技术特征：
技术总结
本发明提供了一种直接生长超薄多孔石墨烯分离膜的方法，属于膜技术领域。把刻蚀剂、有机溶剂和高分子聚合物涂覆在金属箔上，在无氧条件下高温煅烧；去掉金属基底和反应产物，即可得到单层或多层的多孔石墨烯分离膜。或将刻蚀剂的溶液或分散液涂覆在金属箔上，再覆盖一层有机高分子聚合物薄膜，在无氧条件下高温煅烧，去掉金属基底和反应产物，即可得到单层或多层的多孔石墨烯分离膜。本发明公开的方法简单，无需昂贵的设备和药品，成本低；可以直接生长出多孔石墨烯分离膜，不需要事先制备石墨烯原材料；制备出的石墨烯膜孔径可调，具有超高的水通量和和抗不可逆污染的能力。
技术研发人员：全燮;魏高亮;陈硕;于洪涛
受保护的技术使用者：大连理工大学
技术研发日：2017.06.02
技术公布日：2017.08.18