石墨烯膜的制造方法和使用它的表膜构件的制造方法与流程

技术总结
本发明的目的在于提供用于得到石墨烯膜的有效的制造方法和对EUV光表现出高透射率的表膜构件的制造方法。本发明的特征在于，包括：准备设置在衬底上的石墨烯的工序；用保护膜覆盖石墨烯的工序；通过湿式蚀刻除去衬底的工序；以及使用表面张力比湿式蚀刻所使用的湿式蚀刻液小的溶剂将保护膜溶解而除去的工序。

技术研发人员：簗濑优
受保护的技术使用者：信越化学工业株式会社
技术研发日：2017.11.10
技术公布日：2018.07.10