阵列基板、触控显示面板及触控显示装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本申请涉及显示技术领域，具体涉及触控显示技术领域，尤其涉及阵列基板、触控显示面板及触控显示装置。
【背景技术】
[0002]内嵌式触摸显示屏上设有公共电极。在触摸检测时公共电极复用为触控发射电极，接收触控驱动信号，触摸检测电路根据显示屏上电容的变化确定触摸点。公共电极可以采用ΙΤ0导电玻璃制作。在内嵌式触摸显示屏中，触控显示面板上的公共电极呈条状平行排布。由于公共电极的面积较大，其电阻值较高，对触摸检测电路的精度影响较大。
[0003]—般地，内嵌式触摸显示屏可以包括多个金属层，包括用于形成扫描线的第一金属层、用于形成数据线的第二金属层，以及用于形成公共电极线的第三金属层。通常，第三金属层与第一金属层和第二金属层不同层设置。公共电极与形成于第三金属层上的公共电极线并联连接，可以有效地减小公共电极的阻值。
[0004]在上述采用在第三金属层上形成公共电极线与公共电极并联以减小公共电极电阻的方法中，需要在显示屏制作过程中单独形成第三金属层。而为了避免第三金属层与其他导电层(例如第二金属层和公共电极)之间形成电场，还需要在第三金属层与其他导电层之间制作绝缘层，不仅增加了显示屏的厚度，也增加了工艺复杂度。
【发明内容】
[0005]有鉴于此，期望能够提供一种制作工艺简单且降低公共电极电阻的阵列基板。为了解决上述技术问题，本申请提供了阵列基板、触控显示面板及触控显示装置。
[0006]第一方面，本申请提供了一种阵列基板，包括:衬底基板，包括显示区和非显示区；在垂直于所述衬底基板的方向上排列的多个金属层;所述多个金属层包括第一金属层和第二金属层;所述第一金属层用于形成所述阵列基板的扫描线；所述第二金属层用于形成所述阵列基板的数据线;所述显示区内设有多个像素单元，所述像素单元呈阵列排布，所述像素单元的行方向为所述扫描线的延伸方向，所述像素单元的列方向为数据线的延伸方向；触控电极层，所述触控电极层包括多个触控电极;多条触控信号线，所述触控信号线与一个所述触控电极电相连，为所述触控电极传输触控信号;所述触控信号线与至少一层所述多个金属层同层设置。
[0007]第二方面，本申请提供了如本申请第一方面所提供的阵列基板以及与所述阵列基板相对设置的彩膜基板。
[0008]第三方面，本申请提供了一种触控显示装置，包括如本申请第二方面所提供的触控显示面板。
[0009]本申请提供的阵列基板、触控显示面板及触控显示装置，通过将与触控电极并联的触控信号线与阵列基板上已有的金属层同层设置，在制作过程中，可以通过同一道工序形成触控电极所在金属层上的所有线路图形，在降低触控电极电阻的同时简化了工艺。
【附图说明】
[0010]通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例详细描述，本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显:
[0011]图1是本申请提供的阵列基板的一个局部剖面图；
[0012]图2是本申请提供的阵列基板的一个实施例的结构示意图；
[0013]图3是图2所不阵列基板的局部剖面图；
[0014]图4是本申请提供的阵列基板的另一个实施例的结构示意图；
[0015]图5是图4所示阵列基板的局部剖面图；
[0016]图6A是本申请提供的阵列基板的又一个实施例的结构示意图；
[0017]图6B是本申请提供的阵列基板的再一个实施例的结构示意图；
[0018]图7A是图6A所不阵列基板的局部剖面图；
[0019]图7B是图6B所示阵列基板的局部剖面图；
[0020]图8是本申请提供的阵列基板的再一个实施例的结构示意图；
[0021]图9是图8所不阵列基板的局部剖面图；
[0022]图10是本申请提供的触控显示面板的一个实施例的局部剖面图。
【具体实施方式】
[0023]下面结合附图和实施例对本申请作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关发明，而非对该发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与有关发明相关的部分。
[0024]需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本申请。
[0025]请参考图1，其示出了本申请提供的阵列基板的一个局部剖面图。如图1所示，阵列基板100包括衬底基板10，衬底基板10包括显示区101和非显示区102。阵列基板100还包括在垂直于衬底基板10的方向上排列的多个金属层。多个金属层至少包括第一金属层11和第二金属层12。其中，第一金属层11用于形成阵列基板100的扫描线111(图1中仅示出一条)，第二金属层12用于形成阵列基板100的数据线121。显示区101内设有多个呈阵列排布的像素单元。像素单元的行方向为扫描线111的延伸方向，像素单元的列方向为数据线121的延伸方向。阵列基板100还包括触控电极层13和多条触控信号线。触控电极层13包括多个触控电极131。触控信号线与一个触控电极131电相连，为触控电极131传输触控信号。触控信号线与至少一层上述多个金属层同层设置。如图1中，触控信号线112可以与第一金属层11同层设置。在其他的实施例中，触控信号线112也可以与第二金属层12同层设置。
[0026]阵列基板100的非显示区102内设有驱动电路，阵列基板100的显示区101内设有多个像素单元，每个像素单元包括一个薄膜晶体管，扫描线111的一端与薄膜晶体管的栅极电相连，扫描线111的另一端与栅极驱动电路113电相连;数据线121的一端与薄膜晶体管的源极电相连，数据线121的另一端与源极驱动电路123电相连;在进行一幅画面的显示时，栅极驱动电路能够发出驱动扫描信号，通过扫描线111控制薄膜晶体管的导通和断开，当薄膜晶体管被导通，显示信号通过数据线121输入显示像素中，从而进行一幅画面的显示。栅极驱动电路113可以与第一金属层11同层设置，源极驱动电路123可以与第二金属层12同层设置。
[0027]在本实施例中，触控电极131可以用于实现包含阵列基板100的显示面板的触控功能。在互容式触控显示面板中，触控电极131可以用作互容式触控电极，例如作为触控发射电极，通过触控信号线112接收触控信号，与触控接收电极形成互电容，通过检测互电容的变化来确定触摸点。在自容式触摸显示面板中，触控电极131可以用作自容式触控电极，通过触控信号线112接收触控信号，并将在检测到触摸点时将由于自电容变化而产生的感应信号通过触控信号线112传递至触摸检测电路。
[0028]本实施例提供的阵列基板100，通过将触控信号线与阵列基板上已有的金属层同层设置，省去了触控信号线金属层的制作，在制作阵列基板时可以降低工艺复杂度。
[0029]进一步参考图2，其示出了本申请提供的阵列基板的一个实施例的结构示意图。如图2所示，阵列基板200包括呈阵列排布的像素单元203、沿像素单元203的行方向延伸的扫描线211以及沿像素单元203的列方向延伸的数据线221。在本实施例中，用于向触控电极传输触控信号的触控信号线212与扫描线所在的第一金属层同层设置。触控信号线212设置于相邻两行像素单元203之间，与显示区内的扫描线211绝缘且走线方向一致。在图2中，触控信号线212与扫描线211平行。在显示阶段，扫描线211接收栅极扫描电路输出的扫描信号，此时触控信号线212可以作为公共电极线为公共电极传输显示所需要的公共电压。由于扫描线211和触控信号线212绝缘，扫描线211和触控信号线212上的信号互不干扰，避免形成寄生电容影响显示效果，并且可以使用一道工序同时形成触控信号线212与扫描线211，降低了工艺成本，也减少了显示面板的膜层数量。
[0030]在本实施例的一些可选的实现方式中，阵列基板还包括形成于第一金属层和触控电极层之间的第一绝缘层。第一绝缘层上设有贯穿第一绝缘层的至少一个第一导通孔241，触控信号线212通过至少一个第一导通孔241与多个触控电极电连接。
[0031]进一步参考图3，其示出了图2所示阵列基板的局部剖面图。图3所示为沿图2中与数据线221平行线的S1剖开的切面示意图。如图3所示，阵列基板200包括衬底基板20，衬底基板20包括显示区201和非显示区202。阵列基板200还包括在垂直于衬底基板20的方向上排列的第一金属层21和第二金属层22。其中，第一金属层21用于形成阵列基板200的扫描线211，第二金属层22用于形成阵列基板200的数据线221。显示区201内设有多个呈阵列排布的像素单元。像素单元的行方向为扫描线211的延伸方向，像素单元的列方向为数据线221的延伸方向。阵列基板200还包括触控电极层23和触控信号线212。触控信号线212与第一金属层21同层设置。触控电极层23包括多个触控电极231。触控信号线212与一个触控电极231电相连，为触控电极231传输触控信号。
[0032]在本实施的一些可选的实现方式中，阵列基板200还包括形成于第一金属层21和触控电极层23之间的第一绝缘层24。第一绝缘层24上