
[0056] ◎边缘整齐、无破损及多余物、清晰；
[0057] O边缘较整齐、边缘有少量银齿；
[0058] A边缘较不整齐、边缘有较多银齿；
[0059] X边缘不整齐或边缘不清晰。
[0060] 图案精准度评价
[00W]用100倍体式显微下测量样板显影图像线宽，并与掩膜图案线宽进行比较。其结 果示于表2。判定基准如下：
[0062] 150 y m图案精准度评价：
[0063] ◎图像尺寸在掩膜尺寸± 10 %之内；
[0064] O图像尺寸在掩膜尺寸±15%之内； 阳0化]A图像尺寸在掩膜尺寸± 20 %之内；
[0066] X图像尺寸 < 掩膜尺寸-20%或图像尺寸〉掩膜尺寸巧0%。20 ym图案精准度 评价：
[0067] ◎图像尺寸在掩膜尺寸± 5 %之内；
[0068] O图像尺寸在掩膜尺寸± 10 %之内；
[0069] A图像尺寸在掩膜尺寸±15%之内；
[0070] X图像尺寸 < 掩膜尺寸-15 %或图像尺寸〉掩膜尺寸+15%。 W川表2
[00721
阳07：3] 结论：使用了 5- (4-异丙基苯硫基）巧满-1，2-二酬-2-目亏-0-乙酸醋的配方A 及5-(正下氧基）巧满-1，2-二酬-2-目亏-0-乙酸醋的配方B，边缘齐整度和图案精准度是 最优的。
[0074] 实施例2
[0075] 更换曝光光源为365nmL邸灯，其他过程与实施例1相同，结果列于表3
[0076] 表 3
[0077]
[007引结论：使用了 5-(4-异丙基苯硫基）巧满-1，2-二酬-2-目亏-0-乙酸醋的配方A 及5-(正下氧基）巧满-1，2-二酬-2-目亏-0-乙酸醋的配方B，在测试中的综合效果较配方 C、D、E更好。
【主权项】
1. 一种光固化阻焊油墨，含有： (A)碱溶性树脂，重量比例是100份； 度）光引发剂，重量比例是10 - 50份； 似分子中具有締键式不饱和基团的化合物，重量比例是40 - 200份； (D)颜料，重量比例是2 - 50份； 其特征在于，光引发剂度）至少含有一种选自式（I )所示的环戊二酬朽醋光引发剂，其中， Ari为取代的邻亚芳基或邻亚杂芳基，该邻亚芳基或邻亚杂芳基W相邻的两个原子与 Yi和幾基相连构成并环结构，除R 取代基外其余原子上的取代基各自独立地为： 氨原子，面素原子，Cl - Ci2烷基，C g - C,环烷基，被C g - C,环烷基取代的C 1 - C4烷基，苯 基，任意被一个或多个。-C4烷基、簇基、Cl - Ci2烷基酷基、芳基甲酯基、杂芳基甲酯基、苯 基、面素原子、CN取代的苯基，Cl - C4烷基节氧基，R iC(0)0取代的。-C4烷氧基，C 1 - C3亚 烷基二氧基，RiC(0)0, Cl -烷基硫基，C 1 - C4烷基苯硫基，RiC(0)0取代的。-C4烷基硫 基，CN，簇基，Cl - Ci2烷氧基甲酯基，芳基甲酯基，杂芳基甲酯基，XR 18; 或Ari的上述取代基中相邻的两个取代基之间或者取代基与Ar 1之间通过直键、碳原 子、幾基相连构成环状结构； X 为 0, S 或 NRig; Yi为 0, S, NR2。，BR2。，CR15R16，SiRisRie; Ri为氨原子，C 1 - Cis烷基或C 1 - Cis烷氧基，任意被一个或多个面素原子、C 1 - C4烷基、 Cg - C,环烷基、杂环烷基、苯基、杂芳基、CN、C 1 - C4烧酷氧基、芳酷氧基取代和/或被C g - C, 环亚烷基、亚苯基、0、S、NRn插入的C 2 - Cis烷基，C 2 - Cis締基，任意被一个或多个面素原子、 Cl -C4烷基、Cg -C,环烷基、杂环烷基、苯基、杂芳基、CN、Ci -C4烧酷氧基、芳酷氧基取代和/ 或被C5 - C,环亚烷基、亚苯基、0、S、NR 17插入的C 2 - Cis締基； 或Ri为Cg - C,环烷基，任意被一个或多个Cl - C4烷基、苯基、面素原子、CN取代的Cg - C7环烷基；或R 1为苯基，任意被一个或多个C 1 - C4烷基、C 1 - C4烷氧基、苯基、面素原子、CN 取代的苯基；或Ri为糞基；或R 1为苯甲酯基，苯氧基幾基，其中苯基任意被一个或两个W上 面素原子、Ri7、Cs或C e环烷基、CN、0H、XR 17取代； Ri7为C 1 -〔4烷基； Ri试J氨原子，C 1 - Cis烷基，C 1 - C4烷氧基酷基取代的C 1 - C5烷基，R iC(0)0取代的。- C4烷基，任意被一个或多个面素原子、C 1 - C4烷基、Cg - C,环烷基、杂环烷基、苯基、杂芳基、 CN、Cl - C4烧酷氧基、芳酷氧基取代或被C g - C,亚环烷基、亚苯基、0、S、NR 17插入的C 2 - 烷基；或Riii为C g - C,环烷基，或任意被一个或多个C 1 - C4烷基、苯基、面素原子、CN取代的 Cg - C,环烷基；或R IS为苯基，任意被一个或多个C 1 - Ci2烷基、簇基、c 1 - Ci2烷基酷基、有亚 苯基、0、S、NRn插入的C 2 - Ci2烷基酷基、C 5 - Ce环烷基甲酯基、C 5 - Ce环烷基取代的C 2 - C4 烷基酷基、芳基甲酯基、杂芳基甲酯基、XRi7、苯基、面素原子、CN、N02取代的苯基； 或Ris为C 1 - C4烷基酷基、C 1 - C4共辆締酷基、苯甲酯基、苯氧基幾基，其中苯基任意被 一个或两个W上面素原子、Ri7、Cg或C e环烷基、CN、0H、XR 17取代； 或上述Ris通过直键、碳原子、幾基与Ar 1或Ar 2中的芳环相连构成新的环。2. 根据权利要求1所述的光固化阻焊油墨，其特征在于，所述式（I )环戊二酬目亏醋光 引发剂为式（II )或式（III)化合物。3. 根据权利要求1所述的光固化阻焊油墨，其中组分B还含其他光引发剂作为共同引 发剂，其他光引发剂选自α -氨基酬类、硫杂蔥酬类、酷基氧化麟类、二苯甲酬类、巧挫朽醋 类或芳基-1,2-二酬-2-朽醋。4. 根据权利要求3所述的光固化阻焊油墨，其他光引发剂的具体化合物为： 2 -甲基-2 - (4-吗嘟基）-1 - [4-(甲硫基）苯基]-1 -丙酉同，2 -二甲基氨基-2 - 苄基-1 - (4 -吗嘟基苯基）-1 -下酬，2 -异丙基嚷吨酬，2, 4 -二乙基嚷吨酬，2, 4, 6 - Ξ 甲基苯甲酯基二苯基氧化麟，二（2, 4,6-Ξ甲基苯甲酯基）苯基氧化麟，4,4' -二（二甲 氨基）二苯甲酬，9 -乙基-6 - (2 -甲基苯甲酯基）巧挫-3 -乙酬朽-0 -乙酸醋，9 -乙 基-6 - (2 -甲基苯甲酯基）巧挫-3 - (3 -环戊基）丙酬朽-0 -乙酸醋或1 - (4 -苯硫 基）苯基-1，2 -辛二酬-2 -朽-0 -苯甲酸醋。5. 权利要求1 - 4所述的光固化阻焊油墨，其特征在于，还含有： 似溶剂，用量100 - 300份质量。6. 权利要求1所述的光固化阻焊油墨，用作干燥后厚度为15~100 μ m的涂膜，该涂膜 在经过掩膜曝光后通过稀碱溶液显影形成图案。7. -种干膜，其是将权利要求1所述的光固化阻焊油墨涂布到基材上后进行干燥而得 到的。
【专利摘要】本发明涉及一种光固化阻焊油墨，其含有：(A)碱溶性树脂，(B)至少一种式(Ⅰ)的光引发剂化合物，(C)分子中具有烯键式不饱和基团的化合物，(D)颜料。
【IPC分类】C09D11/107, C09D11/101, G03F7/027
【公开号】CN105694582
【申请号】CN201410708692
【发明人】赵文超, 王辰龙
【申请人】北京英力科技发展有限公司
【公开日】2016年6月22日
【申请日】2014年11月28日
【公告号】CN103998422A, WO2015027702A1, WO2015027833A1