触摸面板、触摸显示装置及触摸面板的制备方法与流程

本公开的实施例涉及一种触摸面板、触摸显示装置及触摸面板的制备方法。

背景技术：

单层铟锡氧化物(SITO)触摸面板工艺广泛应用在手表等小尺寸产品上。由于用户在使用这些小尺寸产品时，比如看时间、定时等操作时，眼睛距离屏幕很近，此类产品屏幕上的少量瑕疵都会极大地影响用户的体验，因而这类产品的消影等级要求很高。

技术实现要素：

本公开提供一种触摸面板、触摸显示装置及触摸面板的制备方法。该触摸面板通过将第一消影层和第二消影层分别形成在不同的基板上，从而可以避免因需要露出触摸电极邦定区而蚀刻第二消影层，进而避免由第一消影层过刻带来的消影效果降低。另外，分别形成在两个基板上的两层消影层也可以带来更好的消影效果。

根据本公开的一个实施例提供一种触摸面板，包括：彼此相对设置的第一基板和第二基板；形成在第一基板上的第一消影层；形成在所述第一消影层上的触摸电极层；以及形成在所述第二基板上的第二消影层，其中所述第一基板的形成有所述第一消影层和所述触摸电极层的一侧面对所述第二基板的形成有所述第二消影层的一侧。

在一些示例中，所述触摸电极层包括触摸电极图案和触摸电极邦定区。

在一些示例中，形成在所述第一基板上的所述第一消影层与形成在所述第二基板上的所述第二消影层之间具有胶层和间隙层至少之一。

在一些示例中，所述第一基板和所述第二基板为玻璃基板。

在一些示例中，所述触摸电极层由透明金属氧化物形成。

在一些示例中，所述透明金属氧化物为铟锡氧化物、铝锌氧化物和铟锌氧化物至少之一。

在一些示例中，所述触摸电极邦定区设置在所述第一基板的外围区域，且与所述触摸电极图案电连接。

在一些示例中，所述触摸面板还包括：黑矩阵层，设置在所述第一基板的外围区域。

在一些示例中，所述第一消影层和所述第二消影层的至少之一包括二氧化硅和五氧化二铌的叠层或者氮化硅层。

在一些示例中，所述第一消影层和所述第二消影层的材料相同。

根据本公开的一个实施例提供一种触摸显示装置，包括显示面板和上述任一所述触摸面板，其中所述触摸面板设置在所述显示面板的显示表面侧。

根据本公开的一个实施例提供一种触摸面板的制备方法，包括：在第一基板上形成第一消影层；在所述第一消影层上形成触摸电极层；在第二基板上形成第二消影层；将所述第一基板和所述第二基板结合，且使所述第一基板的形成有所述第一消影层和所述触摸电极层的一侧面对所述第二基板的形成有所述第二消影层的一侧。

在一些示例中，在所述第一消影层上形成触摸电极层包括：在所述第一消影层上沉积导电薄膜，将所述导电薄膜图案化以形成所述触摸电极层，所述触摸电极层包括触摸电极图案以及与所述触摸电极图案电连接的触摸电极邦定区。

在一些示例中，将所述第一基板和所述第二基板结合包括：在形成有所述第一消影层和所述触摸电极层的第一基板和形成有所述第二消影层的第二基板之间施加胶层，以将所述第一基板和所述第二基板结合。

在一些示例中，所述方法还包括：在将所述第一基板和所述第二基板结合之前，在所述第一基板的外围区域形成黑矩阵层。

附图说明

为了更清楚地说明本公开实施例的技术方案，下面将对实施例的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本公开的一些实施例，而非对本公开的限制。

图1是触摸面板的形成有触摸电极层的基板的截面结构示意图；

图2是另一触摸面板的形成有触摸电极层的基板的截面结构示意图；

图3是根据本公开一个实施例的触摸面板的截面结构示意图；

图4是根据本公开一实施例的触摸面板的平面结构示意图；

图5是根据本公开一实施例的触摸面板的截面结构示意图；

图6是根据本公开实施例的触摸面板的制作方法的流程图；

图7-图10是根据本公开实施例的触摸面板的制造流程中的截面结构示意图；

图11是根据本公开一实施例的触摸显示装置的截面结构示意图。

具体实施方式

为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例的附图，对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。

除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。

单层氧化铟锡(SITO)触摸技术成本较低、能够实现多点触控。所谓的单层ITO触控传感器是指在玻璃或塑料基板上镀一层ITO，并将该ITO蚀刻成电极而形成触控传感器。在这种触控传感器中，ITO电极即可以作为驱动电极，又可以作为感应电极，无需其他膜层就可以实现触控功能。然而，由于ITO和玻璃基板的折射率相差较大，导致蚀刻后的ITO图案形成线路或电极后，有ITO的区域和无ITO的区域的反射率相差较大，使得蚀刻线路比较明显，影响用户的视觉感受。在小尺寸面板中，由于观察者的眼睛距离面板较近，这种问题更加明显。为了增强消影效果，在一些触摸面板中，在ITO层的两侧均形成消影层。图1是一种触摸面板的形成有触摸电极层的基板的截面结构示意图。该基板包括依次形成在衬底基板100上的黑矩阵110、第一消影层120、触摸电极层130以及第二消影层140。触摸电极层130包括用于触摸感应的触摸感应电极131和位于基板的外围区域(边缘区域)的触摸电极邦定区(Bonding area)132。在触摸电极邦定区，触摸电极层需要露出以能够与其他部件(例如，导电线路)进行连接。因此，形成于触摸电极层130上的第二消影层140需要被刻蚀，以露出下面的触摸电极邦定区。然而，在蚀刻第二消影层140时，不可避免地会对第一消影层120过刻，从而引起消影效果的降低。

为了解决上述问题，提出了另外一种触摸面板。图2示出了另一种触摸面板的形成有触摸电极层的基板的截面结构示意图。如图2所示，该基板与图1所示的基板的差别在于在触摸电极层130与第一消影层120之间插入了一层保护层150。由于插入了保护层150，在对第二消影层140进行刻蚀时，则不会对第一消影层120产生过刻。然而，该结构需要额外制备保护层的工艺，从而提高了成本且降低了产能。

图1和图2所示的仅仅是触摸面板的一个组成部分，也就是，形成有触摸电极层的基板。在制备触摸面板时，一般还需要一个盖板(例如，盖板玻璃)覆盖在基板形成触摸电极层等元件的一侧，以保护形成在基板上的各种元件。本申请的发明人发现，通过将第二消影层的制备工艺转移到盖板上，也就是说，第二消影层不形成在形成有触摸电极层的基板上而是形成在盖板上，可以避免因需要露出触摸电极邦定区而蚀刻第二消影层。并且，在这种情况下，当将盖板与形成有触摸电极层的基板结合之后，所形成的触摸面板同样也包括两层消影层，一层消影层位于触摸电极层的上侧，一层消影层位于触摸电极层的下侧。这种结构相对于第一消影层和第二消影层均形成在提供触摸电极层的基板上的结构来说，消影效果没有任何影响。此外，由于不需要对第二消影层进行刻蚀，避免了对第一消影层的过刻，且还节省了蚀刻第二消影层的蚀刻工艺。

图3为根据本公开一个实施例的触摸面板的截面结构示意图。图4为根据本公开一实施例的触摸面板的平面结构示意图。为了使得图示更加清楚，图4中仅仅示出了基板以及基板上的触摸电极层。如图3所示，该触摸面板包括彼此相对设置的第一基板100和第二基板200；形成在第一基板100上的第一消影层120；形成在第一消影层120上的触摸电极层130；以及形成在第二基板200上的第二消影层210，其中第一基板100的形成有第一消影层120和触摸电极层130的一侧面对第二基板200的形成有第二消影层210的一侧。

例如，第一基板100和第二基板200的每个例如可以为透明玻璃基板基板。第一基板100和第二基板200可以采用本领域常用的基板材料，本公开的实施例对此没有特别限制。

在第一基板100上，形成有第一消影层120，在第一消影层120上形成有触摸电极层130。对于第一消影层120，其可以根据第一基板100的反射率等物理参数而选取。第一消影层120的设置可以降低触摸电极层(电极图案)存在的位置以及触摸电极层(电极图案)不存在的位置之间的反射率差异，从而可以避免人眼能够容易识别触摸电极图案。例如，第一消影层120在可见光区的反射率与形成触摸电极层后的反射率接近，使得在存在触摸电极层的区域与触摸电极层被蚀刻的区域的色差减小，从而达到消影的效果。

第一消影层120可以为单层结构或多层结构，可以由单一材料形成，也可以由包括多种材料的复合材料形成。例如，第一消影层120可以包括二氧化硅(SiO₂)和五氧化二铌(Nb₂O₅)的叠层结构。例如，第一消影层120中二氧化硅层的厚度可以是5-15nm，五氧化二铌的厚度可以是10-40nm。在另外一些示例中，可以使用氮化硅(SiNx，“x”代表元素Si和N可以有不同的化学计量比)形成第一消影层120。例如，第一消影层120的材料和厚度还可以根据其上形成的触摸电极层130(例如，ITO层)的厚度的不同进行适当调整，以达到良好的消影效果。然而，根据本公开的实施例并不限于上述由二氧化硅和五氧化二铌的叠层形成的消影层或者由氮化硅形成的消影层，只要能够在形成有触摸电极层的基板上达到消影的效果，均可以用于本公开实施例的第一消影层。此外，消影层的材料、结构以及厚度还可以根据基板以及基板上触摸电极的材料进行具体选择，本公开的实施例对此也没有具体限制。

对于触摸电极层130，例如由导电薄膜经过图案化工艺而形成。例如，该导电薄膜可以为透明导电薄膜。例如，该透明导电薄膜可以是透明金属氧化物，例如，氧化铟锡(ITO)、氧化铝锌(AZO)、氧化铟锌(IZO)等。例如，触摸电极层的厚度可以为20-30nm，但根据本公开的实施例对此没有特别限制。

图4示意性地示出了形成在第一基板100上的触摸电极层130的平面结构。如上所述，为了更清楚地示出透明电极层的结构，图4中省略了其他元件，但图3例如是在图4中AB线位置处对触摸面板截取的截面图。例如，透明电极层130包括沿图4中的横向延伸的多个第一电极和沿图4中的纵向延伸的多个第二电极。第一电极和第二电极之间可以形成电容结构，从而形成触摸感应器件。例如，第一电极和第二电极之一可以用于触摸感应的驱动电极，另一个可以用于触摸感应的感应电极，但本公开的实施例对此没有特别限制。

例如，每个第一电极或每个第二电极的端部包括触摸电极邦定区132，以及与触摸电极邦定区132电连接的触摸电极图案131。例如，触摸电极图案131是用于检测触摸动作的电极图案；触摸电极图案131的输入和输出信号通过触摸电极邦定区132进行传输。例如，如图4所示，沿横向延伸的触摸电极图案131的触摸电极邦定区132位于触摸电极图案的左端，沿纵向延伸的触摸电极图案131的触摸电极邦定区132位于触摸电极图案的上端。图4中以不同的阴影图案对触摸电极图案和触摸电极邦定区进行了区分。图4中仅仅示出了根据本公开实施例的触摸面板中的触摸电极层的示意性结构，根据本公开实施例并不限于图中所示的触摸电极图案131与触摸电极邦定区132的具体位置关系，例如，触摸电极邦定区还可以设置在触摸电极图案的下侧或右侧，也可以在触摸电极图案的上侧、下侧、左侧和右侧均有设置。例如，触摸电极图案可以设置在触摸面板的中心区域(有效区域)，触摸电极邦定区可以设置在触摸面板的围绕中心区域的外围区域。例如，触摸面板的有效区域占据触摸面板的大部分平面面积。

触摸电极图案需要感测目标靠近或接触带来的电容或其他物理参数的变化。例如，第一电极和第二电极的每个包括多个菱形的图案。沿同一行或同一列排列的图案彼此电连接，以形成沿横向和纵向延伸的第一电极和第二电极。例如，如图4所示，第一电极和第二电极的多个菱形图案形成在同一层，沿纵向延伸的第二电极的菱形图案通过与电极图案一体形成的条状结构连接，沿横向延伸的第一电极的菱形图案通过与菱形图案不同层的导电条(搭桥电极)连接。例如，该导电条和上述与菱形图案一体形成的条状结构之间可以通过绝缘层彼此隔离，以避免二者的短路。例如，该导电条也可以由透明导电材料形成。图4所示的图案为菱形结构，然而，根据本公开的实施例对此没有特别限制，上述图案可以为条形或其他任意合适的形状。图4仅仅示意性地示出了每个第一电极和每个第二电极包括四个菱形电极图案，但本公开的实施例对此没有特别限制，每个第一电极和每个第二电极可以包括更少或更多个电极图案。

触摸电极图案131的驱动信号需要输入或者感测信号需要输出。例如，触摸电极图案131的驱动信号或者感测信号通过触摸电极邦定区输入或输出。触摸电极邦定区132可以与引线连接，用于外界信号的输入或感测信号的输出。虽然图3和图4中使用不同的阴影图案示出了触摸电极邦定区132和触摸电极图案131，但触摸电极邦定区132与触摸电极图案131可以设置在同一层，并且由相同的材料形成；或者也可以由同一图案化工艺形成。触摸电极邦定区132与触摸电极图案131电连接以用于信号的传输。在一些示例中，触摸电极层130由ITO形成，例如，该触摸电极层包括ITO感应电极131和ITO邦定区132。例如，触摸电极邦定区132形成在触摸面板的外围区域。

在上述图3和图4所示的触摸面板的示例中，触摸电极层的触摸电极图案(除搭桥电极外)均形成在一层，然而，根据本公开的实施例并不限于此，不同的电极图案也可以形成在不同层。例如，沿横向延伸的第一电极和沿纵向延伸的第二电极可以形成在不同的层。由于沿不同方向的电极形成在不同的层，从而可以不必在电极交叉的位置再额外设计搭桥电极。例如，在不同层的触摸电极层之间还需要形成绝缘层以避免二者之间形成短路。

对于在第二基板200上形成的第二消影层210，例如可以由于第一消影层120相同的材料形成，也可以由与第一消影层120不同的材料形成。另外，第二消影层210的厚度可以与第一消影层120相同，也可以与第一消影层120不同。例如，第二消影层210可以包括二氧化硅(SiO₂)和五氧化二铌(Nb₂O₅)的叠层结构。例如，第二消影层210中二氧化硅层的厚度可以是5-15nm，五氧化二铌的厚度可以是10-40nm。第二基板200例如为盖板玻璃，其被贴附到第一基板100的形成有触摸电极层130的一侧，从而保护第一基板100上形成的各种元件。

例如，第二基板200的形成有第二消影层210的一侧可以通过胶层300贴附到第一基板100的形成有透明电极层130和第一消影层110的一侧。本公开的实施例对将第一基板和第二基板相结合的胶层没有特别限制，只要能够满足触摸面板所需的粘结、光学性能即可。例如，上述贴合工艺采用全贴合方式，也就是说，在第一基板或第二基板的整个待贴合表面上涂覆光学胶，并将第一基板和第二基板通过胶层彼此结合。在这种情况下，胶层会存在于第一基板100和第二基板200之间的整个平面区域。例如，如图3所示的触摸面板是采用全贴合方式，胶层300存在于第二消影层210和第一消影层120之间以及第二消影层210和透明电极层131之间。

在根据本公开实施例的触摸面板中，第一消影层120形成在第一基板100上，而第二消影层210形成在第二基板200上，透明电极层130夹设在第一消影层120和第二消影层210之间。第一消影层120、透明电极层130和第二消影层210形成了三明治的结构。该三明治的结构又夹设在第一基板100和第二基板200之间。由于在透明电极层(触摸电极层)两侧均形成有消影层，即形成了两个消影层，因此，能够提高消影效果。即使在需要近距离观察的触摸产品中，也不会明显看到触摸电极层的电极图案。此外，由于第二消影层210形成在第二基板200上，而不是形成在第一基板100上的透明电极层上，因此，在制备过程中，不需要蚀刻第二消影层210以露出触摸电极邦定区，因此，能够避免在蚀刻第二消影层210时对第一消影层120的过刻，从而避免由过刻引起的消影效果降低。此外，由于不需要对第二消影层210进行蚀刻，还减少了蚀刻工艺，降低了生产成本。

另外，从图3中可以看到，在第一基板100上还形成有黑矩阵层110。例如，黑矩阵110形成在触摸面板，也就是，第一基板100的外围区域，以避免触摸面板的周围漏光。另外，黑矩阵层110并不是必要的结构，也可以视具体产品的需要而增加或减少。虽然在图3所示的触摸面板中黑矩阵形成在了第一基板100上且在第一消影层120的下侧，但本公开的实施例不限于此，也可以形成在消影层的上侧，也就是第一消影层120远离第一基板100的一侧。另外，例如，黑矩阵层110也可以形成在其他层之间或者可以形成在第二基板200上，根据本公开的实施例对此没有特别限制。

图3中虽然仅仅示出了触摸面板的第一基板100、黑矩阵110、第一消影层120、触摸电极层130、光学胶层300、第二消影层210和第二基板200，然而，根据本公开的触摸面板还可以包括其他任何合适的元件或构件、层结构、电极引线等。例如，根据本公开的实施例的触摸面板还包括用于与触摸电极层的触摸邦定区电连接的引线结构(图未示)、以及上述触摸电极层的搭桥电极与下层透明电极层之间的绝缘层等。因此，根据本公开的实施例可以在上述图3和图4所示结构的基础上增加或减少个别元件或层结构。

此外，虽然图4中示意性地画出了触摸电极层130的每个电极包括四个菱形图案，但根据本公开的实施例不限于此，而是可以根据具体情况而任意设定。虽然在图3的截面图中示意性地示出各个电极图案为彼此隔离的结构，然而，在平面图(如图4)中看，成排或成列排布的菱形图案可以是相互电连接的，以形成纵横交叉的多条触摸电极(如图4所示)。虽然图3的截面图中示出触摸电极层邦定区132与触摸电极图案131是彼此隔离的，但实际上触摸电极邦定区132是与触摸电极图案131是电连接的(如图4所示)，从而可以通过触摸电极邦定区132为触摸电极层提供驱动或者输出信号。

图5为根据本公开一实施例的触摸面板的截面结构示意图。图5所示的触摸面板的结构与图3所示的触摸面板的结构不同之处在于第一基板和第二基板之间的结合方式不同。图5中两个基板之间的结构通过框贴方式来结合，也就是说，光学胶层300仅仅设置在基板的周边区域，而周边区域围绕的中心区域没有涂覆光学胶层。因此，在图5所示的触摸面板中，第二消影层210与透明电极层130或者第一消影层120之间具有间隙层301。图5所示的触摸面板的其他结构可以与图3所示的触摸面板相同或相似，并且也能够起到图3所示的触摸面板的技术效果，这里不再赘述。

综合图3和图5所示的结构来看，由于本公开实施例中的第一消影层120和第二消影层210分别形成在第一基板100和第二基板200上，因此，在两个基板彼此结合后，第一消影层120和第二消影层210之间具有胶层300或者间隔层至少之一。

在上述触摸面板结构中，由于在制作触摸面板时分别将第一消影层和第二消影层制作在不同的基板，因此，能够避免第二消影层在透明电极层的触摸电极邦定区的蚀刻工艺，并避免了由此带来的不良影响。根据本公开的实施例还提供了一种制作这些触摸面板的方法。

根据本公开实施例的触摸面板的制作方法，如图6所示，包括：在第一基板上形成第一消影层；在第一消影层上形成触摸电极层；在第二基板上形成第二消影层；以及将第一基板和第二基板对盒，并且第一基板形成有第一消影层和触摸电极层的一侧面对第二基板形成有第二消影层的一侧。

在根据本公开实施例的触摸面板的制作方法中，除了能够实现上述结合触摸面板的结构描述的技术效果之外，由于仅仅使第二消影层的形成位置进行了改变，并不会增加额外的工艺流程。另外，虽然第二消影层在形成过程中的形成位置发生了改变，但由于第一基板和第二基板上形成各种层结构或元件之后会彼此结合，因此，依然是在触摸电极层的两侧各设置有一层消影层，因此，依然能够达到或近似达到与图1或图2所示的触摸面板的消影效果。

例如，在第一基板100上形成第一消影层120可以包括在第一基板100上形成二氧化硅和五氧化二钒的叠层结构。在一些实施例中，可以采用磁控溅射的方式在第一基板100上形成五氧化二钒和二氧化硅的叠层，如图7所示。

在一些示例中，在形成第一消影层之前，还可以在第一基板100上形成黑矩阵层110。例如，黑矩阵层110可以以边框的形式形成在第一基板的外围区域。黑矩阵层110可以采用黑色油墨、金属铬或者黑色树脂等形成。然而，根据本公开的实施例也并不限于在形成第一消影层120之前形成黑矩阵层110，也可以在形成第一消影层120之后再形成黑矩阵层110，也就是说，黑矩阵层形成在第一消影层120上。

在形成第一消影层120之后，如图8所示，在第一消影层120形成触摸电极层130。例如，通过低温(例如，200℃-250℃)制作工艺在第一消影层120上利用真空溅射形成一层透明导电膜。例如，该透明导电膜可以是ITO、AZO、IZO等透明导电膜，本公开的实施例对此没有特别限制。在形成透明导电膜之后，可以采用涂覆光刻胶、曝光、显影、以及蚀刻等工艺将透明导电膜图案化。然而，根据本公开的实施例并不限于上述图案化方式。经过图案化的透明导电膜形成触摸电极层。例如，可以参照图4，触摸电极层130可以包括沿横向延伸的第一电极和沿纵向延伸的第二电极。第一电极和第二电极的每个包括多个菱形的图案。沿同一行或同一列排列的图案彼此电连接，以形成沿横向和纵向延伸的第一电极和第二电极。例如，第一电极和第二电极的多个电极图案(图中的菱形图案)形成在同一层。因此，这些电极图案可以通过同一层导电薄膜(例如，透明导电薄膜)图案化而形成。沿纵向延伸的第二电极的多个电极图案通过与电极图案一体形成的条状结构连接，沿横向延伸的第一电极的电极图案通过与电极图案不同层的导电条(搭桥电极)连接。例如，此时的搭桥电极需要在另一次图案化工艺中形成。该导电条和上述与电极图案一体形成的条状结构之间还需要形成绝缘层以将二者彼此隔离。例如，该导电条也可以由透明导电材料形成。上述步骤仅仅为形成触摸导电层的一个示例，也可以通过其他任意合适的步骤形成触摸导电层。

如图9所示，在第二基板200上形成第二消影层210。例如，可以包括在第二基板200上形成二氧化硅和五氧化二钒的叠层结构。在一些实施例中，可以采用磁控溅射的方式在第二基板200上形成五氧化二钒和二氧化硅的叠层。第二消影层210例如可以由于第一消影层120相同的材料形成，也可以由与第一消影层120不同的材料形成。另外，第二消影层210的厚度可以与第一消影层120相同，也可以与第一消影层120不同。

如上所述，在第一基板100和第二基板200上形成了各种层结构。第二基板200一般为盖板玻璃，可以保护第一基板100上的各种元器件。例如，如图10所示，可以将第二基板200的形成有第二消影层210一侧面对第一基板100形成有触摸电极层130以及第一消影层120的一侧。例如，可以在第一基板100和第二基板200其中任何之一上涂覆光学胶，然后将第一基板100和第二基板200彼此结合。在图10所示的示例中，光学胶300涂覆在了第一基板100上，但根据本公开的实施例不限于此。例如，第一基板和第二基板结合的方式可以包括全贴和框贴方式。在一个采用方式的示例中(附图10所示)，在第一基板的形成有消影层的整个表面上涂覆光学胶，将第二基板贴合到第一基板上以将二者彼此结合。在这种全贴方式下形成的触摸面板结构可以参照图3，光学胶层分布在触摸面板的整个平面范围内。利用框贴方式结合所形成的触摸面板结构可以参照图5，胶层300只分布在触摸面板的周边部分，以在周边部分围绕的中心区域形成间隙层301。

根据本公开的实施例还提供一种触摸显示装置，该触摸显示装置包括如上述所述的触摸面板以及显示面板，触摸面板位于显示面板的显示表面侧。例如，显示面板例如可以包括液晶显示面板、有机发光二极管显示面板或者电子墨水显示面板等。例如，根据本公开的实施例的触摸显示面板可以是将上述触摸面板直接贴合在显示面板的显示表面侧，然而，根据本公开的实施例不限于此。例如，根据本公开实施例的触摸显示面板也可以是On-cell形式的触摸显示面板，也就是说，显示面板和触摸面板可以共用一个衬底基板。图11示出了一个On-cell形式的触摸显示面板的截面结构示意图。该触摸显示面板包括触摸面板01和显示面板02，触摸面板01可以是上述任一实施例的触摸面板。例如，显示面板02可以包括阵列基板400和对置基板100。也就是说，显示面板02的对置基板100和触摸面板的第一基板100彼此共用，形成在第一基板100上的各种元件层结构可以形成在显示面板02的对置基板上。例如，阵列基板400上可以包括形成阵列形式的薄膜晶体管元件以及其他阵列元件，以及控制显示介质的各种电路元件等。例如，在液晶显示面板的情况下，阵列基板400和对置基板100之间可以包括液晶层；在有机发光二极管显示面板的情况下，阵列基板400和对置基板100之间可以包括发光二极管元件；在电子墨水显示面板的情况下，阵列基板400和对置基板100之间可以包括电子墨水，这些元件没有在图11中详细示出。在图11所示的触摸显示面板中，显示面板02的对置基板100和触摸面板第一基板100可以彼此共用，因此，可以降低触摸显示装置的总体厚度。

上述触摸面板的制备方法可以用于制备上述任一实施例的触摸面板，因此，以上关于触摸面板所描述的结构或其他特征也适用于本公开实施例的触摸面板的制备方法。

对于本公开实施例的触摸面板及其制备方法，可以应用于小尺寸产品上，以适应此类产品的高的消影等级。然而，本公开实施例对此没有特别限制，而是也可以应用于大尺寸产品上。另外，上述实施例中主要结合单层导电薄膜形成的触摸电极图案进行了描述，然而，根据本公开的实施例也可以包括两层或更多层导电薄膜形成的触摸电极图案。两层消影层设置在这些触摸电极图案的两侧，也可以达到良好的消影效果。

以上所述仅是本发明的示范性实施方式，而非用于限制本发明的保护范围，本发明的保护范围由所附的权利要求确定。