技术总结
本实用新型公开了一种等离子体刻蚀机的匀气盘，盘体呈圆盘状，盘体上表面近边缘处设有第一环形凸缘、进气槽、第二环形凸缘和导气通道，其中，所述进气槽设置在所述第一环形凸缘和所述第二环形凸缘之间，所述第二环形凸缘和所述导气通道交错分布且整体呈环状，盘体中央区域设有内外两圈呈同心环形且均匀分布的进气孔。本实用新型的等离子体刻蚀机的匀气盘能够有效地解决因抽气口位于反应腔室的一侧而造成的反应气体无法均匀分布到基片表面的问题，使位于反应腔室中部的基片与反应气体更加均匀地接触，从而提高等离子体刻蚀的均匀性。
技术研发人员：李娜;胡冬冬;许开东
受保护的技术使用者：江苏鲁汶仪器有限公司
文档号码：201621463339
技术研发日：2016.12.29
技术公布日：2017.07.07