技术总结
本发明提供一种等离子体处理装置，在对载置台施加高功率的高频电力的情况下，有效地防止等离子体侵入排气部和挡板上方放电变得不稳定。该等离子体处理装置对于在处理室(4)内载置于载置台(23)的载置面上的基板(G)，在对载置台(23)施加高频偏压的同时进行等离子体处理，其包括设置在排气口(30)部分的第一开口挡板(34)和第二开口挡板(35)，第一开口挡板(34)设置在排气路径下游侧，第二开口挡板(35)设置在排气路径上游侧，第一开口挡板(34)被接地，第二开口挡板(35)处于电浮置状态，第一和第二开口挡板(34、35)以可在它们之间生成稳定放电的间隔设置。
技术研发人员：宇津木康史;东条利洋;山涌纯;藤永元毅
受保护的技术使用者：东京毅力科创株式会社
文档号码：201610516168
技术研发日：2016.07.01
技术公布日：2017.01.11