专利名称：Tft lcd玻璃基板的蚀刻装置及其蚀刻方法
技术领域：
本发明涉及一种TFT LCD玻璃基板的蚀刻装置及其蚀刻方法，尤其 涉及一种可于一次制程中同时完成两个承载匣的多个TFT LCD玻璃基板 的蚀刻，达到缩短蚀刻时间及简化蚀刻过程的TFTLCD玻璃基板的蚀刻 装置及其蚀刻方法。
背景技术：
一般现有技术，如中国台湾专利公报公告第543113号的r TFT LCD 用玻璃基板的自动蚀刻装置及蚀刻方法」，其自动蚀刻装置，主要包括一蚀刻槽，其内部设置有一多孔性起泡装置，于该起泡装置上侧并设 有一击板装置，该蚀刻槽内部注有一处理溶液，用以蚀刻装载于一蚀刻 卡匣内的薄膜晶体管液晶显示器用玻璃基板；一第一快速抛洗槽，其内部用以容置装栽蚀刻完成的薄膜晶体管液晶 显示器用玻璃基板主蚀刻卡匣，其内部并设置有一喷射超纯水的喷洒装 置， 一位于下部、用以喷射氮气的多孔性起泡装置，以及一上部的击板， 用以洗净该玻璃基板；一第二快速抛洗槽，使用与该第 一快速抛洗槽相同的方式反复洗净该 第一快速抛洗槽洗净完成的该玻璃基板，以将该玻璃基板表面彻底洗净； 以及一干燥槽，其内部用以容置装栽洗净完成的该玻璃基板主蚀刻卡匣， 并设有一喷嘴，用以喷射氮气，以干燥该玻璃基板。 而其自动蚀刻方法，主要包括以下步骤(A)提供一蚀刻槽，该蚀刻槽内部设置有一多孔性起泡装置，于该起 泡装置上側并设有一击板装置，将一装栽薄膜晶体管液晶显示器用玻璃 基板主蚀刻卡匣置于该蚀刻槽内，并注入一处理溶液，以蚀刻该玻璃基板；(B) 将装载蚀刻完成之薄膜晶体管液晶显示器用玻璃基板主蚀刻卡匣 置入一第 一快速抛洗槽内部，通过该第 一快速抛洗槽内部装设的喷射超 纯水的喷洒装置，位于底部、用以喷射氮气的多孔性起泡装置，以及一位于上部的击板，用以洗净该玻璃基板；(C) 将于该第一 快速抛洗槽洗净完成的该玻璃基板置入一第二快速抛 洗槽，并使用与该第 一快速抛洗槽相同的方式反复洗净该第 一快速抛洗 槽洗净完成的该玻璃基板，以将该玻璃基板表面彻底洗净；以及(D) 将装栽洗净完成的该玻璃基板的该蚀刻卡匣置入一干燥槽内，并 使用其内部设置的喷嘴喷射氮气，以干燥该玻璃基板。采用上述的装置及方法可使TFT LCD用玻璃基板实现自动蚀刻的效果。.虽然上述现有的r TFT LCD用玻璃基板的自动蚀刻装置及蚀刻方法J 可达到TFTLCD用玻璃基板的自动蚀刻，但是由于其进行蚀刻时， 一次 制程中仅能针对一个蚀刻卡匣内的TFTLCD玻璃基板进行蚀刻、二次清 洗及烘干等步骤，若要进行两个蚀刻卡匣内TFT LCD用玻璃基板的蚀刻， 则必须要于第 一 个蚀刻卡匣内的TFT LCD用玻璃基板于蚀刻槽中蚀刻之 后，以第一及第二快速抛洗槽进行二次清洗，且通过千燥槽予以烘干之 后，再取第二个蚀刻卡匣内的TFT LCD用玻璃基板于蚀刻槽中进行蚀刻、 二次清洗及烘干等步骤，而无法于一次制程中完成二个蚀刻卡匣内TFT LCD用玻璃基板的蚀刻，而造成蚀刻时间增加以及蚀刻过程繁复。发明内容本发明的主要目的在于提供一种可于一次制程中同时完成二个承载 匣的多个TFT LCD玻璃基板的蚀刻的TFT LCD玻璃基板的蚀刻装置及 其t虫刻方法。为实现上迷目的，本发明釆用如下技术方案 一种TFTLCD玻璃基 板的蚀刻装置及其蚀刻方法，该蚀刻装置包含至少两个可供承栽欲蚀刻 TFT LCD玻璃基板的承载匣；两个分别连接液体供应单元、 一气体供应 单元及药剂供应单元的蚀刻清洗槽； 一分别与液体供应单元及一气体供 应单元连接的清洗槽；以及一分别与一气体供应单元连接的干燥槽所构 成；而其蚀刻方法至少包含下列步骤步骤一提供至少第一及第二承载匣与第一及第二蚀刻清洗槽，而该 第一及第二蚀刻清洗槽连接一液体供应单元、 一气体供应单元及一药剂供应单元；步骤二先于第一承栽匣中放置多个TFTLCD玻璃基板，将第一承 载匣移入第 一蚀刻清洗槽中，并使第 一蚀刻清洗槽利用液体供应单元、 气体供应单元及药剂供应单元对第 一承载匣中的多个TFT LCD玻璃基板 进行蚀刻并作初步清洗；步骤三将蚀刻及初步清洗后的第 一承载匣移入于连接有液体供应单 元及气体供应单元的清洗槽中，进行二次清洗，并同时于第二承载匣中 放置多个TFTLCD玻璃基板，将第二承载匣移入第二蚀刻清洗槽中，并 使第二蚀刻清洗槽以液体供应单元、气体供应单元及药剂供应单元对第二承载匣中的多个TFT LCD玻璃进行蚀刻并作初步清洗；步骤四将清洗完成后第 一承栽匣中的多个TFT LCD玻璃基板移入 于分别连接气体供应单元的干燥槽中，进行烘干，进而完成第一承载匣 中多个TFTLCD玻璃基板的蚀刻，并同时将蚀刻及初步清洗后第二承载 匣中的多个TFT LCD玻璃基板移入于上述清洗槽中进行二次清洗；以及 步骤五再将清洗完成后第二承载匣中的多个TFT LCD玻璃基板置 入于上述干燥槽中，进行烘干，进而完成第二承载匣中多个TFTLCD玻 璃基板的蚀刻。本发明可以于一次制程中同时完成两个承载匣的多个TFT LCD玻璃 基板的蚀刻，达到缩短蚀刻时间及简化蚀刻过程的效果。
图1是本发明的基本架构示意图。图2是本发明的蚀刻清洗槽示意图。闺3是本发明的清洗槽示意图。图4是本发明的干燥槽示意图。图5是本发明蚀刻的使用方法示意图。主要组件符号说明
第一蚀刻清洗槽1 液体供应单元10 第二承载匣101a 药剂供应单元12 泵131、 131a、 20 推出口 133、 133a、 29 进水管14、 14a 暂存槽17下喷嘴组19、 19a、 27 进水管22 干燥槽3 风刀组33第二蚀刻清洗槽la 第一承载匣101 气体供应单元11 冲击单元13、 13a、 28 吸入口 132、 132a、 30 冲击板134、 134a、 281 出水管15、 15a 上喷嘴组18、 18a、 26清》:先槽2出水管23 排水管32TFT玻璃基板4、 4a具体实施方式
如图l-4所示本发明是一种TFT LCD玻璃基板的蚀刻装置，其由 至少两个承载匣101、 101a、两个蚀刻清洗槽1、 la、 一清洗槽2、以及 一干燥槽3所构成，可于一次制程中同时完成两个承载匣的多个TFT LCD玻璃基板的蚀刻，达到缩短蚀刻时间及简化蚀刻过程的效果。上述的承栽匣101、 101a可供承栽欲蚀刻的TFTLCD玻璃基板，而 各承载匣101、 101a可至少定义为一第一承栽匣101及一第二承载匣 101a。各蚀刻清洗槽1、la可至少定义为一第一蚀刻清洗槽1及一第二蚀刻 清洗槽la，各蚀刻清洗槽l、 la可供容置上述承载TFTLCD玻璃基板的 第一及第二承载麼101、 101a，且该第一及第二蚀刻清洗槽1、 la分别连 接一液体供应单元10、 一气体供应单元11及一药剂供应单元12，且该 第一及第二蚀刻清洗槽l、 la的两側分别具有连接一泵131、 131a的冲击 单元13、 13a，各沖击单元13、 13a分别具有一推出口 133、 133a,并于 推出口 133、 133a处具有一设置于第一及第二蚀刻清洗槽1、 la两侧的冲 击板134、 134a,且该沖击板B4、 134a上具有多个孔隙，并于第一及第 二蚀刻清洗槽l、 la的底部两侧分别具有一吸入口 132、 132a且亦与该泵 131、 131a相连接；另该第一及第二蚀刻清洗槽1、 la分别连通有一进水 管14、 14a、出水管15、 15a，且各进水管14、 14a与该药剂供应单元12 连接，另各出水管15、 15a分别与一连接该药剂供应单元12的暂存槽17 连接，并于该第一及第二蚀刻清洗槽内部1、 la的一端分别具有一与液体 供应单元10连通的上喷嘴组18、 18a,且另一端分别具有一与液体供应 单元IO及一气体供应单元11连通的下喷嘴组19、 19a。该清洗槽2分别与上述液体供应单元IO及一气体供应单元11连接， 可供容置上述承载TFT LCD玻璃基板的第一及第二承载匣101、 101a, 且该清洗槽2连通有一进水管22、出水管23,该进水管22连接于液体 供应单元10而出水管23供排废水之用，并于该清洗槽2内部的两侧分 别具有连接一泵20的冲击单元28,各冲击单元28分别具有一推出口 29, 并于推出口 29处具有一设置于清洗槽2两側的冲击板281,且该冲击板281上具有多个孔隙，并于清洗槽2的底部具有一吸入口 30且与该泵20 估文连接，并于该清洗槽2内部的一端具有一与液体供应单元IO连通的上 喷嘴组26,且该清洗槽2的底部具有与气体供应单元11及液体供应单元 10连通的下喷嘴组27。该干燥槽3与上述气体供应单元11连接，可供容置上述承载TFT LCD玻璃基板的第一及第二承栽匣101、 101a，而该干燥槽3连通有一排 水管32,且该干燥槽3内部的两側分别具有与气体供应单元11连通的风 刀组33。这样，采用上述的结构就构成一种全新的TFTLCD玻璃基板的 蚀刻装置。如图5所示本发明TFTLCD玻璃基板的蚀刻方法，其至少运用下 列步骤步骤一提供具有上述第一及第二承栽匣101、 101a、第一及第二蚀 刻清洗槽、1、 la、清洗槽2与干燥槽3构造的蚀刻装置。步骤二先于第一承载匣101中放置多个TFT LCD玻璃基板4,并 将该第一承载匣101移入第一蚀刻清洗槽1，由药剂供应单元12配合进 水管14做为第一蚀刻清洗槽1中药剂的供应，并启动泵131，使沖击单 元13利用其吸入口 132及推出口 133及沖击板134，以一吸一推并且利 用孔隙产生挤压的方式使药剂均勻产生撞击，同时以气体供应单元11所 连通的下喷嘴组19做为蚀刻时产生气泡之用，使该产生的气泡可由第一 蚀刻清洗槽1下方冲击TFTLCD玻璃基板4表面及盲孔中的残渣，从而 利用第一蚀刻清洗槽1对TFT LCD玻璃基板4进行蚀刻，并使第一蚀刻 清洗槽1的出水管15将蚀刻后的药剂传输至暂存槽17做为暂存及回收； 之后由液体供应单元IO配合上喷嘴组18与下喷嘴組19做为清洗液的供 应，且由与气体供应单元11连通的下喷嘴组19做为清洗时产生气泡之 用，使该气泡的产生可由第一蚀刻清洗槽1下方冲击TFTLCD玻璃基板4表面及盲孔中的残渣，并启动泵131，使冲击单元13利用其吸入口 132、 推出口 133及沖击板134，以一吸一推并且利用孔隙产生4齐压的方式使清 洗液均匀产生撞击，从而利用第一蚀刻清洗槽1对TFT LCD玻璃基板4 进行作初步清洗。步骤三将蚀刻及初步清洗后第一承载匣101中的TFTLCD玻璃基 板4移入于清洗槽2，使该清洗槽2利用上喷嘴组26与下喷嘴组27配合 液体供应单元IO做为清洗液的供应，且以该清洗槽2底部的下喷嘴组27 配合气体供应单元11做为清洗液供应时产生气泡之用，使该产生的气泡 可由清洗槽2下方沖击TFTLCD玻璃基板4表面及盲孔中的残渣，并启 动泵20,使冲击单元28利用其吸入口 30、推出口 29及沖击板281,以 一吸一推并且利用孔隙产生挤压的方式使清洗液均匀产生撞击，而对TFT LCD玻璃基板4进行二次清洗，而该出水管23做为清洗后排放废水之用； 并同时于第二承栽匣101a中再放置多个TFT LCD玻璃基板4a,利用药 剂供应单元12配合进水管14a做为第二蚀刻清洗槽la中药剂的供应，并 启动泵131a，使沖击单元13a利用其吸入口 132a、推出口 133a及冲击板 134a,以一吸一推并且利用孔隙产生挤压的方式使药剂均匀产生撞击，且 同时以气体供应单元11所连通的下喷嘴组19a做为蚀刻时产生气泡之用， 使该产生的气泡可由第二蚀刻清洗槽la下方冲击TFT LCD玻璃基板4a 表面，从而利用第二蚀刻清洗槽la对TFTLCD玻璃基板4a进行蚀刻， 并使第二蚀刻清洗槽la的出水管15a将蚀刻后的药剂传输至暂存槽17 做为暂存及回收；之后由液体供应单元IO配合上喷嘴组18a与下喷嘴组 19a做为清洗液的供应，且由与气体供应单元11连通的下喷嘴组19a做为清洗时产生气泡之用，使该产生的气泡可由第二蚀刻清洗槽la下方冲 击TFT LCD玻璃基板4a表面及盲孔中的残渣，并启动沖泵131a，使沖 击单元13a利用其吸入口 132a、推出口 133a及冲击板134a，以一吸一推并且利用孔隙产生挤压的方式使清洗液均匀产生撞击，通过利用第二蚀刻清洗槽la对TFT LCD玻璃基板4a进行作初步清洗。步骤四将清洗完成后第一承载匣101中的TFT LCD玻璃基板4置 入于干燥槽3中，利用该干燥槽3内部两侧的风刀组33配合气体供应单 元11产生风力做为进行烘干使用，并使烘干时所滴落的废水由该干燥槽 3的排水管32排放出去，从而完成TFTLCD玻璃基板4的蚀刻；并同时 将第二承载匣ioia中蚀刻及初步清洗后的TFT LCD玻璃基板4a移入于 上述清洗槽2中，使该清洗槽2利用上喷嘴组26与下喷嘴组27配合液 体供应单元10做为清洗液的供应，且以该清洗槽2底部的下喷嘴组27 配合气体供应单元ll做为清洗液供应时产生气泡之用，使该产生的气泡 可由清洗槽2下方冲击TFT LCD玻璃基板4a表面及盲孔中的残渣，并启 动泵20,使沖击单元28利用其吸入口 30、推出口 29及冲击板281,以 一吸一推并且利用孔隙产生挤压的方式使清洗液均匀产生撞击，而对TFT LCD玻璃基板4a进行二次清洗，而该出水管23做为清洗后废水排放之 用。步骤五再将清洗完成后第二承载匣101a中的TFT LCD玻璃基板 4a移入于上述干燥槽3中，利用该干燥槽3内部两侧的风刀组33配合气 体供应单元11产生风力做为进行烘千使用，并使烘干时所滴落的废水由 该干燥槽3的排水管32排放出去，从而完成TFT LCD玻璃基板4a的蚀刻。综上所述，本发明TFTLCD玻璃基板的蚀刻装置及其蚀刻方法可有 效改进现有技术的种种缺点，可于一次制程中同时完成两个承载度的多 个TFT LCD玻璃基板的蚀刻，达到缩短蚀刻时间及简化蚀刻过程的效果。
权利要求
1. 一种TFT LCD玻璃基板的蚀刻装置，其特征在于，其包括有至少两个承载匣，各承载系可供承载欲蚀刻的TFT LCD玻璃基板；至少两个蚀刻清洗槽，各蚀刻清洗槽可供容置上述承载TFT LCD玻璃基板的承载匣，且各蚀刻清洗槽分别连接一液体供应单元、一气体供应单元及一药剂供应单元；一清洗槽，该清洗槽可供容置上述承载TFT LCD玻璃基板的承载匣，且该清洗槽分别与上述液体供应单元及气体供应单元连接；以及一干燥槽，该干燥槽可供容置上述承载TFT LCD玻璃基板的承载匣，该干燥槽与上述气体供应单元连接。
2、 根据权利要求1所述的TFTLCD玻璃基板的蚀刻装置，其特征在 于，该各蚀刻清洗槽可至少定义为 一第 一蚀刻清洗槽及一第二蚀刻清洗 槽。
3、 根据权利要求1所述的TFTLCD玻璃基板的蚀刻装置，其特征在 于，各蚀刻清洗槽分别连通有一进水管、出水管，且各进水管与该药剂 供应单元连接，另各出水管分别与 一连接该药剂供应单元的暂存槽连接。
4、 根据权利要求1所迷的TFTLCD玻璃基板的蚀刻装置，其特征在 于，各蚀刻清洗槽的两側分别具有连接一泵的冲击单元，各冲击单元分 别具有一推出口 ，且推出口处具有一设置于蚀刻清洗槽两侧的沖击板， 且该冲击板上具有多个孔隙，并于各蚀刻清洗槽的底部两侧分别具有一 吸入口且也与该泵相连"l妄。
5、 根据权利要求1所述的TFT LCD玻璃基板的蚀刻装置，其特征在 于，各蚀刻清洗槽内部的一端分别具有一与液体供应单元连通的上喷嘴组， 且另一端分别具有一与液体供应单元及气体供应单元连通的下喷嘴组。
6、 根据权利要求1所述的TFTLCD玻璃基板的蚀刻装置，其特征在 于，该清洗槽连通有一进水管、出水管，且该出水管排放清洗后废水。
7、 根据权利要求1所述的TFTLCD玻璃基板的蚀刻装置，其特征在 于，该清洗槽内部的一端分别具有一与液体供应单元连通的上喷嘴组， 且另一端分别具有一与液体供应单元及气体供应单元连通的下喷嘴组。
8、 根据权利要求1所述的TFTLCD玻璃基板的蚀刻装置，其特征在 于，该干燥槽连通有一排水管。
9、 根据权利要求1所述的TFTLCD玻璃基板的蚀刻装置，其特征在 于，该干燥槽内部的两侧分别具有与气体供应单元连通的风刀组。
10、 一种TFTLCD玻璃基板的蚀刻方法，其特征在于，其至少包括 有下列步骤步骤一提供至少第一及第二蚀承载匣与第一及第二蚀刻清洗槽，而 该第一及第二蚀刻清洗槽连接一液体供应单元、 一气体供应单元及一药 剂供应单元；步骤二先于第一承栽匣中放置多个TFTLCD玻璃基板，将第一承 载匣移入第 一蚀刻清洗槽中，并使第 一蚀刻清洗槽利用液体供应单元、 气体供应单元及药剂供应单元对第 一承栽匣中的多个TFT LCD玻璃基板 进行蚀刻并作初步清洗；步骤三将蚀刻及初步清洗后的第 一承载匣移入于连接有液体供应单 元及气体供应单元的清洗槽中，进行二次清洗，并同时于第二承栽匣中 放置多个TFTLCD玻璃基板，将第二承载匣移入第二蚀刻清洗槽中，并 使第二蚀刻清洗槽以液体供应单元、气体供应单元及药剂供应单元对第 二承载匣中的多个TFT LCD玻璃基板进行蚀刻并作初步清洗；步骤四将清洗完成后第一承载匣中的多个TFT LCD玻璃基板移入 于连接气体供应单元的干燥槽中，进行烘干，从而完成第一承栽匣中多 个TFTLCD玻璃基板的蚀刻，并同时将蚀刻及初步清洗后第二承栽匣中 的多个TFTLCD玻璃基板移入于上述清洗槽中进行二次清洗；以及步骤五再将清洗完成后第二承栽匣中的多个TFT LCD玻璃基板置 入于上述干燥槽中，进行烘干，从而完成第二承栽匣中多个TFTLCD玻 璃基板的蚀刻。
11、 根据权利要求IO所述的TFTLCD玻璃基板的蚀刻方法，其特征 在于，该第一及第二蚀刻清洗槽分别连通有一进水管、出水管，各进水 管与该药剂供应单元连接，做为药剂供应，另各出水管分别与一连接该 药剂供应单元的暂存槽连接，做为药剂的暂存及回收。
12、 根据权利要求IO所述的TFTLCD玻璃基板的蚀刻方法，其特征 在于，该第 一及第二蚀刻清洗槽的两側分别具有连接一泵的冲击单元， 各沖击单元具有一推出口 ，且推出口处具有一设置于蚀刻清洗槽两侧的 冲击板，且该冲击板上具有多个孔隙，并于各蚀刻清洗槽的底部两侧分 别具有一吸入口且亦与该泵相连接，可利用一吸一推的方式使药剂均匀 产生撞击。
13、 根据权利要求IO所述的TFTLCD玻璃基板的蚀刻方法，其特征 在于，该第 一及第二蚀刻清洗槽内部的一端分别具有一与液体供应单元 连通的上喷嘴组，做为做为清洗液的供应，且另一端分别具有一与液体 供应单元及气体供应单元连通的下喷嘴组，做为清洗液供应时产生气泡 之用。
14、 根据权利要求IO所述的TFTLCD玻璃基板的蚀刻方法，其特征 在于，该清洗槽连通有一进水管、出水管，且该出水管排放清洗后的废水。
15、 根据权利要求IO所述的TFTLCD玻璃基板的蚀刻方法，其特征 在于，该清洗槽内部的一端分别具有一与液体供应单元连通的上喷嘴組， 且另一端分别具有一与液体供应单元及气体供应单元连通的下喷嘴组， 做为清洗液供应时产生气泡之用。
16、 根据权利要求IO所述的TFTLCD玻璃基板的蚀刻方法，其特征 在于，该干燥槽连通有一排水管，用于排放烘干时所滴落的废水。
17、 根据权利要求IO所述的TFTLCD玻璃基板的蚀刻方法，其特征 在于，该干燥槽内部的两侧分别具有与气体供应单元连通的风刀组，用 以产生风刀做为烘干使用。
全文摘要
本发明公开了一种TFT LCD玻璃基板的蚀刻装置及其蚀刻方法，该装置包含两个承载匣、两个蚀刻清洗槽、清洗槽及干燥槽；其方法于一承载匣中放置多个TFT LCD玻璃基板于蚀刻清洗槽进行蚀刻及初步清洗；之后将承载匣移入清洗槽中进行二次清洗，并同时于另一承载匣中放置多个TFT LCD玻璃基板放置于另一蚀刻清洗槽进行蚀刻及初步清洗；将清洗后承载匣中的TFT LCD玻璃基板放置于干燥槽中进行烘干，并同时使另一承载匣移入清洗槽中进行多个TFT LCD玻璃基板的二次清洗；再将清洗后另一承载匣中的多个TFT LCD玻璃基板于干燥槽中进行烘干；这样就可以于一次制程中同时完成两个承载匣的多个TFT LCD玻璃基板的蚀刻，达到缩短蚀刻时间及简化蚀刻过程的效果。
文档编号H01L21/02GK101255012SQ20071008031
公开日2008年9月3日 申请日期2007年2月27日 优先权日2007年2月27日
发明者王泊可 申请人:睿明科技股份有限公司