专利名称：真空腔体隔离装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种真空腔体隔离装置，尤其涉及一种适用于对真空腔体内的处 理板及蒸发源进行隔离的真空腔体隔离装置。
背景技术：
0LED，即有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode)，又称为有机电激光 显示(Organic Electroluminesence Display，0ELD)。因为具备轻薄、省电等特性，因此在 数码产品的显示屏上得到了广泛应用，并且具有较大的市场潜力，目前世界上对OLED的应 用都聚焦在平板显示器上，因为OLED是唯一在应用上能和TFT-IXD相提并论的技术，OLED 是目前所有显示技术中，唯一可制作大尺寸、高亮度、高分辨率软屏的显示技术，可以做成 和纸张一样的厚度。其中，在OLED的制作流程中，真空镀膜工艺是OLED制作流程中一个很 重要的工艺，真空镀膜是指在真空腔体中把蒸发源加热蒸发或用加速离子轰击溅射，沉积 到基片表面形成单层或多层薄膜。因为它是关系到OLED的品质高低及寿命长短的最重要 因素之一，所以应用于真空镀膜工艺上的各种设备必须满足真空镀膜工艺的精度要求。现在的蒸镀工艺都需要经历抽真空、加热及镀膜等一系列过程，而在镀膜之前的 加热过程中，在未达到蒸发物的蒸发温度时就会有蒸发源将杂质蒸发掉，另有一些蒸发物 在加热蒸发过程中会释放出气体。这些杂质和不稳定的气体扩散会造成薄膜厚度不均、组 分不净、性能不稳、应力较大、附着不牢固等缺点，影响镀膜质量，薄膜质量侧直接影响显示 器件的发光效率。一般的镀膜设备在真空腔体内的蒸发源和处理板之间没有采取相应的保护措施， 此种镀膜设备已经不能满足生产工艺的需要。现在虽然出现了一些通过在蒸发源和处理 板之间设置挡板，通过控制挡板的打开及关闭来隔离杂质的隔离装置来解决上述问题，但 这些挡板及控制挡板的机构都会被设置在真空腔体内，这些在腔体内部的挡板控制机构很 容易造成真空污染，控制机构性能老化等问题，也有另外一些设置在真空腔体外的其他挡 板控制机构，如手轮、电机驱动等，但上述结构都具自动化程度低，结构复杂，生产成本较高 等缺点。因此，需要一种能最大限度地提高有机发光二极管基片镀膜层的均勻性且能最大 程度地保证了基片镀膜层的成分纯净性的真空腔体隔离装置。
实用新型内容本实用新型的目的在于提供一种能最大限度地提高有机发光二极管基片镀膜层 的均勻性且能最大程度地保证了基片镀膜层的成分纯净性的真空腔体隔离装置。为了实现上述目的，本实用新型提供一种真空腔体隔离装置，适用于对提供真空 镀膜的真空腔体内的处理板及蒸发源进行隔离，所述控制机构包括推动轴、推动板及直线 驱动装置，所述推动轴的一端密封地穿入所述真空腔体内并与所述挡盖固定连接，所述挡 盖容置于所述真空腔体内且位于真空腔体内的蒸发源与处理板之间，所述推动轴的另一端
3与所述推动板固定连接，所述推动板位于所述真空腔体外，所述直线驱动装置安装于所述 真空腔体的腔壁上并位于所述真空腔体外，所述直线驱动装置的输出轴与所述推动板固定 连接且相互垂直，所述直线驱动装置做直线往复运动并驱动所述挡盖隔离或开通所述蒸发 源与所述处理板的空间连接。较佳地，所述控制机构还包括波纹管，所述波纹管套于所述推动轴上且一端与所 述真空腔体的腔壁密封连接，另一端与所述推动板密封连接。由于所述真空腔体在蒸镀过 程中是处于密封状态的，所述推动轴穿过所述真空腔体时会形成缝隙，在所述推动轴套上 一密封的波纹管可防止外界的杂质从缝隙进入所述真空腔体内部，对所述真空腔体起到密 封作用。较佳地，所述挡盖具有对接板及安装板，所述对接板与所述安装板垂直固定连接， 所述安装板与所述真空腔体的两腔壁及底面相抵触。利用所述对接板与所述安装面板，当 挡盖进行隔离时，所述对接板、所述安装板与所述真空腔体腔壁形成密封的隔离腔，起到密 封隔离的作用。较佳地，所述真空腔体隔离装置还包括导向机构，所述导向机构包括导向轴及支 撑板，所述真空腔体的腔壁上固定有安装所述直线驱动装置的固定板，所述导向轴的一端 枢接地穿过所述推动板并与所述固定板垂直地固定连接，所述导向轴的另一端与所述支撑 板垂直地固定连接，所述支撑板、推动板及固定板相互平行，所述导向轴与所述推动轴及直 线驱动装置的输出轴相互平行。通过所述固定板及所述支撑板将所述导向轴固定于所述真 空腔体外，为所述推动板提供了导向作用，从而保证了挡盖运动的平稳性和方向的正确性， 另外，所述固定板设置于所述真空腔体的腔壁上很好的保障了整个真空腔体的强度。较佳地，所述导向机构还包括直线轴承，所述直线轴承固定于推动板上且套于所 述导向轴上。由于所述导向轴为所述推动轴提供导向作用，所述推动轴沿所述导向轴作往 复运动时，所述推动板与所述导向轴产生滑动摩擦，设置所述直线轴承可减少摩擦，使所述 推动轴运动时更加平稳畅顺。较佳地，所述导向轴至少为两根，所述导向轴以所述推动轴为中心分别对称的垂 直固定于所述固定板上。两根所述导向轴为所述推动板提供了导向作用，从而保证了挡盖 运动的平稳性和方向的正确性。较佳地，所述直线驱动装置为汽缸式马达。利用汽缸的直线往复运动为所述推动 板及所述推动轴提供直线运动的动力，可实现对所述挡板在真空腔体的打开及关闭。较佳地，所述挡盖具有以惰性材质制成的表面。当所述挡盖处于隔离状态时，所述 挡盖直接面对所述蒸发源，杂质、待蒸镀及气化的蒸发材料粘会附于所述挡盖的表面上，所 述挡盖具有惰性材质的表面可防止杂质、待蒸镀或者气化的蒸发材料与所述挡盖上的材料 发生化学反应，保证了真空腔体内的洁净状态，从而保障了待蒸镀膜层不会发生污染及变 质。与现有技术相比，由于本实用新型所述挡盖与所述推动轴连接，所述推动轴与所 述推动板连接，而所述推动板又与所述直线驱动装置连接，通过所述直线驱动装置的往复 运动，推动所述推动板进而推动所述推动轴及所述挡盖，使所述挡盖在所述真空腔体内能 往复地平移，从而达到在真空镀膜前对处理板及蒸发源进行隔离的目的，防止在真空镀膜 前的加热过程中，杂质及不稳定的气体扩散对基片镀膜层的造成不利影响，使基片镀膜层
4厚度更均勻，成分更纯净，性能更稳定，且使基片镀膜层与基片表面的连接更牢固和可靠， 因此提高了基片镀膜层的品质及延长了使用寿命。
图1是本实用新型真空腔体隔离装置第一种实施例的结构示意图。图2图1所示真空腔体隔离装置第一种实施例的延伸实施例的结构示意图。图3是本实用新型真空腔体隔离装置第二种实施例的结构示意图。图4图3所示真空腔体隔离装置第二种实施例的延伸实施例的结构示意图。图5是本实用新型真空腔体隔离装置第三种实施例的结构示意图。图6图5所示真空腔体隔离装置第三种实施例的延伸实施例的结构示意图。
具体实施方式
如图1所示为本实用新型的第一种实施例，如图所示，真空腔体隔离装置100包括 真空腔体1，两挡盖2、两导向机构3及两控制机构4，两挡盖2、两所述导向机构3及两控制 机构4分别设置于所述真空腔体1的两侧，所述真空腔体1呈中空密封结构，所述蒸发源 (图中未示)与所述处理板(图中未示)设置于所述真空腔体1内，且所述处理板位于所述 蒸发源上方，所述挡盖2以一种金属材料制成，也可以由两种材料通过焊接或螺栓紧固等 方式制成，具有对接板21及安装板22，所述对接板21与所述安装板22垂直固定连接，所 述安装板22与所述真空腔体1的两腔壁及底面相接触，所述挡盖2内置于所述真空腔体1 内且位于所述蒸发源与所述处理板之间，其表面镀上惰性材料，保障待蒸镀膜层不会发生 污染及变质，所述导向机构3包括导向轴31及支撑板32，所述控制机构4包括推动轴41、 设有直线轴承42a的推动板42、波纹管43及汽缸44。所述真空腔体1的外腔壁具有固定 板11，所述固定板11固定于所述真空腔体1的腔壁上，所述导向轴31 —端与所述固定板 11垂直地固定连接，另一端与所述支撑板31垂直地固定连接，所述导向机构3为所述推动 轴41提供导向作用，保证了挡盖2运动平稳和方向正确。所述推动轴41 一端密封地穿入 所述真空腔体1的腔壁并与所述挡盖2垂直地固定连接，所述推动轴41的另一端与所述推 动板42垂直地固定连接，所述推动板42上的所述直线轴承42a套接于所述推动轴41上， 可减小所述推动板42与所述推动轴41之间的摩擦，所述汽缸44的缸体固定于所述推动板 42上，所述汽缸44的活塞杆穿过推动板42垂直地固定于所述支撑板32上，所述波纹管43 套接于所述推动轴41上，一端与所述真空腔体1腔壁密封连接，另一端与所述推动板42密 封连接。密封连接的波纹管43可防止外界的杂质进入所述真空腔体1内部，对所述真空腔 体1起到密封作用。下面对实施例一的真空腔体隔离装置的工作原理进行详细描述隔离前，两所述挡盖1分离，真空腔体隔离装置100处于打开状态，蒸镀前蒸发源 加热，为了防止处理板上的基片被杂质及不稳定的气体污染，需要将蒸发源与处理板隔离， 这时启动两侧的所述汽缸44，汽缸44缸体充气，推动活塞杆伸出缸体，由于活塞杆与所述 支撑板32固定，因此所述汽缸44缸体向后运动带动所述推动板42，在所述直线轴承42a的 辅助下，所述推动板42向靠近所述真空腔体1的方向运动并压缩所述波纹管43，进而带动 所述推动轴41伸入所述真空腔体1腔体内，两所述挡盖2在所述推动轴41的推动下相互
5靠近，直到两所述挡盖2的所述对接板21接触将所述真空腔体1及蒸发源隔离。当不需要 隔离时，启动所述汽缸44，控制所述汽缸44的活塞杆往与打开时的运动方向相反的方向运 动，即可将所述挡盖2打开。如图2所示，为第一种实施例的延伸实施例，所述真空腔体隔离装置200利用一所 述控制机构4及一所述导向机构3控制一挡盖2’来实现对蒸发源及处理板的隔离，与上 述实施例一的工作原理相同，不同之处在于真空腔体1内还设有一隔离板12，对于同样的 蒸发源，挡盖2’比实施例一中的所述挡盖2的面积大，且该延伸实施例可以根据蒸发源的 位置设置所述汽缸44的行程，隔离时，挡盖2’运动直到与所述真空腔体1的腔壁接触，使 所述隔离板12、所述挡盖2’与腔壁组成一隔离腔将蒸发源隔离，从而实现对蒸发源及处理 板完全隔离。如图3及图4所示，本实用新型的第二种实施例及其延伸实施例，该实施例真空腔 体隔离装置300及其延伸实施例的真空腔体隔离装置400与第一种实施例的真空腔体隔离 装置100及其延伸实施例的真空腔体隔离装置200的组件结构及工作原理基本相同，不同 点在于所述汽缸44缸体固定于所述固定板11上，活塞杆固定于所述推动板42上，其达到 的最终效果与第一种实施例相同，因此不再详细描述。如图5所示，为本实用新型的第三种实施例，如图所示，真空腔体隔离装置500包 括真空腔体1，两挡盖2及两控制机构4，两控制机构4分别设置于所述真空腔体1的两侧， 包括推动轴41、推动板42’、波纹管43及汽缸44，所述推动轴41 一端自由穿过所述真空腔 体1的腔壁并伸入所述真空腔体1内与所述挡盖2垂直地固定连接，所述推动轴41的另一 端与所述推动板42’垂直地固定连接，所述汽缸44的缸体固定于所述固定板11上，活塞杆 固定于所述推动板42’上，所述波纹管43套接于所述推动轴41上，一端与所述真空腔体1 腔壁密封连接，另一端与所述推动板42’密封连接。隔离前，活塞杆伸出所述汽缸44，真空 腔体1处于非隔离状态，隔离时启动两侧的所述汽缸44，活塞杆缩进汽缸44缸体，由于缸体 与所述固定板11固定，因此活塞杆带动所述推动板42’，所述推动板42’向靠近所述真空腔 体1的方向运动并压缩所述波纹管43，进而带动所述推动轴41伸入所述真空腔体1腔体 内，两所述挡盖2在所述推动轴41的推动下相互靠近，直到两所述挡盖2的对接板21接触 将所述真空腔体1及蒸发源隔离。当不需要隔离时，启动所述汽缸44，控制所述汽缸44的 活塞杆往与打开时的运动方向相反的方向运动，即可将所述挡盖2打开。如图6所示，为第三种实施例的延伸实施例，真空腔体隔离装置600利用一所述 控制机构4控制一挡盖2’来实现对蒸发源及处理板的隔离，与上述第三种实施例的工作原 理相同，不同之处在于真空腔体1内还设有一隔离板12，对于同样的蒸发源，挡盖2’比第 三种实施例中的所述挡盖2的面积大，且该延伸的实施例可以根据蒸发源的位置设置所述 汽缸44的行程，隔离时，挡盖2’运动直到与所述真空腔体1的腔壁接触，使所述隔离板12、 所述挡盖2’与腔壁组成一隔离腔将蒸发源隔离，从而实现对蒸发源及处理板完全隔离。由于本实用新型所述挡盖2与所述推动轴41连接，所述推动轴41与所述推动板 42连接，而所述推动板42又与所述汽缸44连接，通过所述汽缸44的往复运动，推动所述 推动板42进而推动所述推动轴41及所述挡盖2，使所述挡盖2在所述真空腔体1内能往 复地平移，从而达到在真空镀膜前对处理板及蒸发源进行隔离的目的，防止在真空镀膜前 的加热过程中，杂质及不稳定的气体扩散对基片镀膜层造成不利影响，且通过在所述推动
6轴41上套接密封波纹管43，可防止外界的杂质从所述推动轴41与所述真空腔体1之间的 缝隙进入所述真空腔体1内部，对所述真空腔体1起到密封作用，并在所述挡盖2表面镀上 惰性材质的可防止杂质、待蒸镀或者气化的蒸发材料与所述挡盖2自身的材料发生化学反 应，保证了真空腔体1内的洁净状态，从而保障了待蒸镀膜层不会发生污染及变质，使基片 镀膜层厚度更均勻，成分更纯净，性能更稳定，与基片表面的连接更牢固可靠，提高了基片 镀膜层的品质及延长了基片的使用寿命。本实用新型真空腔体隔离装置100所涉及到的真空腔体1及挡盖2的尺寸大小及 安装方法均为本领域普通技术人员所熟知，在此不再做详细的说明。以上所揭露的仅为本实用新型的较佳实例而已，当然不能以此来限定本实用新型 之权利范围，因此依本实用新型申请专利范围所作的等同变化，仍属于本实用新型所涵盖 的范围。
权利要求一种真空腔体隔离装置，适用于对提供真空镀膜的真空腔体内的处理板及蒸发源进行隔离，所述真空腔体隔离装置包括挡盖及控制机构，所述控制机构包括推动轴、推动板及直线驱动装置，所述推动轴的一端密封地穿入所述真空腔体内腔壁并与所述挡盖固定连接，所述挡盖容置于所述真空腔体内且位于真空腔体内的蒸发源与处理板之间，所述推动轴的另一端与所述推动板固定连接，所述推动板位于所述真空腔体外，所述直线驱动装置安装于所述真空腔体的腔壁上并位于所述真空腔体外，所述直线驱动装置的输出轴与所述推动板固定连接且相互垂直，所述直线驱动装置做直线往复运动并驱动所述挡盖隔离或开通所述蒸发源与所述处理板的空间连接。
2.如权利要求1所述的真空腔体隔离装置，其特征在于所述控制机构还包括波纹管， 所述波纹管套于所述推动轴上且一端与所述真空腔体的腔壁密封连接，另一端与所述推动 板密封连接。
3.如权利要求1所述的真空腔体隔离装置，其特征在于所述挡盖具有对接板及安装 板，所述对接板与所述安装板垂直固定连接，所述安装板与所述真空腔体的两腔壁及底面 相接触。
4.如权利要求1所述的真空腔体隔离装置，其特征在于所述真空腔体隔离装置还包 括导向机构，所述导向机构包括导向轴及支撑板，所述真空腔体的腔壁上固定有安装所述 直线驱动装置的固定板，所述导向轴的一端枢接地穿过所述推动板并与所述固定板垂直地 固定连接，所述导向轴的另一端与所述支撑板垂直地固定连接，所述支撑板、推动板及固定 板相互平行，所述导向轴与所述推动轴及直线驱动装置的输出轴相互平行。
5.如权利要求4所述的真空腔体隔离装置，其特征在于所述导向机构还包括直线轴 承，所述直线轴承固定于推动板上且套接于所述导向轴上。
6.如权利要求4所述的真空腔体隔离装置，其特征在于所述导向轴至少为两根，所述 导向轴以所述推动轴为中心分别对称的垂直固定于所述固定板上。
7.如权利要求1所述的真空腔体隔离装置，其特征在于所述直线驱动装置为汽缸式 马达。
8.如权利要求1所述的真空腔体隔离装置，其特征在于所述挡盖具有以惰性材质制 成的表面。
专利摘要本实用新型公开了一种真空腔体隔离装置，适用于对提供真空镀膜的真空腔体内的处理板及蒸发源进行隔离，包括挡盖及控制机构，所述控制机构包括推动轴、推动板及直线驱动装置，所述推动轴的一端密封地穿入所述真空腔体内腔壁并与所述挡盖固定连接，所述挡盖容置于所述真空腔体内且位于真空腔体内的蒸发源与处理板之间，所述推动轴的另一端与所述推动板固定连接，所述推动板位于所述真空腔体外，所述直线驱动装置安装于所述真空腔体的腔壁上并位于所述真空腔体外且其输出轴与所述推动板固定连接且相互垂直，本实用新型真空腔体隔离装置能最大限度地提高有机发光二极管基片镀膜层的均匀性及纯净性，使基片镀膜层的品质得到了极大的提高，延长了基片的使用寿命。
文档编号H01L51/56GK201673938SQ20092027420
公开日2010年12月15日 申请日期2009年12月1日 优先权日2009年12月1日
发明者刘惠森, 杨明生, 王伟, 王勇, 王曼媛, 范继良, 郭远伦 申请人:东莞宏威数码机械有限公司