1.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：
处理室，其用于收纳基板并对该基板实施等离子体处理；
载置台，其具有在所述处理室内载置基板的载置面；
对所述处理室内供给处理气体的处理气体供给系统；
对所述处理室内进行排气的排气部；
等离子体生成机构，其生成用于对载置在所述载置台上的基板进行等离子体处理的等离子体；
用于对所述载置台施加偏置用高频电力的高频电源；和
设置在从所述处理室去往所述排气部的排气口部分或其附近的、具有多个开口的第一开口挡板和第二开口挡板，
所述第一开口挡板设置在排气路径的下游侧，所述第二开口挡板设置在排气路径的上游侧，
所述第一开口挡板和所述第二开口挡板均由导电性材料构成，所述第一开口挡板被接地，所述第二开口挡板处于电浮置状态，
所述第一开口挡板和所述第二开口挡板以可在它们之间生成稳定放电的间隔设置。
2.如权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于：
所述第一开口挡板被设置成覆盖所述排气部的排气配管的入口部分。
3.如权利要求1或2所述的等离子体处理装置，其特征在于：
所述第一开口挡板与所述第二开口挡板的间隔为1～10mm。
4.如权利要求1～3中任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于：
所述第一开口挡板和所述第二开口挡板构成为隙缝状或网眼状，或者具有大量的冲孔。
5.如权利要求1～4中任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于：
所述第一开口挡板和所述第二开口挡板的开口率为61.5％以下。
6.如权利要求1～5中任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于：
还包括由导电性材料构成的不具有开口部的多个分隔部件，该多个分隔部件分隔出对基板进行等离子体处理的处理区域和与所述排气部连通的排气区域，所述多个分隔部件与接地电位连接，相邻的分隔部件彼此分离地配置以在它们之间形成将供给到所述处理区域的处理气体引导至所述排气区域的空间。
7.如权利要求6所述的等离子体处理装置，其特征在于：
还包括由导电性材料构成的、不具有开口部并且与接地电位连接的遮掩部件，该遮掩部件在与所述分隔部件不同的高度位置上以在俯图中遮掩所述空间的至少一部分的方式设置。
8.如权利要求1～7中任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于：
所述处理室具有俯视形状为矩形的空间，所述载置台的俯视形状呈矩形，用于载置矩形的基板。
9.如权利要求1～8中任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于：
所述等离子体生成机构包括用于在所述处理区域中生成电感耦合等离子体的高频天线。
10.如权利要求9所述的等离子体处理装置，其特征在于：
所述高频天线隔着电介质窗设置在所述处理室的上部。
11.如权利要求9所述的等离子体处理装置，其特征在于：
所述高频天线隔着金属窗设置在所述处理室的上部。
12.一种等离子体处理装置中的排气结构，其特征在于：
所述等离子体处理装置包括：
处理室，其用于收纳基板并对该基板实施等离子体处理；
载置台，其具有在所述处理室内载置基板的载置面；
对所述处理室内供给处理气体的处理气体供给系统；
对所述处理室内进行排气的排气部；
等离子体生成机构，其生成用于对载置在所述载置台上的基板进行等离子体处理的等离子体；和
用于对所述载置台施加偏置用高频电力的高频电源，
所述排气结构将供给到所述处理室的处理气体引导至所述排气部，
所述排气结构包括设置在从所述处理室去往所述排气部的排气口部分或其附近的、具有多个开口的第一开口挡板和第二开口挡板，
所述第一开口挡板设置在排气路径的下游侧，所述第二开口挡板设置在排气路径的上游侧，
所述第一开口挡板和所述第二开口挡板均由导电性材料构成，所述第一开口挡板被接地，所述第二开口挡板处于电浮置状态，
所述第一开口挡板和所述第二开口挡板以可在它们之间生成稳定放电的间隔设置。
13.如权利要求12所述的排气结构，其特征在于：
所述第一开口挡板被设置成覆盖所述排气部的排气配管的入口部分。
14.如权利要求12或13所述的排气结构，其特征在于：
所述第一开口挡板与所述第二开口挡板的间隔为1～10mm。
15.如权利要求12～14中任一项所述的排气结构，其特征在于：
所述第一开口挡板和所述第二开口挡板构成为隙缝状或网眼状，或者具有大量的冲孔。
16.如权利要求12～14中任一项所述的排气结构，其特征在于：
所述第一开口挡板和所述第二开口挡板的开口率为61.5％以下。
17.如权利要求12～16中任一项所述的排气结构，其特征在于：
还包括由导电性材料构成的不具有开口部的多个分隔部件，该多个分隔部件分隔出对基板进行等离子体处理的处理区域和与所述排气部连通的排气区域，所述多个分隔部件与接地电位连接，相邻的分隔部件彼此分离地配置以在它们之间形成将供给到所述处理区域的处理气体引导至所述排气区域的空间。
18.如权利要求17所述的排气结构，其特征在于：
还包括由导电性材料构成的、不具有开口部并且与接地电位连接的遮掩部件，该遮掩部件在与所述分隔部件不同的高度位置上以在俯视图中遮掩所述空间的至少一部分的方式设置。
19.如权利要求12～18中任一项所述的排气结构，其特征在于：
所述处理室具有俯视形状为矩形的空间，所述载置台的俯视形状呈矩形，用于载置矩形的基板。