第二漉12之间的间隙而被社制时，涂料粒子由残留混合剂涂料24缓冲，与涂料粒子直接 接触第一漉11W及第二漉12的情况相比，涂料粒子的破坏得到抑制。
[0054] 接下来，使用图2对制造本发明的涂膜物的工序进行说明。
[00对在图2中，W工序（a)~（C)示出了向第一漉11与第二漉12之间供给湿润混合 剂涂料22,从而形成涂膜物23的过程。对各过程进行说明。
[0056] 在图2的工序（a)中，向表面未形成有残留混合剂涂料24的第一漉11与第二漉 12之间的间隙供给湿润混合剂涂料22。伴随着第一漉11W及第二漉12向湿润混合剂涂 料22的供给方向旋转，被供给的湿润混合剂涂料22在第一漉11W及第二漉12的表面上 薄薄地扩展。
[0057] 接下来，在图2的工序化）所示的第一漉11中，通过第一漉11旋转一周W上，从 而在相面对的第一漉11W及第二漉12中的第一漉11的周表面整面上形成残留混合剂涂 料24。目P，如后所述，由于第一漉11与第二漉12的周向速度比、或漉的表面形状、表面能， 仅第一漉11周面上附近的粒子追随第一漉11的旋转方向而流动，其余的湿润混合剂涂料 22追随第二漉12,从而在第一漉11的周表面上稳定地形成薄且均匀的残留混合剂涂料24 的膜。
[005引同时，在图2的工序（C)所示的第二漉12中，被涂布物21借助第S漉13来供给。 被涂布物21沿着第=漉13的表面行进，在第二漉12与第=漉13之间的间隙中被输送。运 样，形成为涂膜状的湿润混合剂涂料25W及被涂布物21在第二漉12与第=漉13之间的 间隙中被输送，而使湿润混合剂涂料25转印到被涂布物21的表面上。此时，由于第二漉12 与第=漉13的周向速度比、或漉的表面形状、表面能，仅第二漉12周面上附近的粒子追随 第二漉12的旋转方向而流动，而在从第二漉12向第=漉13上的被涂布物21转印湿润混 合剂涂料25时，薄且均匀的残留混合剂涂料24的膜稳定地残留在第二漉12的周面上。并 且，通过第二漉12旋转一周W上，从而在相面对的第一漉11W及第二漉12中的第二漉12 的周表面整面上形成残留混合剂涂料24。
[0059] 运样，在湿润混合剂涂料22供给的初期，残留混合剂涂料24残留在第一漉11W 及第二漉12的周表面整面上，从而在之后的涂敷中，能够抑制第一漉11W及第二漉12直 接与湿润混合剂涂料22接触的情况。因此，能够与残留混合剂涂料24的形成连续地供给 湿润混合剂涂料22,从而进行涂膜物23的形成。
[0060] 目P，供给的湿润混合剂涂料22通过第一漉11W及第二漉12的旋转而向漉间的最 窄间隙输送。此时，由于在漉表面上存在薄薄地形成的残留混合剂涂料24,因此供给的湿润 混合剂涂料22在不直接与第一漉11W及第二漉12的表面接触的状态下被向间隙输送并 同时受到社制。然后，湿润混合剂涂料22通过最窄间隙而受到剪切力，由此形成涂膜状的 湿润混合剂涂料25。并且，通过在漉间社制而形成为涂膜状的湿润混合剂涂料25被向第二 漉12侧转印，随着第二漉12的旋转而在第二漉12上移动。
[0061] 需要说明的是，湿润混合剂涂料22的供给优选不会引起涂料在漉间变得不移动 的成桥化ridge)、鼠桐（rathole)等现象，能够进行定量且流动地供给的方法，具体而言， 优选使用振动送料器、螺旋送料器、旋转送料器、漉式送料器、带式送料器、或板式送料器等 送料器的供给方法。
[00创运样，通过初期的湿润混合剂涂料22的供给，从而使残留混合剂涂料24残留、保 持在第一漉11W及第二漉12的周表面上，由此在其后的湿润混合剂涂料22的供给时，能 够避免湿润混合剂涂料22与漉接触，且能够抑制漉表面的磨损。需要说明的是，残留混合 剂涂料24的形成可W在涂敷中的湿润混合剂涂料22的供给的最初阶段进行，也可W在涂 敷之前，预先由供给的湿润混合剂涂料22在第一漉11W及第二漉12的周表面上将残留混 合剂涂料24形成为规定的膜厚。
[0063] 需要说明的是，运些在涂敷的初期或涂敷之前在第一漉11 W及第二漉12的周表 面上形成的残留混合剂涂料24可W将整层持续残留，也可W与通过涂敷来供给的湿润混 合剂涂料22部分替换。在该情况下，也能够通过将残留混合剂涂料24的膜厚保持为一定， 从而对涂膜状的湿润混合剂涂料25的膜厚进行高精度的控制。目P，在未形成有残留混合剂 涂料的现有的涂膜物的制造装置中，存在着湿润混合剂涂料不均匀地残留于漉的表面、涂 膜状的湿润混合剂涂料的膜厚没有保持为均匀的情况。在本发明的涂膜物的制造装置中， 通过在第一漉11W及第二漉12的周表面上将残留混合剂涂料24形成为规定的膜厚，由此 湿润混合剂涂料22与残留混合剂涂料24的材料相同，因此即使供给的湿润混合剂涂料22 与残留混合剂涂料24部分替换，残留的残留混合剂涂料24的膜厚也保持为一定，且涂膜状 的湿润混合剂涂料25的膜厚也保持为均匀。
[0064] 薄且均匀地形成在第一漉11及第二漉12的周面上的残留混合剂涂料24的膜厚 与湿润混合剂涂料22中含有的涂料粒子的粒径有关系，优选为涂料粒子的1个粒子W上且 10个粒子W下的膜厚。目P，优选残留混合剂涂料24的膜厚相对于涂料粒子的平均粒径为1 倍W上且10倍W下的厚度。当处于该残留混合剂涂料24的膜厚的范围内时，通过薄薄地 残留在第一漉11或第二漉12的周面上的残留混合剂涂料24,使得向第一漉11与第二漉 12之间投入的湿润混合剂涂料22不会直接与漉表面接触，因此能够抑制漉表面的磨损。当 残留混合剂涂料24的厚度小于涂料粒子的平均粒径的1倍时，向第一漉11与第二漉12之 间投入的湿润混合剂涂料22会直接与漉表面接触，因此漉表面会发生磨损。另外，当残留 混合剂涂料24的厚度大于涂料粒子的平均粒径的10倍时，成为相对于在被涂布物21上形 成的膜厚而言无法忽视的厚度，且残留混合剂涂料24会不均匀地形成，因此在涂膜物23的 涂膜重量精度方面产生问题。 阳0化]接下来，使用图3对组合了两组第一漉11W及第二漉12的涂膜物的制造装置的 结构进行说明。
[0066] 图3示出通过组合两组图1的第一漉11和第二漉12而能够同时涂敷两面的结构 图。在进入第一漉11与第二漉12之间的湿润混合剂涂料22形成为涂膜状的湿润混合剂 涂料25而向第二漉12的周面上转印时，在第一漉11的周面上薄薄地形成残留混合剂涂料 24,且在第二漉12周面上的涂膜状的湿润混合剂涂料25向被涂布物21转印时，在第二漉 12的周面上薄薄地形成残留混合剂涂料24。另一方面，在第二漉12的表面上形成为涂膜 状的湿润混合剂涂料25向被涂布物21的两面转印，从而输送出涂膜物23。另外，也可W通 过将图1的第一漉11和第二漉12组合两组W上，从而依次地涂敷多层。
[0067] 需要说明的是，在图1、图3的结构中，为了从第一漉11向第二漉12的表面将湿润 混合剂涂料22呈涂膜状地转印，或为了从第二漉12向被涂布物21之上将湿润混合剂涂料 25呈涂膜状地转印，优选第一漉11W及第二漉12的表面由转印性优异的材料覆盖，例如优 选由聚氨醋橡胶、娃橡胶、氣橡胶、氯下橡胶、下腊橡胶、下基橡胶、PTFE烧结体、氣树脂、娃 酬树脂、阳EK树脂等高分子材料、或者氧化侣、氧化娃、氧化铁、儀、铭、氮化铭、氧化错、氧化 锋、氧化儀、碳化鹤、化C、金刚石等无机材料、金属材料、复合化合物材料、或者氣化合物等 覆盖，从磨损性的观点出发，优选使用无机材料、金属材料、它们的复合化合物材料、或氣化 合物等。另外根据情况，也可W实施喷锻处理、氣树脂/娃酬树脂等的浸渗涂布/锻敷等表 面处理。就上述材料、处理而言，可W单独利用，也可W根据需要混合或组合利用。需要说 明的是，只要具有优异的转印性，则不限定于上述材料。
[0068] 本发明人注意到，为了使湿润混合剂涂料22薄薄地残留在第一漉11或第二漉12 的周面上并同时进行涂敷，在漉表面上形成不均匀的凹凸是有效的。作为形成不均匀的凹 凸的手段，优选进行表面加工处理，例如可W通过粗面化处理来调整表面粗糖度。
[0069] 而且，本发明人通过模拟粗面化的程度，由此算出能够适当地形成残留混合剂涂 料24的漉的表面粗糖度。目P，发现了在第一漉11和第二漉12的表面的算数平均粗糖度Ra 大于针对湿润混合剂涂料22中含有的涂料粒子的粒径来说的累计分布率成为10%的粒径 化。的0. 05倍，且小于累计分布率成为90 %的粒径D9。的20倍的情况下，能够使湿润混合剂 涂料22较薄地残留并同时进行涂敷。
[0070] 更具体的说明如下。
[0071] 粗面化的下限例如通过由粒度分布计测定出的针对湿润混合剂涂料22中含有的 涂料粒子的粒径来说的累计分布率成为10%的粒径化。W及漉表面的算数平均粗糖度Ra来 规定，例如为了与镜面时的情况相比使湿润混合剂涂料22较薄地残留，优选采用满足W下 关系式的算数平均粗糖度Ra。
[0072] DioX