有源层的制作方法、氧化物薄膜晶体管及其制作方法与流程

文档序号:12612924阅读:来源:国知局
技术总结
本发明公开了一种有源层的制作方法、氧化物薄膜晶体管及其制作方法,该有源层的制作方法,包括以下步骤:在基板上沉积氧化物薄膜,并对所述氧化物薄膜进行图形化处理获得氧化物层;在基板上制作覆盖于所述氧化物层上的光刻胶层,并对所述光刻胶层进行图形化处理使所述氧化物层露出沟道区;将所述基板置于电解液中,所述基板作为阳极,采用金属Pt作为阴极,对所述基板进行阳极氧化处理,所述沟道区上氧化物层经阳极氧化后形成有源层;将基板取出,去除光刻胶层。本发明通过阳极氧化的处理方法降低有源层的载流子浓度,实现器件阈值电压的正移,使得器件处于“常关”状态,从而获得高稳定性、低功耗器件。

技术研发人员:肖鹏;陈国杰
受保护的技术使用者:佛山科学技术学院
文档号码:201611192417
技术研发日:2016.12.21
技术公布日:2017.06.16

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