一种膜分离性能测试装置制造方法

文档序号:4932999阅读:390来源:国知局
一种膜分离性能测试装置制造方法
【专利摘要】一种膜分离性能测试装置,其特征在于:依次包括进气顶端、主管体、两片烧结片、底座;进气顶端采用快速接头;进气顶端、主管体之间采用螺纹连接,主管体上端与进气顶端相接,下端则为与底座相连接的螺纹结构;下端的深度包括了底座突出高度、两片烧结片的厚度以及两片烧结片之间的膜材料厚度。本实用新型的目的旨在提供一种结构简单合理、使用维护方便、工作可靠的膜分离性能测试装置。
【专利说明】一种膜分离性能测试装置
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种膜分离性能测试装置。
【背景技术】
[0002]膜分离是当代科技的新兴技术,有效的解决能源、资源、环境污染等问题。膜分离过程是指混合物中各组分在压力差或浓度差或电位差的作用下,通过特定的“膜”界面进行传质,由于混合物中各组分在膜中具有不同的渗透能力,从而实现各组分的分离。过滤膜性能高低,主要采用截留率和膜通量两个指标来评价的。在实验室小规模测试中,主要采用的是死端过滤装置。
[0003]死端过滤装置由腔体、底座、烧结片以及固定附属元件等组成。其工作原理是:将混合液相灌入管体,密封之后通过氮气加压使液体加速通过被烧结片固定的膜表面,达到分离的目的。从底座上面伸出的毛细管处接收过滤之后的液相进行分析。
[0004]死端过滤器在使用过程中存在着如下几个问题:
[0005]1.装置设计尺寸较大,致使测试液体一般体积较多,实验过程长,使得重复试验的时间间隔较大。
[0006]2.固定装置繁琐复杂,拆卸费时费力。例如氮气接口处的接口较大,输气管甚至也需要铁架台固定。
[0007]3.烧结片固定膜材料易出现撕裂、破坏的情况。烧结片固定材料膜时由于同样要受到氮气施加的应力,而且部分溶剂会对膜材料产生溶胀等破坏材料的现象一由于设计的问题,多个因素会协同加快膜材料的破损,影响性能测定结果。
[0008]4.操作问题。在对死端过滤装置进行实验操作时,往往需要较耗费体力的拆卸以及装配操作,对部分实验人员的难度较大。

【发明内容】

[0009]本实用新型的目的旨在提供一种结构简单合理、使用维护方便、工作可靠的膜分离性能测试装置。
[0010]一种膜分离性能测试装置,其特征在于:依次包括进气顶端、主管体、两片烧结片、底座;
[0011]进气顶端采用快速接头;进气顶端、主管体之间采用螺纹连接,主管体上端与进气顶端相接,下端则为与底座相连接的螺纹结构;下端的深度包括了底座突出高度、两片烧结片的厚度以及两片烧结片之间的膜材料厚度。
[0012]所述进气顶端所引入的快速接头,可以通过特定的输气管与该快速接头进行无缝嵌合,拆卸难度大大降低。使用了内螺纹与主管体相嵌合,并设计有供使用钳子固定预留的平槽。并设计有垫圈防止内容物泄露,增加密封度。
[0013]主管体为容纳相关溶液以及氮气的部分。上端与进气顶端相接,下端则为与底座相适应的螺纹结构。下端设计的深度包括了底座突出高度、两片烧结片的厚度以及膜材料厚度。
【专利附图】

【附图说明】
[0014]图1本实用新型示意图。
【具体实施方式】
[0015]一种膜分离性能测试装置包括进气顶端1、主管体2、两片烧结片3、底座4。
[0016]进气顶端使用快速接头;进气顶端1、主管体2采用螺纹紧固设计,主管体2上端与进气顶端相接,下端则为与底座相连接的螺纹结构;下端的深度包括了底座突出高度、两片烧结片的厚度以及两片烧结片之间的膜材料厚度。
[0017]为防止液体从烧结片与螺纹处缝隙流入下方,在下端螺纹上方处以及底座相适应的外螺纹处均使用橡胶垫圈增加密封度,保证结果的准确。
[0018]底座作为收集过滤后的溶液的部分,其主要设计为承接上部分溶液以及输出的毛细管部分。
[0019]所述采用两片烧结片固定膜材料的设计特点是:烧结片的一侧均开有较小的孔,该孔可以在垫圈限制了溶液的侧漏现象的同时,使溶液主要从该处进入膜材料处进行分离。所以这一设计有效的减小了侧面渗漏对测试结果的影响。
[0020]设计尺寸减小使得测试的溶液体积可以减小。在进行组成分析时,进行分析的样品量很少,故在测试中有大部分的废液产生。更小的设计尺寸使得废液发生量也同时变小,并加快了测试进程,为大量重复试验提供了良好条件。
【权利要求】
1.一种膜分离性能测试装置,其特征在于:依次包括进气顶端、主管体、两片烧结片、底座; 进气顶端采用快速接头;进气顶端、主管体之间采用螺纹连接,主管体上端与进气顶端相接,下端则为与底座相连接的螺纹结构;下端的深度包括了底座突出高度、两片烧结片的厚度以及两片烧结片之间的膜材料厚度。
【文档编号】B01D65/10GK203577652SQ201320636935
【公开日】2014年5月7日 申请日期:2013年10月15日 优先权日:2013年10月15日
【发明者】袁其朋, 李国锋, 王兴, 张衍 申请人:北京化工大学
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