基板涂布装置的制造方法
【专利摘要】本实用新型公开一种基板涂布装置。根据本实用新型的基板涂布装置，包括：狭缝形状的狭缝喷嘴，排出待涂布到基板上的药液；以及负压模块，以涂布进行方向为基准，位于所述狭缝喷嘴的肋前方，并且在所述狭缝喷嘴的喷出口前方形成负压空间。负压模块通过在所述狭缝喷嘴的喷出口前方形成负压空间，向前方牵拉从狭缝喷嘴的喷出口排出的药液，从而在喷出口下方形成半月形状而使涂布顺利地进行。负压模块包括：吸入部，形成上方封闭并且下方向着所述负压空间开放的内部空间部；以及吸入泵，连接于形成在所述吸入部的上方的排出口。吸入部通过吸入所述负压空间的空气来形成负压。
【专利说明】
基板涂布装置
技术领域
[0001]本实用新型涉及一种基板涂布装置，尤其涉及一种通过在狭缝喷嘴的排出口前方形成负压，从而使从狭缝喷嘴中排出的药液向着排出口前方以半月形排出，由此改善涂布性能的基板涂布装置。
【背景技术】
[0002]将药液以一定的厚度均匀地涂布到平板基板的涂布装置可以用于多样的领域中，其中之一就包括为了制造LCD等平板显示器而在玻璃基板表面涂布感光性树脂的涂布工
-H-
O
[0003]随着显示器基板的大小的大型化，利用狭缝喷嘴(SlitNozzle)的狭缝涂布方式作为药液涂布方式被广泛的应用。狭缝涂布方式为令具有与被处理基板的宽度相当的长度的狭缝喷嘴沿着基板移送，并且通过喷嘴喷射药液而涂布的方式。
[0004]参考图1，基板涂布装置100在基板G固定于基板平台102的状态下，长度为基板G的宽度的狭缝喷嘴110借助于移送机构120而沿着基板G移送的同时涂布药液。通过药液提供部112提供大概一次涂布工序所要用到的量的药液到狭缝喷嘴110后，将药液通过狭缝喷嘴110而喷射到基板G。涂布装置100在基板G上涂布药液，即感光性树脂(PR = Photoresist)后，基板G被移送到干燥工序而被干燥。
[0005]涂布到基板G的药液的厚度与药液的粘性、涂布速度和涂布间隙等相关，所以需要调整与要涂布的厚度相对应的药液的粘性和排出速度等。
[0006]例如，如图2的X那样，从狭缝喷嘴110排出的药液m以涂布前进方向X为基准，朝狭缝喷嘴110的肋(Rib)IlOa的前端以半月形被充分排出时，因为狭缝喷嘴110的行进速度、涂布间隙等适当，所以可以进行适当的涂布。
[0007]但是，如图2的(b)那样，通过狭缝喷嘴110排出的药液m的量少或者涂布速度过快时，从狭缝喷嘴110排出的药液m位于狭缝喷嘴110的肋11 Oa的后端，并成为被狭缝喷嘴110的行进拖拉的形状，并且无法适当地填充涂布间隙，并且无法有效地进行涂布。相反，若排出量过大，也无法进行有效的涂布。
[0008]最近，随着对薄膜涂布的要求变高，在需要进行更薄的涂布的情况下，发生难以匹配涂布条件的问题。
[0009][相关技术文献]
[0010]难以找到基本类似的发明。
[0011]1.韩国公开专利第 10-2015-0039901 号(2015.04.14公开)
[0012]该发明公开了在狭缝喷嘴的两个端部形成用于再次吸入药液的吸入管道的方法。从排出口排出的药液通过吸入管道被吸入，从而药液只涂布在药液涂布区域，并且可防止药液不必要地涂布在基板的两个侧部，并使整体均匀的涂布变得可能。
【实用新型内容】
[0013]本实用新型的目的在于提供一种以涂布进行方向为基准，在狭缝喷嘴的排出口前方形成负压，从而使从狭缝喷嘴排出的药液向排出口前方以半月形状被排出，由此改善涂布性能的基板涂布装置。
[0014]为了实现上述目的，根据本实用新型的基板涂布装置，包括:狭缝形状的狭缝喷嘴，排出待涂布到基板上的药液;及负压模块，以涂布进行方向为基准，位于所述狭缝喷嘴的肋的前方，并且在所述狭缝喷嘴的喷出口前方形成负压空间。并且与狭缝喷嘴分开地布置的负压模块在所述狭缝喷嘴的喷出口前方形成负压空间，从而把从喷出口排出的药液向喷出口前方拽拉，从而在喷出口下方形成半月形状。所以，狭缝喷嘴不需要具有双狭缝形状。
[0015]根据实施例，所述负压模块包括:吸入部，形成向所述负压空间开放的内部空间部；以及吸入栗，连接于形成在所述吸入部的排出口，通过吸入所述内部空间部的空气，在所述负压空间形成负压。
[0016]根据实施例，所述吸入部的内部空间部可以为与所述基板平行地布置的平板形状。
[0017]根据实施例，所述吸入部的内部空间部向所述喷出口倾斜地开放。
[0018]根据另一实施，所述吸入部的下表面形成于所述狭缝喷嘴和基板之间的涂布间隙的高度以下，并且优选地所述吸入部的开放的下表面位于距离基板20?300μπι的高度处。
[0019]根据实施例，所述吸入部的排出口形成于所述内部空间部的前方上侧，以给所述喷出口前方提供均匀的负压。
[0020]另外，在所述狭缝喷嘴的肋的端部形成平平的负压抵抗部，用于防止从所述狭缝喷嘴的喷出口排出的药液因由所述负压模块引起的负压而被吸入到所述负压模块。并且，优选地，所述负压抵抗部具有Imm以上的宽度。
[0021]根据实施例，所述负压模块固定于所述狭缝喷嘴的侧面。
[0022]根据负压模块的实施例，本实用新型的基板涂布装置还包括:移送模块，用于支撑并移送所述狭缝喷嘴。并且，所述移送模块包括:一对吊架(gantry)，分别形成于支撑所述基板的基板平台的两侧;及桥梁(bridged bar)，横穿所述基板平台而布置，并且各个端部分别连接于所述吊架，以支撑所述狭缝喷嘴。
[0023]在该情况下，所述负压模块被所述桥梁所支撑而布置于所述狭缝喷嘴的前方。
[0024]根据实施例，所述移送模块还包括:一对导轨，分别布置于所述基板平台的两侧，并引导所述吊架的移动；以及吊架驱动部，利用磁悬浮方式使所述吊架沿着所述导轨往复运动。
[0025]根据实施例，负压模块包括:主体部，连接于所述桥梁;吸入管道，贯通所述主体部而形成，并且末端向负压空间开放;及吸入栗，通过所述吸入管道吸入空气，从而在所述负压空间形成负压。根据实施例，所述吸入管道以末端向着所述喷出口倾斜的状态开放。
[0026]本实用新型的基板涂布装置以涂布进行方向为基准，在狭缝喷嘴的前端布置负压模块，从而在狭缝喷嘴喷出口前方形成负压，使得从狭缝喷嘴排出的药液朝喷出口前方形成半月形状。如我们知道，若从狭缝喷嘴排出的药液在狭缝喷嘴的前端形成适当的半圆形状，则可以进行更快速的涂布，并且可以无不良地进行更薄的薄膜涂布，并且可以维持足够的涂布间隙。
[0027]因为形成负压的负压模块相比狭缝喷嘴的喷出口具有相当大的大小，所以可以消除药液妨碍负压的形成或堵住用于形成负压的任一吸气口等的隐患。
[0028]并且，因为本实用新型中负压模块位于狭缝喷嘴的前方，所以可以从狭缝喷嘴的移动中因误操作可能发生的突发的碰撞或基板上的异物保护喷嘴。
【附图说明】
[0029]图1为示出现有的具有异物检测装置的基板涂布装置的立体图。
[0030]图2为示出图1的狭缝涂布器的药液涂布过程的侧剖面图，其中，图2(a)是适当地进行涂布时的侧剖面图，图2(b)是无法适当地进行涂布时的侧剖面图。
[0031]图3为概略地示出根据本实用新型的一实施例的基板涂布装置的图。
[0032]图4为将图3沿A-A线截取而示出剖面图。
[0033]图5为根据图3的一实施例的负压模块的立体图。
[0034]图6为概略地示出根据本实用新型的另一实施例的基板涂布装置的图。
[0035]图7为示出图6的负压模块的实施例的剖面图。
[0036]图8为示出图6的负压模块的另一实施例的剖面图。
[0037]符号说明
[0038]102:基板平台110:狭缝喷嘴
[0039]I 1a:狭缝喷嘴的肋I 1b:狭缝喷嘴的喷出口
[0040]I 1c:负压抵抗部112:药液提供部
[0041]120:移送模块121:吊架
[0042]123:桥梁125:导轨
[0043]310、610:负压模块311:吸入部
[0044]313:排出口315:吸入栗
[0045]710、810:主体部711、811:吸入管道
【具体实施方式】
[0046]以下，参考附图对本实用新型进行更详细的说明。
[0047]参考图3及图4，根据本实用新型的第一实施例的基板涂布装置300包括:基板平台102，用于固定基板G;狭缝喷嘴110，将药液涂布到基板G上;药液提供部112，给狭缝喷嘴110提供药液;移送模块120，支撑狭缝喷嘴110并且能够沿着涂布进行方向X移送狭缝喷嘴110。
[0048]移送模块120包括:一对吊架(Gantry)121，分别设置于基板平台102的两侧;桥梁(Bridged Bar)123，将一对吊架121的上部相互连接，从而支撑狭缝喷嘴110; —对导轨125，在基板平台102的两侧沿涂布进行方向X并排布置，以引导吊架121的移动；以及吊架驱动部(未图示)。吊架驱动部例如可以通过磁悬浮方式使吊架121沿着导轨125进行往复运动。
[0049]为了涂布，狭缝喷嘴110与基板G可以相对移动就足够，所以本实用新型不限于狭缝喷嘴110在固定的基板G上被水平移送的情况，还适用于基板G在固定的狭缝喷嘴110的下方被移送的情况。例如，根据涂布装置，专门的基板支撑机构可以支撑基板G而在狭缝喷嘴110的下方移送该基板G。在该情况下，移送模块120发挥为了清洗等而移送狭缝喷嘴110的功能，并且固定支撑涂布中的狭缝喷嘴110而不移送涂布中的狭缝喷嘴110。
[0050]下文中说明的基本动作中除了负压模块310的动作，都与现有技术的说明相同。也就是说，在基板G固定于基板平台102的状态下，基板G的宽度长度的狭缝喷嘴110借助于移送模块120而沿着基板G移送的同时通过喷出口 I 1b把药液涂布到基板G上。药液提供部112把大约一次涂布工序所要用到的量的药液提供给狭缝喷嘴110后，通过狭缝喷嘴110把药液喷射到基板G。如果基板涂布装置300把药液涂布到基板G上，则基板G被移送到下一工序。如上文所述，可以借助于专门的支撑机构而在狭缝喷嘴110的下方沿水平方向移送基板G的过程中进行涂布。
[0051 ]此时，从狭缝喷嘴110的喷出口 I 1b排出的药液需要以涂布进行方向X为基准比喷出口 IlOb更靠前地突出而维持半月形。为此，本实用新型的基板涂布装置300还包括负压模块310，以涂布进行方向X为基准，在狭缝喷嘴110的肋11 Oa的前方与基板G分离地设置。负压模块310在涂布过程中固定于狭缝喷嘴110的前方，从而在狭缝喷嘴110的喷出口 I 1b的前方形成负压空间310a。
[0052]在涂布工序中，作为将负压模块310定位于狭缝喷嘴110的肋I1a前方的方法中的一种方法，如图3至图5所示，负压模块310固定于狭缝喷嘴110的侧面，从而在涂布过程中与狭缝喷嘴110—起被移送。作为另一种方法，如图6所示，负压模块610直接支撑于桥梁123而不是直接支撑于狭缝喷嘴110，由此定位于狭缝喷嘴110的肋I1a前方。
[0053]负压模块形成下面朝向负压空间开放的内部空间部，并使内部空间部变成真空，从而在负压空间形成负压。负压模块的示例可设计为多种多样。
[0054]图3至图5的例子中，负压模块310形成为下面朝向负压空间开放的容器形状，并附着于狭缝喷嘴110的侧面，负压模块310包括:形成下面朝向负压空间开放的内部空间部而覆盖负压空间310a的形态的吸入部311、以及与形成于吸入部311的上部的排出口 313的通过软管等而连接的吸入栗315。吸入栗315通过排出口 313吸入包括内部空间部的负压空间310a的空气，从而在负压空间310a形成负压。
[0055]吸入部311的内部空间部从基板G分离，并且其内部空间部的下面朝向基板G开放，所以从内部空间连接的负压空间310a不会形成全真空。另外，负压空间310a的负压用于把从狭缝喷嘴110排出的药液向涂布进行方向拽拉，所以重要的是在沿着垂直于涂布进行方向X的一字型布置的狭缝喷嘴110的喷出口 I1b的前方维持负压。
[0056]因此，优选地，吸入部311的内部空间部具有与基板G平行且沿涂布进行方向延伸的较宽的平板形状，从而在基板G上的较宽的面形成负压空间310a。优选地，吸入部311的排出口 313布置于狭缝喷嘴110的喷出口 IlOb的相反侧，即吸入部311的内部空间部的前方上侦U，从而对于一字型狭缝喷嘴110的喷出口 IlOb提供均匀的负压。并且，将形成吸入部311的隔壁设计为具有相当的宽度，这可以最大程度地减少由基板G之间的空间引起的负压的损失。
[0057]另外，优选地，以基板G的上表面为基准，吸入部311的下表面的高度考虑作为狭缝喷嘴110的喷出口 IlOb和基板G之间的高度的涂布间隙(Gap)而布置，并且可以定为大约20?300μπι左右，优选为50?150μπι。
[0058]吸入部311的下表面没必要与基板G平行，并且可以设计成从狭缝喷嘴110向最远的前方越来越低的倾斜的形状，从而使内部空间部具有向狭缝喷嘴110的喷出口 IlOb倾斜的形状。并且，吸入部311的内部空间部的高度和下表面的面积优选为在不影响用于清洗狭缝喷嘴110的肋11 Oa的清洗机构的移动范围的范围内设计成最大。
[0059]当吸入栗315启动而开始吸入吸入部311的内部空间部的空气时，在负压空间310a形成负压。负压空间310a形成于狭缝喷嘴110的喷出口 IlOb的前方，所以为了涂布而从狭缝喷嘴110的喷出口 IlOb排出的药液受到形成于负压空间310a的负压的张力，从而以半月形状突出。
[0060]另外，优选为在狭缝喷嘴肋IlOa的末端部形成负压抵抗部110c。负压抵抗部IlOc用于防止从狭缝喷嘴110的喷出口 IlOb排出的药液因负压空间310a形成的负压，被吸入到负压模块310的内部空间部。所需要的负压抵抗部IlOc的宽度d可根据负压的强度而不同，但是宽度小于大约Imm以下的时，与负压的大小无关地，药液都会被吸入负压模块310，所以负压抵抗部I 1c的宽度优选为大约Imm以上。
[0061]〈另一实施例〉
[0062]如上文所述，如图6至图8所示，负压模块610可以直接支撑于桥梁123而不是直接支撑于狭缝喷嘴110，由此定位于狭缝喷嘴110的肋11 Oa的前方。
[0063]图7中的负压模块包括:与桥梁123连接的主体部710、贯通主体部710而形成并且末端朝向负压空间开放的吸入管道711，并且吸入管道711与外部的吸入栗315连接。
[0064]图8中的负压模块包括:与桥梁123连接的主体部810、贯通主体部810而形成并且末端以朝向喷出口 IlOb倾斜的状态开放的吸入管道811，并且吸入管道811与外部的吸入栗315连接。
[0065]与现有技术相比，负压模块310可以使涂布工作在更快的涂布速度下进行并在更低的药液的粘度状态下进行。所以相比现有技术，自然可以进行更有效的薄膜涂布。
[0066]以上，对本实用新型的优选的实施例进行了图示并说明，但是本实用新型不限于上述的特定的实施例，并且在不脱离权利要求书中要求的本实用新型的宗旨的情况下，在本实用新型的领域中具有一般知识的人可以实现多种变形实施，并且这些变形实施不应脱离本实用新型的技术思想或前景。
【主权项】
1.一种基板涂布装置，其特征在于，包括: 狭缝形状的狭缝喷嘴，排出待涂布到基板上的药液；以及 负压模块，以涂布进行方向为基准，位于所述狭缝喷嘴的肋的前方，并且在所述狭缝喷嘴的喷出口前方形成负压空间， 所述肋形成有所述喷出口，通过所述喷出口排出药液。2.如权利要求1所述的基板涂布装置，其特征在于，所述负压模块包括: 吸入部，形成向所述负压空间开放的内部空间部;及 吸入栗，连接于形成在所述吸入部的排出口，通过吸入所述内部空间部的空气，在所述负压空间形成负压。3.如权利要求2所述的基板涂布装置，其特征在于， 所述吸入部的内部空间部为与所述基板平行地布置的平板形状。4.如权利要求2所述的基板涂布装置，其特征在于， 所述吸入部的内部空间部向所述喷出口倾斜地开放。5.如权利要求2所述的基板涂布装置，其特征在于， 所述吸入部的下表面形成于所述狭缝喷嘴和基板之间的涂布间隙的高度以下。6.如权利要求5所述的基板涂布装置，其特征在于， 所述吸入部的开放的下表面位于距离所述基板20?300μπι的高度处。7.如权利要求2所述的基板涂布装置，其特征在于， 所述吸入部的排出口形成于所述内部空间部的前方上侧，以给所述喷出口前方提供均匀的负压。8.如权利要求1所述的基板涂布装置，其特征在于， 在所述狭缝喷嘴的肋的端部形成有平的负压抵抗部，用于防止从所述狭缝喷嘴的喷出口排出的药液因由所述负压模块引起的负压而被吸入到所述负压模块。9.如权利要求8所述的基板涂布装置，其特征在于， 所述负压抵抗部具有Imm以上的宽度。10.如权利要求1所述的基板涂布装置，其特征在于， 所述负压模块固定于所述狭缝喷嘴的侧面。11.如权利要求1所述的基板涂布装置，其特征在于，还包括: 移送模块，用于支撑并移送所述狭缝喷嘴，并且所述移送模块具有: 一对吊架，分别形成于支撑所述基板的基板平台的两侧;及 桥梁，横穿所述基板平台而布置，并且各个端部分别连接于所述吊架，以支撑所述狭缝喷嘴， 所述负压模块被所述桥梁所支撑而布置于所述狭缝喷嘴的前方。12.如权利要求11所述的基板涂布装置，其特征在于，所述移送模块还包括: 一对导轨，分别布置于所述基板平台的两侧，并引导所述吊架的移动；以及 吊架驱动部，利用磁悬浮方式使所述吊架沿着所述导轨往复运动。13.如权利要求11所述的基板涂布装置，其特征在于，所述负压模块包括: 主体部，连接于所述桥梁； 吸入管道，贯通所述主体部而形成，并且末端向负压空间开放；以及吸入栗，通过所述吸入管道吸入空气，从而在所述负压空间形成负压。14.如权利要求13所述的基板涂布装置，其特征在于，所述吸入管道以末端向着所述喷出口倾斜的状态开放。
【文档编号】B05C5/00GK205518423SQ201521034371
【公开日】2016年8月31日
【申请日】2015年12月14日
【发明人】璧靛悍, 赵康一
【申请人】K.C.科技股份有限公司