一种基于石墨烯的高效吸附剂及其制备方法与流程

文档序号:14817039发布日期:2018-06-30 06:03阅读:390来源:国知局

本发明属于吸附净化技术领域,具体涉及一种基于石墨烯的高效吸附剂及其制备方法。



背景技术:

随着现代工业和经济的发展,水资源与环境污染问题越来越严重,已严重制约人类社会可持续发展,石墨烯具有大的比表面积、高的耐酸碱腐蚀等优点,对水中污染物有较好的吸附性能。但是,由于石墨烯的片层与片层之间有较强的范德华力,易产生聚集,且其本身具有的憎水性,限制了其在水处理中的应用。为了提高其吸附性能及在水溶液中的分散稳定性,研究人员常把石墨烯与其他材料复合,石墨烯与纳米粒子复合既可以防止纳米颗粒的团聚,又可阻止石墨烯片层之间的团聚,也可以充分发挥纳米离子本身具有的特性,提高其性能。



技术实现要素:

本发明为了弥补现有技术的缺陷,提供了一种基于石墨烯的高效吸附剂及其制备方法。

本发明是通过如下技术方案实现的:

一种基于石墨烯的高效吸附剂,其原料组成按质量配比为:石墨烯10-20份;凹凸棒土8-10份;氧化锌9-16份;氧化钙19-30份;锰金属促进剂10-18份;高锰酸钾溶液10-18份;去离子水10-20份;硝酸铜溶液18-25份。

一种基于石墨烯的高效吸附剂的制备方法,包括以下步骤:

1)将石墨烯浸渍至去离子水内进行氧化处理,并烘干备用,制得氧化石墨烯;

2) 将高锰酸钾溶液与凹凸棒土颗粒混合均匀得到混合浆体;加入硝酸铜溶液,然后升温到150~200℃保温反应2~5h,并过滤,洗涤,干燥,450℃焙烧1~3h;

3)将步骤1)和步骤2)中氧化石墨烯和干燥焙烧后的凹凸棒土颗粒按照2:1进行混合;

4)将步骤3)中的混合物加入氧化锌、氧化钙和锰金属促进剂,在190~210℃条件下进行水热反应20~60min,后经洗涤、干燥,即得。

本发明的有益效果是:本发明一种基于石墨烯的高效吸附剂及其制备方法操作简单,可作为除硫吸附剂的应用,且吸附容量大,性质稳定;操作简单,吸附能力强,具有良好的经济效益和环境效益,适合推广使用。

具体实施方式

以下给出本发明的具体实施例,用来对本发明的构成进行进一步说明。

实施例1

一种基于石墨烯的高效吸附剂,其原料组成按质量配比为:石墨烯10份;凹凸棒土8份;氧化锌9份;氧化钙19份;锰金属促进剂10份;高锰酸钾溶液10份;去离子水10份;硝酸铜溶液18份。

一种基于石墨烯的高效吸附剂的制备方法,包括以下步骤:

1)将石墨烯浸渍至去离子水内进行氧化处理,并烘干备用,制得氧化石墨烯;

2) 将高锰酸钾溶液与凹凸棒土颗粒混合均匀得到混合浆体;加入硝酸铜溶液,然后升温到150~200℃保温反应2~5h,并过滤,洗涤,干燥,450℃焙烧1~3h;

3)将步骤1)和步骤2)中氧化石墨烯和干燥焙烧后的凹凸棒土颗粒按照2:1进行混合;

4)将步骤3)中的混合物加入氧化锌、氧化钙和锰金属促进剂,在190~210℃条件下进行水热反应20~60min,后经洗涤、干燥,即得。

实施例2

一种基于石墨烯的高效吸附剂,其原料组成按质量配比为:石墨烯16份;凹凸棒土9份;氧化锌12份;氧化钙21份;锰金属促进剂15份;高锰酸钾溶液12份;去离子水19份;硝酸铜溶液20份。

一种基于石墨烯的高效吸附剂的制备方法,包括以下步骤:

1)将石墨烯浸渍至去离子水内进行氧化处理,并烘干备用,制得氧化石墨烯;

2) 将高锰酸钾溶液与凹凸棒土颗粒混合均匀得到混合浆体;加入硝酸铜溶液,然后升温到150~200℃保温反应2~5h,并过滤,洗涤,干燥,450℃焙烧1~3h;

3)将步骤1)和步骤2)中氧化石墨烯和干燥焙烧后的凹凸棒土颗粒按照2:1进行混合;

4)将步骤3)中的混合物加入氧化锌、氧化钙和锰金属促进剂,在190~210℃条件下进行水热反应20~60min,后经洗涤、干燥,即得。

实施例3

一种基于石墨烯的高效吸附剂,其原料组成按质量配比为:石墨烯20份;凹凸棒土10份;氧化锌16份;氧化钙30份;锰金属促进剂18份;高锰酸钾溶液18份;去离子水20份;硝酸铜溶液25份。

一种基于石墨烯的高效吸附剂的制备方法,包括以下步骤:

1)将石墨烯浸渍至去离子水内进行氧化处理,并烘干备用,制得氧化石墨烯;

2) 将高锰酸钾溶液与凹凸棒土颗粒混合均匀得到混合浆体;加入硝酸铜溶液,然后升温到150~200℃保温反应2~5h,并过滤,洗涤,干燥,450℃焙烧1~3h;

3)将步骤1)和步骤2)中氧化石墨烯和干燥焙烧后的凹凸棒土颗粒按照2:1进行混合;

4)将步骤3)中的混合物加入氧化锌、氧化钙和锰金属促进剂,在190~210℃条件下进行水热反应20~60min,后经洗涤、干燥,即得。

本发明不局限于上述实施方式,任何人应得知在本发明的启示下作出的与本发明具有相同或相近的技术方案,均落入本发明的保护范围之内。

本发明未详细描述的技术、形状、构造部分均为公知技术。

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