卷对卷双面膜发料结构的制作方法

文档序号:11971987阅读:来源:国知局

技术特征:

1.卷对卷双面膜发料结构,其特征在于:该结构包括有基座(1),基座(1)上设有上料辊(2),在上料辊(2)释放基材的一端设有两根从动辊(33),两根从动辊(33)上面分别设有压板(31、32),在压板(31、32)中间设有切边单元(3),该切边单元(3)给予基材和基膜端头切整齐,保证基材和基膜端头拼接在同一直线上;以及

一缓存浮动辊(4),该缓存浮动辊(4)的进出侧分别设有张力辊(41)和辅助从动辊(42),基材缓存是缓存浮动辊(4)在张力辊(41)和辅助从动辊(42)中间往下沉,使基材拉长存放在张力辊(41)和辅助从动辊(42)之间;

一基材保护膜收卷单元(5),该基材保护膜收卷单元(5)具有上下对称辅助辊(52)和收卷辊(51),将基材上下面的保护膜撕开,保护膜绕过辅助辊(52),由收卷辊(51)进行保护膜收卷,使基材上的干膜祼露出来,以便达到基材双面电子线路的制作。

2.根据权利要求1所述的卷对卷双面膜发料结构,其特征在于:所述基座(1)设计为可移动体,在底座(8)上设有两根导轨(81),基座(1)铺设在两根导轨(81)的滑块上,在马达驱动器(7)带动下相对底座(8)左右移动,基座(1)移动方向受纠偏感测器(9)控制。

3.根据权利要求1所述的卷对卷双面膜发料结构,其特征在于:所述缓存浮动辊(4)输出侧设有除尘辊(6),除尘辊(6)成对设计,实现基材上下面除尘。

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