1.一种隔离膜，其特征在于，所述隔离膜依次由微孔滤膜、含碳复合层和微孔滤膜三层组成，所述微孔滤膜的孔径为10nm～100μm，该微孔滤膜的材质是高分子、金属或氧化物，所述含碳复合层为含有部分还原的氧化石墨烯、CeO2与ZrO2。
2.根据权利要求1所述的隔离膜，其特征在于，所述隔离膜的厚度为100nm～100μm。
3.根据权利要求1所述的的隔离膜，其特征在于，所述高分子为PP和/或PE材料。
4.根据权利要求1所述的隔离膜，其特征在于，所述氧化物为氧化铝。
5.权利要求1~4任一项所述的隔离膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
1）将氧化石墨烯的水溶液、CeO2的水溶液与ZrO2的水溶液均匀混合；
2）以微孔滤膜为基底，采用真空抽滤法使氧化石墨烯、CeO2和ZrO2的混合溶液在负压下脱水，进而在微孔滤膜基底上相互堆叠自组装为含碳复合层；在抽滤过程中将另一层微孔滤膜包覆在含碳复合层之上，构成三明治结构的复合膜；
3）将三明治结构的复合膜在40～80℃条件下干燥4～24h；
4）通过紫外光照射 1～5 天，利用CeO2/ZrO2的光催化特性使氧化石墨烯部分还原，最终得到隔离膜。
6.根据权利要求5所述的隔离膜的制备方法，其特征在于，所述氧化石墨烯的水溶液质量体积浓度为5～50mg/L，ZrO2水溶液质量体积浓度为10～50mg/L，CeO2的水溶液质量体积浓度为5～30mg/L。
7.根据权利要求5所述的隔离膜的制备方法，其特征在于，所述氧化石墨烯、CeO2的质量比为 1 ：0.1～0.2，所述CeO2、ZrO2的质量比为 1 ：0.5～1。
8.权利要求1~4任一项所述的隔离膜在离子分离方面的应用。