一种湿法刻蚀机台的制作方法

本实用新型涉及湿法刻蚀设备技术领域，尤其涉及一种湿法刻蚀机台。

背景技术：

刻蚀工艺是按照掩模图形或设计要求对半导体衬底表面或表面覆盖薄膜进行选择性腐蚀或剥离的工艺。刻蚀工艺不仅是半导体器件和集成电路的基本制造工艺，而且还应用于薄膜电路、印刷电路和其他微细图形的加工。刻蚀还可分为湿法刻蚀和干法刻蚀。

传统的湿法刻蚀工艺通常是将晶圆浸泡在一定的化学试剂或试剂溶液中，使没有被抗蚀剂掩蔽的那一部分薄膜表面与试剂发生化学反应而被除去。例如，用一种含有氢氟酸的溶液刻蚀二氧化硅薄膜，用磷酸刻蚀铝薄膜等。这种在液态环境中进行刻蚀的工艺称为“湿法”工艺，其优点是操作简便、对设备要求低、易于实现大批量生产，并且刻蚀的选择性也好。

请参考图1，现有的湿法刻蚀机台主要包括：处理槽，及设置于所述处理槽上方用于搬运晶圆的搬运机械臂4’，每个处理槽上均设置有一搬运机械臂4’，每个搬运机械臂4’均包括一立柱41’、与所述立柱41’固定连接的机头42’、及设置于所述机头42’上的搬运夹子43’，通过搬运夹子43’夹持晶圆，从而实现搬运机械臂搬运晶圆进出处理槽，进行干燥处理后，完成湿法刻蚀。但是一旦搬运机械臂出现故障，可能导致无法正常搬运晶圆，需要对搬运机械臂进行维修或更换，但是，在搬运机械臂修复之前，已经进入处理槽内的晶圆将无法继续进行传送及后续的干燥制程，晶圆在处理槽内侵泡时间过长，继而超时，影响制程，严重时会导致晶圆报废，降低了成品率及工作效率。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种湿法刻蚀机台，以解决现有技术中湿法刻蚀机台出现故障后，存在搬运机械臂无法无法正常传送晶圆，使得晶圆在酸槽或水槽内侵泡时间过长，影响制程，导致成品率及工作效率低的问题。

为了解决上述技术问题，本实用新型提供一种湿法刻蚀机台，所述湿法刻蚀机台，包括：

基座；

设置在所述基座上的多个处理槽；

多个搬运机械臂，每个所述搬运机械臂均对应一个所述处理槽；

第一滑轨，所述第一滑轨跨越所有的搬运机械臂的操作位置；

备用机械臂，设置于所述第一滑轨上，并在所述第一滑轨上滑动；

多个第二滑轨，每个所述第二滑轨均对应一个所述搬运机械臂；

当某一所述搬运机械臂存在故障时，某一所述搬运机械臂在对应的所述第二滑轨的作用下撤离某一所述搬运机械臂的操作位置，所述备用机械臂在所述第一滑轨的作用下到达某一所述搬运机械臂的操作位置，并替代某一所述搬运机械臂进行工作。

可选的，在所述的湿法刻蚀机台中，每个所述搬运机械臂均包括机头以及与所述机头相连接的搬运夹子，所述机头与对应的所述第二滑轨固定连接。

可选的，在所述的湿法刻蚀机台中，所述湿法刻蚀机台还包括多个立柱，每个所述搬运机械臂均对应一立柱，所述立柱的一端与所述基座连接，所述立柱的另一端与所述第二滑轨滑动式连接，所述立柱和机头分别位于所述第二滑轨的两侧，当某一所述搬运机械臂存在故障时，某一所述搬运机械臂随所述第二滑轨撤离该搬运机械臂的操作位置。

可选的，在所述的湿法刻蚀机台中，所述备用机械臂包括：设置于所述第一滑轨上并沿所述第一滑轨进行滑动的第三滑轨、设置于所述第三滑轨上用于提供驱动力的第一驱动装置、设置于所述第一驱动装置上用于抓放晶圆的备用夹子，所述夹子在所述第一驱动装置的驱动力下沿所述第三滑轨进行滑动。

可选的，在所述的湿法刻蚀机台中，所述第三滑轨包括短边滑轨和与所述短边滑轨相垂直的长边滑轨，所述短边滑轨与所述第一滑轨滑动式连接，并且所述短边滑轨与所述第一滑轨相垂直。

可选的，在所述的湿法刻蚀机台中，所述短边滑轨和长边滑轨连接成L形。

可选的，在所述的湿法刻蚀机台中，所述第一驱动装置设置在所述长边滑轨上。

可选的，在所述的湿法刻蚀机台中，所述备用机械臂还包括第二驱动装置，及设置于所述第一滑轨上的主动轮和从动轮，所述第三滑轨在所述第二驱动装置的驱动力下通过所述主动轮和所述从动轮沿所述第一滑轨进行滑动。

可选的，在所述的湿法刻蚀机台中，所述第二驱动装置设置在所述短边滑轨上。

可选的，在所述的湿法刻蚀机台中，每个所述搬运机械臂的操作位置均为对应的所述处理槽所在的位置。

可选的，在所述的湿法刻蚀机台中，所述第一滑轨为横截面为倒T形的轨道。

可选的，在所述的湿法刻蚀机台中，还包括设置于所述基座上的干燥槽，用于对经过所有处理槽处理后的晶圆进行干燥处理。

可选的，在所述的湿法刻蚀机台中，每个所述处理槽均包括一酸槽和与所述酸槽相邻设置的一水槽。

在本实用新型所提供的湿法刻蚀机台中，所述湿法刻蚀机台包括基座、设置于基座上的多个处理槽、多个搬运机械臂、第一滑轨、备用机械臂、多个第二滑轨；每个搬运机械臂均对应一个处理槽；第一滑轨跨越所有的搬运机械臂的操作位置；备用机械臂设置于第一滑轨上，并在第一滑轨上滑动；每个第二滑轨均对应一个搬运机械臂；当某一搬运机械臂存在故障时，某一搬运机械臂在对应的第二滑轨的作用下撤离某一搬运机械臂的操作位置，备用机械臂在第一滑轨的作用下到达某一搬运机械臂的操作位置，并替代某一搬运机械臂进行工作。避免因搬运机械臂故障，无法进行晶圆的搬运，晶圆在处理槽内侵泡时间过长对制程造成的影响，提高了成品率及工作效率。

附图说明

图1是现有技术中湿法刻蚀机台的搬运机械臂的结构示意图；

图2是本实用新型一实施例中搬运机械臂的结构示意图；

图3是本实用新型一实施例中湿法刻蚀机台的俯视图；

图4是本实用新型一实施例中备用机械臂闲置时湿法刻蚀机台的结构示意图；

图5是本实用新型一实施例中备用机械臂工作时湿法刻蚀机台的结构示意图。

图1中：

搬运机械臂-4’；

立柱-41’；

机头-42’；

夹子-43’；

图2-图5中：

基座-1；

处理槽-2；

第一滑轨-3；

搬运机械臂-4；

第二滑轨-40；

立柱-41；

机头-42；

备用机械臂-5；

第三滑轨-50；

短边滑轨-500；

长边滑轨-501；

第一驱动装置-51；

搬运夹子-43；

备用夹子-52；

第二驱动装置-53；

主动轮-54；

从动轮-55。

具体实施方式

以下结合附图和具体实施例对本实用新型提出的湿法刻蚀机台作进一步详细说明。根据下面说明和权利要求书，本实用新型的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。

请参考图2及图3，图2为本实施例中搬运机械臂4的结构示意图；图3为本实施例中湿法刻蚀机台的俯视图。所述湿法刻蚀机台包括：基座1、多个处理槽2、多个搬运机械臂4、第一滑轨3、备用机械臂5、多个第二滑轨40；多个处理槽2均设置在所述基座1上，每个所述搬运机械臂4均对应一个所述处理槽2；所述第一滑轨3跨越所有的搬运机械臂4的操作位置；所述备用机械臂5设置于所述第一滑轨3上，并在所述第一滑轨3上滑动；每个所述第二滑轨40均对应一个所述搬运机械臂4；当某一所述搬运机械臂4存在故障时，某一所述搬运机械臂4在对应的所述第二滑轨40的作用下撤离某一所述搬运机械臂4的操作位置，所述备用机械臂5在所述第一滑轨3的作用下到达某一所述搬运机械臂4的操作位置，并替代某一所述搬运机械臂4进行工作。

其中，每个所述搬运机械臂4均包括机头42以及与所述机头相连接的搬运夹子43，所述机头42与对应的所述第二滑轨40固定连接。

进一步地，所述湿法刻蚀机台还包括多个立柱41，每个所述搬运机械臂4均对应一立柱41，所述立柱41的一端与所述基座1连接，所述立柱41的另一端与所述第二滑轨40滑动式连接，所述立柱41和机头分别位于所述第二滑轨40的两侧，当某一所述搬运机械臂4存在故障时，某一所述搬运机械臂4随所述第二滑轨40撤离该搬运机械臂4的操作位置。其中，每个所述搬运机械臂4的操作位置均为对应的所述处理槽2所在的位置，基座1上的每个所述处理槽2均包括一酸槽和与所述酸槽相邻设置的一水槽。

请参考图4，所述备用机械臂5包括：设置于所述第一滑轨3上并沿所述第一滑轨3进行滑动的第三滑轨50、设置于所述第三滑轨50上用于提供驱动力的第一驱动装置51、设置于所述第一驱动装置51上用于抓放晶圆的备用夹子52、第二驱动装置53、及设置于所述第一滑轨3上的主动轮54和从动轮55，所述第三滑轨50在第二驱动装置53的驱动力下通过主动轮54和从动轮55沿所述第一滑轨3进行滑动，所述备用夹子52在所述第一驱动装置51的驱动力下沿所述第三滑轨50进行滑动。

为了提高第一滑轨3的稳定性，第一滑轨3固定于湿法刻蚀机台的内顶上，第一滑轨3优选为横截面为倒T形的轨道。

较佳的，所述第三滑轨50包括短边滑轨500和与所述短边滑轨500相垂直的长边滑轨501，所述短边滑轨500与所述第一滑轨3滑动式连接，并且短边滑轨500与所述第一滑轨3相垂直，短边滑轨500与水平面平行，长边滑轨501垂直于水平面。优选的，所述短边滑轨500和长边滑轨501连接成L形，所述第一驱动装置51设置在所述长边滑轨501上，所述第二驱动装置53设置在所述短边滑轨500上。备用机械臂5沿第三滑轨50进行滑动，实现备用机械臂5位置的调整。

其中，为了实现备用机械臂5在纵向和横向方向位置的调整，优选的，所述第一驱动装置51为纵向驱动马达；所述第二驱动装置53为横向驱动马达，从而提供不同方向的驱动力，为后续启用备用机械臂5工作奠定基础。

湿法刻蚀机台还包括设置于基座1上的干燥槽，实现对经过所有处理槽2处理后的晶圆进行干燥处理。从而获得干燥清洁的晶圆

具体的，如图4所示，在湿法刻蚀机台正常工作时，备用机械臂5悬空设置；如图5所示，在一搬运机械臂4存在故障时，首先，利用故障搬运机械臂4的第二滑轨40，故障搬运机械臂4的立柱41位置保持不变，故障搬运机械臂4的机头42以及与机头42连接的搬运夹子43撤离其操作位置，从而腾出故障搬运机械臂4所占用的操作空间；接着，启用备用机械臂5，在第二驱动装置53的驱动力下，备用机械臂5的第三滑轨50中的短边滑轨500沿第一滑轨3滑动到故障搬运机械臂4的操作位置，接着，在备用机械臂5的备用夹子52在第一驱动装置51的驱动力作用下沿第三滑轨50中的长边滑轨501滑动，以使备用夹子52升降到合适的操作位置，代替故障机械臂继续工作，从而避免因机台故障，搬运机械臂4无法正常工作，晶圆在处理槽2内侵泡时间过长对制程造成的影响，提高了成品率及工作效率。

综上，在本实用新型所提供的湿法刻蚀机台中，所述湿法刻蚀机台包括基座、设置于基座上的多个处理槽、多个搬运机械臂、第一滑轨、备用机械臂、多个第二滑轨；每个搬运机械臂均对应一个处理槽；第一滑轨跨越所有的搬运机械臂的操作位置；备用机械臂设置于第一滑轨上，并在第一滑轨上滑动；每个第二滑轨均对应一个搬运机械臂；当某一搬运机械臂存在故障时，某一搬运机械臂在对应的第二滑轨的作用下撤离某一搬运机械臂的操作位置，备用机械臂在第一滑轨的作用下到达某一搬运机械臂的操作位置，并替代某一搬运机械臂进行工作。避免因搬运机械臂故障，无法进行晶圆的搬运，晶圆在处理槽内侵泡时间过长对制程造成的影响，提高了成品率及工作效率。

显然，本领域的技术人员可以对实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包括这些改动和变型在内。