技术特征：
技术总结
本申请公开了一种提高阵列基板掩膜剥离效率的方法、阵列基板及显示面板。该方法包括在非显示区形成图形化的掩膜；对该图形化的掩膜覆盖不到的非显示区部分进行刻蚀；沉积透明电极层，以在该图形化的掩膜表面及非显示区被刻蚀的表面分别形成图形化的第一透明电极层及图形化的第二电极层；去除该图形化的掩膜。通过该方法能够提高阵列基板掩膜的剥离效率，进而提高显示面板的制作效率。
技术研发人员：曾勉;刘晓娣
受保护的技术使用者：深圳市华星光电技术有限公司
技术研发日：2017.04.11
技术公布日：2017.09.05