技术领域本发明涉及显示技术领域，尤其涉及阵列基板、显示面板、显示装置及阵列基板制作方法。
背景技术：
在当前量产的高清显示面板中，如图1所示，为实现低功耗制作阵列基板时常用采用沉积树脂层结构，由于树脂层101的厚度较大，形成在树脂层的过孔1011相对较深，因此，在形成第一透明电极102的图案时，需要对过孔1011内进行曝光处理，而由于过孔1011的深度较大，过孔1011底部的曝光不足，使得不应在过孔1011内存在的第一透明电极膜层，在过孔1011内产生残留，使得在形成了第二透明电极103图案后，残留的第一透明电极膜层与第二透明电极103存在电连接，从而造成产品不良。现有的解决方案为如下三种方式。其一，只采用涂胶而不采用甩胶的方式避免较深过孔内光刻胶厚度较大，但在该种方式中，保持涂胶均一性掌控难度较大。其二，增大对于较深过孔内的曝光量，延长过孔内的曝光时间，但在增大曝光量的同时，过孔及线宽也会同时受到影响，因此，该种方式适用于临时措施并且带有较大的波动性，不适宜长期使用。其三，在过孔处采用倒梯形负性光刻胶曝光，配合离地剥离技术，带光刻胶进行电极层成膜，从而预防电极层在过孔内残留。在该方式中，由于涉及到正性与负性光刻胶切换应用、倒梯形掩膜应用以及离地剥离技术的应用，会导致大量光刻胶进入到成膜腔体中，造成成膜腔体污染，不适宜量产应用。因此，如何有效避免因电极层残留导致的产品不良成为本领域亟待解决的问题。
技术实现要素：
本发明实施例提供了一种阵列基板、显示面板、显示装置及阵列基板制作方法，用以解决现有技术中因电极层残留导致的产品不良的问题。第一方面，本发明实施例提供的一种阵列基板，包括：衬底基板，依次设置在所述衬底基板上的栅极层、有源层、数据线层、树脂层、第一透明电极和第二透明电极；其中，所述第一透明电极与所述第二透明电极相互绝缘；所述第二透明电极通过所述树脂层的过孔与位于所述树脂层下方的膜层中的部件连接；所述第一透明电极具有覆盖所述过孔的镂空区域。在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，所述栅极层包括：栅极、延伸方向相同的栅线和公共电极线；所述第一透明电极具有的镂空区域在所述衬底基板的正投影位于所述栅线与所述公共电极线之间所在区域内。在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，所述数据线层包括：源极、漏极和数据线；所述第一透明电极为公共电极，所述第二透明电极为像素电极；所述第二透明电极通过所述树脂层的过孔与所述漏极连接。在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，还包括：与所述第一透明电极同层设置且相互绝缘的用于连接所述第二透明电极与所述漏极的第一连接部，所述第一连接部在所述衬底基板上的正投影位于所述镂空区域内。在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，所述第一透明电极为像素电极，所述第二透明电极为公共电极；所述第二透明电极通过所述树脂层的过孔与所述公共电极线连接。在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，还包括：与所述第一透明电极同层设置且相互绝缘的用于连接所述第二透明电极与所述公共电极线的第二连接部，所述第二连接部在所述衬底基板上的正投影位于所述镂空区域内。在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，所述第一透明电极具有的镂空区域的形状为圆形或方形。第二方面，本发明实施例提供一种显示面板，包括：上述任一阵列基板，以及与所述阵列基板相对而置的对向基板。在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述显示面板中，还包括：设置在所述阵列基板面向所述对向基板一侧或设置在所述对向基板面向所述阵列基板一侧的黑矩阵；所述黑矩阵在所述衬底基板的正投影全部覆盖第一透明电极具有的镂空区域。第三方面，本发明实施例提供一种显示装置，包括上述任一显示面板。第四方面，本发明实施例提供一种上述任一阵列基板的制作方法，包括：在衬底基板上依次形成栅极层、有源层、数据线层、树脂层的图形；在所述树脂层的图形上依次形成相互绝缘的第一透明电极和第二透明电极的图形；其中，所述第二透明电极的图形通过所述树脂层的过孔与位于所述树脂层下方的膜层中的部件连接；所述第一透明电极的图形具有覆盖所述过孔的镂空区域。本发明有益效果如下：本发明实施例提供的阵列基板、显示面板、显示装置及阵列基板制作方法，包括：衬底基板，依次设置在衬底基板上的栅极层、有源层、数据线层、树脂层、第一透明电极和第二透明电极；其中，第一透明电极与第二透明电极相互绝缘；第二透明电极通过树脂层的过孔与位于树脂层下方的膜层中的部件连接；第一透明电极在阵列基板上的正投影具有覆盖过孔的镂空区域。由于第一透明电极具有镂空区域，第一透明电极的部分区域断开，因此，即使在树脂层的过孔内存在残留，也不会使第一透明电极与第二透明电极之间存在电连接，从而避免了因电极层残留导致的产品不良的问题。附图说明图1为现有技术中阵列基板的截面结构示意图；图2为本发明实施例提供的阵列基板的截面结构示意图之一；图3为本发明实施例提供的阵列基板的截面结构示意图之二；图4为本发明实施例提供的阵列基板中镂空区域的俯视图；图5为本发明实施例提供的阵列基板中的树脂层的制作方法的流程示意图；图6为本发明实施例提供的阵列基板中的第一透明电极的制作方法的流程示意图。具体实施方式为了使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。附图中各膜层厚度和区域大小、形状不反应各膜层的真实比例，目的只是示意说明本发明内容。本发明实施例提供了一种阵列基板、显示面板及显示装置，用以解决现有技术中因电极层残留导致的产品不良的问题。如图2所示，本发明实施例提供的阵列基板，包括：衬底基板201，依次设置在衬底基板201上的栅极层、有源层203、数据线层、树脂层205、第一透明电极206和第二透明电极207；其中，第一透明电极206与第二透明电极207相互绝缘；第二透明电极207通过树脂层205的过孔2051与位于树脂层205下方的膜层中的部件连接；第一透明电极206具有覆盖过孔2051的镂空区域2061。本发明实施例提供的阵列基板，由于第一透明电极具有镂空区域，第一透明电极的部分区域断开，因此，即使在树脂层的过孔内存在残留，也不会使第一透明电极与第二透明电极之间存在电连接，从而避免了因电极层残留导致的产品不良的问题。在具体实施时，本发明实施例提供的上述阵列基板中，如图2所示，栅极层包括：栅极、延伸方向相同的栅线2021和公共电极线2022；第一透明电极206具有的镂空区域2061在衬底基板201的正投影位于栅线2021与公共电极线2022之间所在区域内。本发明实施例的上述的镂空区域2061为图2中A-B之间的区域，在实际应用中，在镂空区域2061，即A-B之间可根据需要形成图形；栅线2021与公共电极线2022之间所在区域也包括栅线2021与公共电极线2022所在区域。本发明实施例提供的上述阵列基板中，采用镂空区域2061将第一透明电极206形成断开的区域，并且镂空区域2061在衬底基板201的正投影不会超过栅线2021和公共电极线2022的边缘，由于黑矩阵具有遮挡金属的作用，采用上述的设置方式，可使镂空区域3061不超过黑矩阵的遮挡范围，从而避免平板测试时产生漏光现象。在具体实施时，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，如图2所示，数据线层包括：源极2041、漏极2042和数据线；第一透明电极206为公共电极，第二透明电极207为像素电极；第二透明电极207通过树脂层的过孔2051与漏极2042连接。进一步地，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，如图2所示，上述阵列基板还包括：与第一透明电极206同层设置且相互绝缘的用于连接第二透明电极207与漏极2042的第一连接部208，第一连接部208在衬底基板201上的正投影位于镂空区域2061内。上述的第一连接部208与第一透明电极206同层设置，可采用与第一透明电极206相同的材料，利用一次构图工艺形成图案。第一连接部208连接了第二透明电极207与漏极2042，并与第一透明电极206相互断开，由此，将第一连接部208同时作为第二透明电极207的一部分连接漏极2042，避免了第一透明电极206与第二透明电极207之间存在电连接而导致产品不良。在另一种可实施的方式中，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，如图3所示，第一透明电极306为像素电极，第二透明电极307为公共电极；第二透明电极307通过树脂层305的过孔3051与公共电极线3022连接。进一步地，本发明实施例提供的上述阵列基板中，如图3所示，上述阵列基板还包括：与第一透明电极306同层设置且相互绝缘的用于连接第二透明电极307与公共电极线3022的第二连接部308，第二连接部308在衬底基板301上的正投影位于镂空区域3061内。上述的第二连接部308与第一透明电极306同层设置，可采用与第一透明电极306相同的材料，利用一次构图工艺形成图案。第二连接部308连接了第二透明电极307与公共电极线3022，并与第一透明电极306相互断开，由此，将第二连接部308同时作为第二透明电极307的一部分连接公共电极线3022，避免了第一透明电极306与第二透明电极307之间存在电连接而导致产品不良。在具体实施时，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，如图3所示，位于树脂层305下方还包括一缓冲绝缘层309，缓冲绝缘层309可增强树脂层305与下方膜层的贴合度，且可与树脂层305具有相同图形。在具体实施时，在本发明实施例提供的上述阵列基板中，第一透明电极具有的镂空区域2061的形状为圆形或方形，也可根据需要设置为其它图形，在此不做限定。以下以第一透明电极具有的镂空区域2061为圆形为例进行说明，图4为上述第一透明电极具有的镂空区域2061的俯视图，如图4所示，镂空区域2061的形状为圆形，用于连接第二透明电极与漏极的第一连接部208在衬底基板上的正投影位于镂空区域2061内。如图4所示，镂空区域2061的直径A1不超过栅线2021和公共电极线2022的外边缘之间的距离A2，这样设置可以避免平板测试时产生漏光现象。在实际应用中，由于曝光设备都存在一定的曝光线宽，在操作时应在镂空区域2061的两边距离栅线2021和公共电极线2022保留至少曝光线宽A3的距离，以避免镂空区域2061超过栅线2021和公共电极线2022的边缘。例如，曝光设备的线宽为4μm，栅线2021到公共电极线2022之间的距离A2为20μm，为了避免孔偏移造成的问题，使镂空区域2061距离栅线2021和公共电极线2022上下边缘的距离A3各保留4μm的空间，则镂空区域2061的直径为12μm。在实际应用中可采用其它线宽的曝光设备，镂空区域内可包括图形，使镂空区域的图形呈环形，根据实际需要还可形成方形或其它图形，本发明实施例不对其进行具体限定。基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种上述阵列基板的制作方法，由于该方法解决问题的原理与前述一种阵列基板相似，因此该方法的实施可以参见阵列基板的实施，重复之处不再赘述。在具体实施时，本发明实施例提供的阵列基板的制作方法，具体包括以下步骤：在衬底基板上依次形成栅极层、有源层、数据线层、树脂层的图形；在树脂层的图形上依次形成相互绝缘的第一透明电极和第二透明电极的图形；其中，第二透明电极的图形通过树脂层的过孔与位于树脂层下方的膜层中的部件连接；第一透明电极的图形具有覆盖过孔的镂空区域。由于第一透明电极具有镂空区域，第一透明电极的部分区域断开，因此，即使在树脂层的过孔内存在残留，也不会使第一透明电极与第二透明电极之间存在电连接，从而避免了因电极层残留导致的产品不良的问题。在具体实施时，在本发明实施例提供的上述阵列基板的制作方法中，在形成有栅极层、有源层和数据线层图形的衬底基板上形成树脂层的图形，如图5所示，具体可以采用如下方式实现：S501、在形成有栅极层、有源层和数据线层图形的衬底基板上形成缓冲绝缘层；S502、在缓冲绝缘层上形成树脂层；S503、使用掩模板对树脂层进行曝光显影，形成树脂层的图形；S504、利用树脂层的图形对缓冲绝缘层进行刻蚀，形成和树脂层图形一致的缓冲绝缘层的图形。由于在形成树脂层之前先形成缓冲层，增强了树脂层对下方膜层的贴合。其余制作步骤与现有技术阵列基板的方法类似，此处不再赘述。在具体实施时，在本发明实施例提供的上述阵列基板的制作方法中，在形成有树脂层图形的衬底基板上形成第一透明电极图形，如图6所示，具体可以采用如下方式实现：S601、在树脂层的图形上形成一整层第一透明电极层；S602、在第一透明电极层的表面涂覆光刻胶，使用掩模板对光刻胶曝光显影，得到光刻胶完全去除区域以及光刻胶完全保留区域；S603、对光刻胶完全去除区域暴露出的第一透明电极层的区域进行刻蚀，形成第一透明电极以及镂空区域的图形；S604、对曝光显影后的光刻胶进行灰化，去除掉光刻胶部分保留区域的光刻胶。第一透明电极与镂空区域可采用一次构图工艺，减少了阵列基板的制作流程，同时形成镂空区域的图形，使得第一透明电极材料在过孔内存在残留的情况下，也可避免导致的产品不良的问题。本发明实施例还提供了一种显示面板，包括本发明实施例提供的上述任一阵列基板，以及与阵列基板相对而置的对向基板。在具体实施时，在本发明实施例提供的上述显示面板中，还包括：设置在阵列基板面向对向基板一侧或设置在对向基板面向阵列基板一侧的黑矩阵；黑矩阵在衬底基板的正投影全部覆盖第一透明电极具有的镂空区域。采用上述的设置方式，可使镂空区域不超过黑矩阵的遮挡范围，从而避免平板测试时产生漏光现象。本发明实施例还提供了一种显示装置，该显示装置可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。对于该显示装置的其它必不可少的组成部分均为本领域的普通技术人员应该理解具有的，在此不做赘述，也不应作为对本发明的限制。该显示装置的实施可以参见上述阵列基板的实施例，重复之处不再赘述。综上所述，本发明实施例提供的阵列基板、显示面板、显示装置及阵列基板制作方法，包括：衬底基板，依次设置在衬底基板上的栅极层、有源层、数据线层、树脂层、第一透明电极和第二透明电极；其中，第一透明电极与第二透明电极相互绝缘；第二透明电极通过树脂层的过孔与位于树脂层下方的膜层中的部件连接；第一透明电极在阵列基板上的正投影具有覆盖过孔的镂空区域。由于第一透明电极具有镂空区域，因此，即使在树脂层的过孔内存在残留，也不会使第一透明电极与第二透明电极之间存在电连接，从而避免了因电极层残留导致的产品不良的问题。显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。