触控驱动电极和触控检测电极之间的电容量。检测触摸点位置的方法为，对触控驱动电极依次输入触控驱动信号，触控检测电极同时输出触控检测信号，这样可以得到所有触控驱动电极和触控检测电极交汇点的电容值大小，即整个集成触控显示面板的二维平面的电容大小，根据触控显示面板二维电容变化量数据，可以计算出触摸点的坐标。
[0063 ]在触控阶段，触控电极可以作为触控驱动电极，也可以作为触控检测电极，接收或者输出触控信号。在显示阶段，触控电极复用为公共电极为阵列基板上的像素单元提供显示所需要的电压。进一步地，触控电极可以为条状电极，条状电极的延伸方向与数据线的延伸方向相同。多个条状电极可以沿与数据线相交的方向并列排布，例如可以沿与数据线垂直的方向并列排布，因而可以将控制电路与为显示像素提供显示信号的数据驱动电路设置在同一侧，有利于窄边框的设计。进一步地，触控电极用作触控驱动电极，在触摸检测时接收触控驱动信号。触控驱动信号可以为周期性的脉冲信号。
[0064]以上结合图2至图9具体描述了本申请提供的各实施例中触控信号线的设置方法，将触控信号线与第一金属层、第二金属层或TFT遮光金属层同层设置，在制作阵列基板时无需再制作触控电极线金属层，触控信号线和阵列基板上其他金属线线路可以同时成形，能够降低工艺复杂度，简化阵列基板的结构。
[0065]继续参考图10，其示出了本申请提供的触控显示面板的一个实施例的局部剖面图。如图10所示，触控显示面板1000可以包括阵列基板1和与阵列基板相对设置的彩膜基板
2。其中，阵列基板1可以为以上结合图2至图9描述的阵列基板，包括衬底基板1110。衬底基板1110包括显示区1001和非显示区1002。阵列基板1还包括在垂直于衬底基板1110的方向上排列的多个金属层。多个金属层至少包括第一金属层1010和第二金属层1020。其中，第一金属层1010用于形成阵列基板1000的扫描线1011(图1中仅示出一条)，第二金属层1020用于形成阵列基板1000的数据线1021。显示区1001内设有多个呈阵列排布的像素单元。像素单元的行方向为扫描线1011的延伸方向，像素单元的列方向为数据线1021的延伸方向。阵列基板1还包括触控电极层1030和多条触控信号线。触控电极层1030包括多个触控电极1031。触控信号线与一个触控电极1031电相连，为触控电极1031传输触控信号。触控信号线与至少一层上述多个金属层同层设置。如图1中，触控信号线1022可以与第二金属层1020同层设置。在其他实施例中，触控信号线1022也可以与第一金属层1010同层设置。
[0066]阵列基板1的非显示区1002内设有驱动电路。其中，用于扫描阵列基板1上的像素单元的栅极驱动电路与第一金属层1010同层设置，用于向数据线1021传递数据信号以使像素单元根据数据信号进行显示的驱动电路1023可以与第二金属层1020同层设置。
[0067]彩膜基板2上可以设有与触控电极1031交叉设置的接收电极1041。接收电极也可以为延伸方向与扫描线1011平行、沿与扫描线相交的方向并列排布的条状电极。接收电极1041用作触控感应电极，与触控电极1031形成互电容。在图10所示的触控显示面板中，触控电极1031可以设置于阵列基板1朝向彩膜基板2的一侧，接收电极1041可以设置在彩膜基板2背离阵列基板1的一侧上。当然不仅限于此种设置，也可以是:触控电极1031可以设置于阵列基板1朝向彩膜基板2的一侧，接收电极1041可以设置在彩膜基板2朝向阵列基板1的一侧上，等等其它可以形成互电容的设置方式。在触摸检测时，通过检测触控电极1031和接收电极1041之间互电容的变化来确定触摸点的位置。
[0068]本申请实施例还提供了一种触摸显示屏，包括以上结合图10描述的触控显示面板。
[0069]以上描述仅为本申请的较佳实施例以及对所运用技术原理的说明。本领域技术人员应当理解，本申请中所涉及的发明范围，并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案，同时也应涵盖在不脱离所述发明构思的情况下，由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本申请中公开的(但不限于)具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案。
【主权项】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括: 衬底基板，包括显示区和非显示区；在垂直于所述衬底基板的方向上排列的多个金属层； 所述多个金属层包括第一金属层和第二金属层； 所述第一金属层用于形成所述阵列基板的扫描线； 所述第二金属层用于形成所述阵列基板的数据线； 所述显示区内设有多个像素单元，所述像素单元呈阵列排布，所述像素单元的行方向为所述扫描线的延伸方向，所述像素单元的列方向为数据线的延伸方向； 触控电极层，所述触控电极层包括多个触控电极； 多条触控信号线，所述触控信号线与一个所述触控电极电相连，为所述触控电极传输触控信号； 所述触控信号线与至少一层所述多个金属层同层设置。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于， 所述触控信号线与所述第一金属层同层设置； 所述触控信号线设置于相邻两行所述像素单元之间，所述触控信号线与所述显示区内的扫描线绝缘且走线方向一致。3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于， 所述阵列基板还包括:形成于所述第一金属层和所述触控电极层之间的第一绝缘层；所述第一绝缘层上设有贯穿所述第一绝缘层的至少一个第一导通孔，所述触控信号线通过所述至少一个第一导通孔与多个所述触控电极电连接。4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述触控信号线与所述第二金属层同层设置，且所述触控信号线设置于相邻的两列所述像素单元之间； 所述触控信号线与所述显示区的数据线绝缘且走线方向一致。5.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括形成于所述第二金属层和所述触控电极层之间的第二绝缘层； 所述第二绝缘层上设有贯穿所述第二绝缘层的至少一个第二导通孔，所述触控信号线通过所述至少一个第二导通孔与所述触控电极电连接。6.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于， 所述多个金属层还包括薄膜晶体管遮光金属层，所述触控信号线与所述薄膜晶体管遮光金属层同层设置。7.根据权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述触控信号线与所述数据线或所述扫描线的走线方向一致。8.根据权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括形成于所述薄膜晶体管遮光金属层和所述触控电极之间的第三绝缘层； 所述第三绝缘层上设有贯穿所述第三绝缘层的至少一个第三导通孔， 所述触控信号线通过所述至少一个第三导通孔与所述触控电极电连接。9.根据权利要求3-8任意一项所述的阵列基板，其特征在于，所述第一导通孔或所述第二导通孔或所述第三导通孔位于相邻的两个所述像素单元之间。10.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于， 所述触控信号线与所述第二金属层同层设置，且所述触控信号线设置于所述非显示区内； 所述触控信号线与所述数据线在非显示区的部分绝缘且与任意相邻的数据线无交叉。11.根据权利要求10所述的阵列基板，其特征在于，还包括: 形成于所述第二金属层和所述触控电极层之间的第四绝缘层； 多个触控电极线垫，每个所述触控电极线垫与触控电极线 对应，且直接电相连； 所述触控电极线垫在所述触控电极层所在平面具有正投影，所述正投影位于所述触控电极层在非显示区域内的部分内； 所述第四绝缘层具有至少一个第四导通孔，所述触控信号线通过至少一个第四导通孔与所述触控电极电相连。12.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述触控电极在触控阶段用作触控电极，在显示阶段用作公共电极。13.根据权利要求12所述的阵列基板，其特征在于，所述触控电极为条状电极，所述条状电极的延伸方向与所述数据线的延伸方向相同，所述条状电极沿与所述数据线相交的方向并列排布。14.根据权利要求13所述的阵列基板，其特征在于，所述触控电极用作触控驱动电极，接收触控驱动信号。15.—种触控显示面板，其特征在于，包括权利要求1-14任一项所述的阵列基板以及与所述阵列基板相对设置的彩膜基板。16.—种触控显示装置，其特征在于，包括权利要求15所述的触控显示面板。
【专利摘要】本申请公开了阵列基板、触控显示面板及触控显示装置。所述阵列基板的一【具体实施方式】包括：衬底基板，包括显示区和非显示区；垂直于所述衬底基板的方向上排列的多个金属层；多个金属层包括第一金属层和第二金属层；第一金属层用于形成所述阵列基板的扫描线；第二金属层用于形成所述阵列基板的数据线；显示区内设有多个像素单元，像素单元呈阵列排布，像素单元的行方向为扫描线的延伸方向,像素单元的列方向为数据线的延伸方向；触控电极层，触控电极层包括多个触控电极；多条触控信号线，触控信号线与一个触控电极电相连，为触控电极传输触控信号；触控信号线与至少一层多个金属层同层设置。该实施方式能够降低阵列基板制作过程的工艺复杂度。
【IPC分类】G06F3/044, G06F3/041
【公开号】CN105468202
【申请号】CN201610063868
【发明人】简守甫, 曹兆铿, 夏志强
【申请人】上海中航光电子有限公司, 天马微电子股份有限公司
【公开日】2016年4月6日
【申请日】2016年1月29日