基板处理装置的制造方法

基板处理装置的制造方法
【专利摘要】在基板处理装置(1)中，在腔室底部(256)设置有在周向上排列的多个大腔室排气口(281)。通过杯旋转机构(7)使杯部(4)旋转，杯排气口(461)有选择地与多个大腔室排气口(281)中某一个重叠。在杯排气口(461)与1个大腔室排气口(281)重叠的状态下，通过第一排气机构(95a)将杯部(4)内的气体向腔室(21)外排出。在杯排气口(461)与另一个大腔室排气口(281)重叠的状态下，通过第二排气机构(95b)将杯部(4)内的气体向腔室(21)外排出。在基板处理装置(1)中，通过杯旋转机构(7)使腔室(21)内的杯部(4)旋转，能够容易对从杯部(4)进行排气的排气机构进行切换。
【专利说明】
基板处理装置
技术领域
[0001 ]本发明涉及对基板进行处理的基板处理装置。
【背景技术】
[0002]—直以来，在半导体基板(以下仅称为“基板”。)的制造工序中，利用向旋转的基板供给处理液来进行各种的处理的基板处理装置。在这样的基板处理装置中，用于接受借助离心力从基板飞散的处理液等的杯部设置在基板的周围。
[0003]日本特开2010-10554号公报(文献I)涉及一种向基板依次供给多种处理液来进行处理的旋转处理装置。在该旋转处理装置中，在保持基板的旋转工作台的周围设置杯体。在旋转工作台和杯体之间设置处理液接受体，通过使处理液接受体升降，来切换与处理液接受体的侧面下部连接的流路。在该旋转处理装置中，根据由处理液接受体接受的处理液的种类来切换流路，分别回收多种处理液。另外，杯体内的气体经由在杯体的侧面设置的共用的排气管排出。
[0004]在日本特开2011-204933号公报(文献2)的基板处理装置中，在处理室的内部，在旋转卡盘的周围设置有杯。在杯的底部设置有用于将杯内的气体与从基板甩掉的纯水等的处理液一起排出的排气液槽。排气以及排液从排气液槽被向处理室的外部的气液分离器弓I导，并且被分离的排气被向排气切换器引导。排气切换器将排气的流通目的地在3条彼此独立的排气管之间切换。
[0005]在日本特开2002-177856号公报(文献3)的基板处理装置的杯中，在基板的边缘的外侧设置有圆环状的第一排液槽，在第一排液槽的周围设置有圆环状的第二排液槽。在第一排液槽的底部设置有排液口和排气口，排气口的上方由在周向上倾斜的裙部覆盖。在第二排液槽的底部也设置有排液口和排气口，排气口的上方由在周向上倾斜的裙部覆盖。
[0006]在日本特开2013-207265号公报(文献4)以及特开2013-207266号公报(文献5)的基板处理装置中，在杯的侧面设置有多个排出口。多个排出口分别由开闭装置独立地开闭。在各排出口连接有不与其他排出口连接的气液分离装置以及排气装置，从气液分离装置排出的处理液被导向回收装置或排液装置。
[0007]但是，在文献I的旋转处理装置中，即使在基板的处理中使用的处理液的种类变更，排出杯体内的气体的排气管未被切换。在文献2的基板处理装置中，根据处理液的种类等来切换排气管，但是由于排气切换器设置在处理室的外部，所以可能使基板处理装置大型化。另外，由于多种处理液以及排气由共用的配管引导至处理室的外部，所以可能与在配管等残留的其他处理液混合，产生混蚀和处理液的回收率下降。
[0008]在文献3中，根据处理液的种类等，在利用第一排液槽的排液以及排气与利用第二排液槽的排液以及排气之间进行切换，但是，由于需要将与处理液的种类对应的多个排液槽呈同心圆状设置在基板的外侧，所以可能使基板处理装置大型化。在文献4以及文献5的基板处理装置中，由于在杯的多个排出口分别设置与其他排出口独立进行驱动的开闭装置，所以可能使排气以及排液的切换涉及的结构及其控制复杂化，并且使装置大型化。
[0009]另外，在上述的基板处理装置中，在要求调节来自排气口的排气流量的情况下，与切换排气的结构不同地，在排气管上设置用于调节排气流量的机构，可能使装置结构复杂化，并且使装置大型化。

【发明内容】

[0010]本发明面向对基板进行处理的基板处理装置，其目的在于能够容易切换排气机构。另外，目的还在于能够容易变更排气流量。
[0011]本发明的一个基板处理装置具有:
[0012]基板保持部，将基板保持为水平状态，
[0013]处理液供给部，向所述基板上供给处理液，
[0014]杯部，设置有杯排气口，接受来自所述基板的处理液，
[0015]腔室，在内部容纳有所述基板保持部以及所述杯部，
[0016]杯旋转机构，使所述杯部以朝向上下方向的中心轴为中心进行旋转，
[0017]控制部，通过所述杯旋转机构使所述杯部旋转，来决定所述杯排气口在以所述中心轴为中心的周向上的位置；
[0018]在所述腔室设置有在所述周向上排列的第一腔室排气口以及第二腔室排气口，
[0019]通过所述控制部控制所述杯旋转机构，来有选择地使所述杯排气口与所述第一腔室排气口或所述第二腔室排气口重叠，
[0020]在所述杯排气口与所述第一腔室排气口重叠的状态下，通过与所述第一腔室排气口连接的第一排气机构，将所述杯部内的气体经由所述杯排气口以及所述第一腔室排气口向所述腔室外排出，
[0021 ]在所述杯排气口与所述第二腔室排气口重叠的状态下，通过与所述第二腔室排气口连接的第二排气机构，将所述杯部内的气体经由所述杯排气口以及所述第二腔室排气口向所述腔室外排出。由此，能够容易对排气机构进行切换。
[0022]本发明的一个优选的实施方式中，所述杯排气口设置在所述杯部的底部，所述第一腔室排气口以及所述第二腔室排气口设置在所述腔室的底部。
[0023]在本发明的其他优选的实施方式中，所述杯部呈以所述中心轴为中心的环状，
[0024]所述杯部具有:
[0025]圆环状的底部，
[0026]圆筒状的内侧壁部，从所述底部的内周部向上方扩展，
[0027]圆筒状的外侧壁部，从所述底部的外周部向上方扩展；
[0028]在所述内侧壁部或所述外侧壁部上设置有所述杯排气口，
[0029]在与所述杯部的所述内侧壁部或所述外侧壁部相向的所述腔室的侧壁部上，设置有所述第一腔室排气口以及所述第二腔室排气口。
[0030]在本发明的其他优选的实施方式中，在所述杯部的所述底部设置有杯排液口，
[0031]在所述腔室的所述底部设置有在所述周向上排列的第一腔室排液口以及第二腔室排液口，
[0032]在所述杯排气口与所述第一腔室排气口重叠的状态下，所述杯排液口与所述第一腔室排液口重叠，将所述杯部内的处理液向与所述第一腔室排液口连接的所述腔室外的第一排液部排出，
[0033]在所述杯排气口与所述第二腔室排气口重叠的状态下，所述杯排液口与所述第二腔室排液口重叠，将所述杯部内的处理液向与所述第二腔室排液口连接的所述腔室外的第二排液部排出。
[0034]更优选，在所述腔室的所述底部设置有另一个第一腔室排液口，该另一个第一腔室排液口与所述第一腔室排液口以及所述第二腔室排液口一起在所述周向上排列，并与所述第一排液部连接，
[0035]在所述杯排液口与所述另一个第一腔室排液口重叠的状态下，将所述杯部内的处理液向所述第一排液部排出，所述杯排气口位于在所述周向上从所述第一腔室排气口以及所述第二腔室排气口离开的位置。
[0036]或者，更优选，所述第一腔室排液口的所述周向的长度长于所述杯排液口的所述周向的长度，
[0037]从所述杯排液口与所述第一腔室排液口重叠并且所述杯排气口与所述第一腔室排气口重叠的状态，通过维持所述杯排液口和所述第一腔室排液口的重复并且使所述杯部旋转，所述杯排气口向从所述第一腔室排气口偏移的位置移动。
[0038]在本发明的其他优选的实施方式中，所述杯部呈以所述中心轴为中心的环状，
[0039]所述杯部具有:
[0040]圆环状的所述底部，
[0041]圆筒状的内侧壁部，从所述底部的内周部向上方扩展，
[0042]圆筒状的外侧壁部，从从所述底部的外周部向上方扩展，
[0043]圆筒状的间隔壁，在所述内侧壁部和所述外侧壁部之间从所述底部向上方扩展；
[0044]来自所述处理液供给部的处理液流入所述杯部的所述外侧壁部和所述间隔壁之间的空间，
[0045]所述杯排液口比所述间隔壁更靠以所述中心轴为中心的径向外侧，
[0046]所述杯排气口比所述间隔壁更靠所述径向内侧。
[0047]更优选，还具有升降机构，该升降机构使所述基板保持部相对于所述杯部在所述上下方向上移动，
[0048]所述杯部还具有筒状的另一个间隔壁，该另一个间隔壁在所述间隔壁和所述外侧壁部之间从所述底部向上方扩展，
[0049]所述杯排液口比所述另一个间隔壁更靠所述径向内侧，
[0050]在所述杯部的所述底部设置有比所述另一个间隔壁更靠所述径向外侧的其他杯排液口，
[0051]在所述腔室的所述底部设置有其他腔室排液口，该其他腔室排液口比所述第一腔室排液口以及所述第二腔室排液口更靠所述径向外侧，并与其他排液部，
[0052]通过所述升降机构，使所述基板与所述基板保持部一起在相对于所述杯部的第一位置和所述第一位置的上方的第二位置之间移动，
[0053]在所述基板位于所述第一位置的状态下，从所述处理液供给部供给到所述基板上的处理液流入所述杯部的所述另一个间隔壁和所述间隔壁之间的空间，
[0054]在所述基板位于所述第二位置的状态下，从所述处理液供给部供给到所述基板上的处理液流入所述杯部的所述外侧壁部和所述另一个间隔壁之间的空间，所述其他杯排液口与所述其他腔室排液口重叠，将处理液向所述腔室外的所述其他排液部排出。
[0055]在本发明的其他优选的实施方式中，所述基板保持部具有以所述中心轴为中心的圆板状的保持部主体，
[0056]所述保持部主体在所述杯部的上方与所述杯部在所述上下方向上相向，
[0057]设置有环状的突出部，该突出部从所述保持部主体的下表面向下方突出，并且包围所述中心轴的周围。
[0058]本发明的其他基板处理装置具有:
[0059]基板保持部，将基板保持为水平状态，
[0060]处理液供给部，向所述基板上供给处理液，
[0061]杯部，在底部设置有杯排气口，接受来自所述基板的处理液，
[0062]腔室，在内部容纳所述基板保持部以及所述杯部，并且在底部设置有腔室排气口，
[0063]杯旋转机构，使所述杯部以朝向上下方向的中心轴为中心进行旋转，
[0064]控制部，通过所述杯旋转机构使所述杯部旋转，来决定所述杯排气口在以所述中心轴为中心的周向上的位置；
[0065]在所述杯排气口与所述腔室排气口重叠的状态下，通过与所述腔室排气口连接的排气机构，将所述杯部内的气体经由所述杯排气口以及所述腔室排气口向所述腔室外排出，
[0066]所述杯旋转机构由所述控制部控制，通过变更所述杯排气口和所述腔室排气口的重复面积，来变更利用所述排气机构从所述腔室排气的排气流量。由此，能够容易变更排气流量。
[0067]在本发明的一个优选的实施方式中，所述腔室排气口具有:
[0068]大腔室排气口，
[0069]小腔室排气口，与所述大腔室排气口一起在所述周向上排列，并且该小腔室排气口的面积小于所述大腔室排气口的面积；
[0070]通过有选择地使所述杯排气口与所述大腔室排气口或所述小腔室排气口重叠，来变更所述杯排气口和所述腔室排气口的重复面积。
[0071]在本发明的其他优选的实施方式中，所述杯排气口具有:
[0072]大杯排气口，
[0073]小杯排气口，与所述大杯排气口一起在所述周向上排列，所述小杯排气口的面积小于所述大杯排气口的面积；
[0074]通过有选择地使所述大杯排气口或所述小杯排气口与所述腔室排气口重叠，来变更所述杯排气口和所述腔室排气口的重复面积。
[0075]在本发明的其他优选的实施方式中，所述杯排气口和所述腔室排气口的重复面积的变更通过维持所述杯排气口和所述腔室排气口的重复并且使所述杯部旋转来实现。
[0076]在本发明的其他优选的实施方式中，所述杯旋转机构具有:
[0077]环状的转子部，配置在所述腔室内，并安装在所述杯部上，
[0078]定子部，在所述腔室外配置在所述转子部的周围，在与所述转子部之间产生旋转力。
[0079]在本发明的其他优选的实施方式中，所述转子部借助在所述转子部与所述定子部之间作用的磁力，在所述腔室内以漂浮状态旋转。
[0080]在本发明的其他优选的实施方式中，所述腔室是形成配置所述基板保持部以及所述杯部的密闭空间的密闭空间形成部。
[0081]上述的目的以及其他目的、特征、方式以及优点通过以下参照附图进行的本发明的详细说明就更加清楚。
【附图说明】
[0082]图1是第一实施方式的基板处理装置的剖视图。
[0083]图2是基板处理装置的剖视图。
[0084]图3是杯部的仰视图。
[0085]图4是腔室下面部的俯视图。
[0086]图5是表示基板的处理的流程的图。
[0087]图6是基板处理装置的剖视图。
[0088]图7是基板处理装置的剖视图。
[0089]图8是基板处理装置的剖视图。
[0090]图9是表示基板处理装置的一部分的放大剖视图。
[0091 ]图10是表示杯排气口附近的俯视图。
[0092]图11是基板处理装置的剖视图。
[0093]图12是杯部的仰视图。
[0094]图13是腔室下面部的俯视图。
[0095]图14是第二实施方式的基板处理装置的剖视图。
[0096]图15是杯部的仰视图。
[0097]图16是腔室下面部的俯视图。
[0098]图17是基板处理装置的剖视图。
[0099]图18是腔室下面部的俯视图。
[0100]图19是第三实施方式的基板处理装置的杯部的仰视图。
[0101]图20是腔室下面部的俯视图。
[0102]图21是基板处理装置的剖视图。
[0103]图22是表示基板处理装置的一部分的放大剖视图。
[0104]图23是第四实施方式的基板处理装置的剖视图。
[0105]图24是第五实施方式的基板处理装置的剖视图。
[0106]图25是腔室以及杯部的横向剖视图。
[0107]图26是腔室下面部的俯视图。
[0108]图27是基板处理装置的剖视图。
【具体实施方式】
[0109]图1是表示本发明的第一实施方式的基板处理装置I的剖视图。基板处理装置I是向大致圆板状的半导体基板9(以下仅称为“基板9”。)供给处理液来对基板9一张一张地进行处理的单张式的装置。在基板处理装置I中，利用纯水、酸性的药液、碱性的药液等作为处理液，进行基板9的清洗处理和其他各种处理。在图1中，在基板处理装置I的一部分结构的剖面上省略标注平行斜线(在其他剖视图中也同样)。
[0110]基板处理装置I具有腔室21、顶板22、腔室开闭机构23、基板保持部31、基板旋转机构32、杯部4、杯旋转机构7、处理液供给部5、壳体6、控制部10。此外，在图2之后，省略控制部10的图示。
[0111]在壳体6的内部容纳有腔室21、顶板22、腔室开闭机构23、基板保持部31、基板旋转机构32、杯部4、处理液供给部5。壳体6具有壳体底部61、壳体侧壁部62、壳体顶盖部63。壳体6的底部即壳体底部61从下方支撑腔室21等。壳体侧壁部62包围腔室21等的周围。壳体顶盖部63覆盖腔室21等的上方。在壳体侧壁部62设置有用于将基板9向壳体6内搬入的搬入口64。搬入口 64由能够在上下方向上移动的盖部65堵塞。
[0112]腔室21具有腔室主体25和腔室盖部26。腔室21呈以朝向上下方向的中心轴Jl为中心的大致圆筒状。腔室主体25具有腔室下面部251和腔室外侧壁部252。腔室下面部251具有下面中央部254、腔室内侧壁部255和腔室底部256。下面中央部254呈以中心轴Jl为中心的大致圆环板状。腔室内侧壁部255呈以中心轴Jl为中心的大致圆筒状，从下面中央部254的外缘部向下方扩展。腔室底部256呈以中心轴Jl为中心的大致圆环板状，从腔室内侧壁部255的下端向以中心轴Jl为中心的径向(以下仅称为“径向”。)的外方扩展。腔室外侧壁部252呈以中心轴Jl中心的大致圆筒状。腔室外侧壁部252从腔室下面部251的外缘部向上方突出。腔室外侧壁部252以及腔室内侧壁部255是腔室21的侧壁部，腔室底部256是腔室21的底部。
[0113]腔室盖部26呈以与中心轴Jl垂直的大致圆环板状。通过使腔室盖部26的外缘部下端与腔室外侧壁部252的上部接触，堵塞腔室主体25的上部开口。通过使腔室盖部26堵塞腔室主体25的上部开口，在腔室21内形成密闭空间即腔室空间。换言之，腔室21是形成腔室空间的密闭空间形成部。在腔室21的内部即腔室空间，容纳有基板保持部31、顶板22以及杯部4。
[0114]腔室开闭机构23能够使作为腔室21的可动部的腔室盖部26相对于作为腔室21的其他部位的腔室主体25在上下方向上移动。腔室开闭机构23是使腔室盖部26升降的盖部升降机构。在通过腔室开闭机构23使腔室盖部26在上下方向上移动时，顶板22在悬挂在腔室盖部26上的状态下与腔室盖部26—起在上下方向上移动。通过腔室开闭机构23，腔室盖部26以及顶板22从图1所示的位置上升到图2所示的位置，腔室21被开放。在以下的说明中，将图1所示的腔室盖部26以及顶板22的位置称为“处理位置”。另外，将图2所示的腔室盖部26以及顶板22的位置称为“退避位置”。详细在后面叙述，但是在图2中，杯部4相对于壳体6的朝向(即，在以中心轴Jl为中心的周向上的相对的朝向)与图1不同。
[0115]图1所示的顶板22呈以中心轴Jl为中心的大致圆环板状，并在中央具有开口。顶板22具有板主体部224、板侧壁部225、被保持部221。板主体部224呈以中心轴Jl为中心的大致圆环板状。在板主体部224的中央部设置有大致圆形的开口，在该开口的周围设置被保持部221。板主体部224配置在腔室盖部26的下方、且配置在基板保持部31以及基板9的上方。板主体部224的上表面以及下表面是越沿径向从中心轴Jl离开则越接近下方的倾斜面。板主体部224的下表面与由基板保持部31保持的基板9的上表面91在上下方向上相向。
[0116]板侧壁部225从板主体部224的外缘部向径向外方并向斜下方扩展。换言之，板侧壁部225从板主体部224的外缘部向板主体部224的下表面侧突出，并且越沿径向从中心轴Jl离开则越接近下方。板侧壁部225呈以中心轴Jl为中心的大致圆筒状。板侧壁部225配置在基板9的径向外侧，包围基板9的周围。板侧壁部225的下端在上下方向上位于与基板保持部31的基座部311(后述)大致相同的位置。
[0117]板主体部224的直径大于基板9的直径。板侧壁部225的下端的直径大于基板保持部31的基座部311的直径。板侧壁部225的下端在整周从基座部311的外缘向径向外侧离开。顶板22在整周扩展到基板9的外周缘、以及基板保持部31的基座部311的外周缘的径向外侧。
[0118]如图2所示，位于退避位置的顶板22由腔室盖部26悬挂支撑。腔室盖部26在中央部具有大致环状的板保持部261。板保持部261具有以中心轴Jl为中心的大致圆筒状的筒部262和以中心轴Jl为中心的大致圆板状的凸缘部263。凸缘部263从筒部262的下端向径向内方扩展。
[0119]被保持部221是从板主体部224的中央部向上方突出的大致环状的部位。被保持部221具有以中心轴Jl为中心的大致圆筒状的筒部222和以中心轴Jl为中心的大致圆板状的凸缘部223。筒部222从板主体部224的上表面向上方扩展。凸缘部223从筒部222的上端向径向外方扩展。筒部222位于板保持部261的筒部262的径向内侧。凸缘部223位于板保持部261的凸缘部263的上方，与凸缘部263在上下方向上相向。通过使被保持部221的凸缘部223的下表面与板保持部261的凸缘部263的上表面接触，顶板22以由从腔室盖部26悬挂的方式安装在腔室盖部26上。
[0120]如图1所示，基板保持部31将基板9保持为水平状态。即，基板9以形成有微细图案的上表面91与中心轴Jl垂直地朝向上侧的状态被基板保持部31把持。基板保持部31具有基座部311、多个多个夹紧件312。基座部31是以中心轴Jl为中心的大致圆板状的保持部主体。基座部311与中心轴Jl垂直，在中央具有开口。基座部31在杯部4的上方与杯部4在上下方向上相向。多个(例如3各)夹紧件312固定在基座部311的上表面上。多个夹紧件312在以中心轴Jl为中心的周向(以下仅称为“周向”。)上以等角度间隔配置。通过多个夹紧件312在基座部311的上方保持基板9的外缘部。
[0121]基板旋转机构32配置在腔室下面部251的下面中央部254的下方。基板旋转机构32例如是轴旋转型的电动马达。基板旋转机构32的旋转轴321贯通腔室下面部251的下面中央部254向腔室21的内部延伸。旋转轴321呈以中心轴Jl为中心的大致圆筒状。在旋转轴321的顶端部固定有基板保持部31的基座部311。在旋转轴321和腔室下面部251的下面中央部254之间，设置有用于防止气体和液体通过的密封件。通过使旋转轴321旋转，基板保持部31与基板9 一起以中心轴Jl为中心进行旋转。
[0122]在基板保持部31的基座部311的上表面上沿周向设置有多个第一卡合部314。各第一卡合部314呈向上方突出的大致柱状。在顶板22的下表面上沿周向设置有多个第二卡合部226。在各第二卡合部226的下部设置有向上方凹陷的凹部。
[0123]在顶板22位于处理位置的状态下，在第二卡合部226的下部的凹部嵌入第一卡合部314。由此，顶板22在周向上与基板保持部31的基座部311卡合。换言之，通过第一卡合部314以及第二卡合部226，限制顶板22相对于基板保持部31的在旋转方向上的相对位置。
[0124]在顶板22位于处理位置的状态下，顶板22经由第一卡合部314以及第二卡合部226支撑在基板保持部31的基座部311上。顶板22的被保持部221的凸缘部223从腔室盖部26的板保持部261的凸缘部263向上方离开。即，被保持部221和板保持部261不接触，解除板保持部261对顶板22的保持。因此，顶板22从腔室盖部26独立，与基板保持部31以及基板9 一起由基板旋转机构32旋转。第一卡合部314以及第二卡合部226是在顶板22旋转时固定顶板22相对于基板保持部31的在周向上的相对位置的位置固定构件。
[0125]处理液供给部5具有上部喷嘴51和下部喷嘴52。上部喷嘴51固定在腔室盖部26上，并配置在顶板22的被保持部221的内侧。上部喷嘴51不与顶板22接触，在顶板22旋转时也不旋转。上部喷嘴51与在壳体6的外部设置的处理液供给源(省略图示)连接。上部喷嘴51的下端位于基板9的上方，并与基板9的上表面91的中央部相向。从处理液供给源供给至上部喷嘴51的处理液，从上部喷嘴51的下端向基板9的上表面91上的中央部供给。
[0126]下部喷嘴52配置在基板旋转机构32的旋转轴321的内侧，经由位于基板保持部31的基座部311的中央的开口从基座部311向上方突出。下部喷嘴52与旋转轴321不接触，在旋转轴321旋转时也不旋转。在下部喷嘴52和基座部311之间设置有用于防止气体和液体通过的密封件。下部喷嘴52与在壳体6的外部设置的处理液供给源(省略图示)连接。下部喷嘴52的上端位于基板9的下方，并与基板9的下表面92的中央部相向。从处理液供给源供给到下部喷嘴52的处理液，从下部喷嘴52的上端向基板9的下表面92的中央部供给。
[0127]杯部4是以中心轴Jl为中心的环状的构件。杯部4配置在基板保持部31的下方，接受来自基板9的处理液。杯部4位于腔室下面部251的腔室内侧壁部255的径向外侧，包围腔室内侧壁部255以及基板旋转机构32的周围。
[0128]杯旋转机构7是所谓的中空马达，以中心轴Jl为中心使杯部4进行旋转。杯旋转机构7具有以中心轴Jl为中心的环状的定子部71和环状的转子部72。转子部72包括大致圆环状的永久磁铁。永久磁铁的表面由PTFE树脂成型。转子部72在壳体6内安装在杯部4。具体地说，转子部72在腔室21内安装在杯底部42的外缘部附近。
[0129]定子部71在腔室21外配置在转子部72的周围、即径向外侧。在图1所示的例子中，定子部71在腔室21的周围固定在壳体底部61上。定子部71包括在以中心轴JI为中心的周向上排列的多个线圈。
[0130]通过向定子部71供给电流，在定子部71和转子部72之间产生以中心轴Jl为中心的旋转力。由此，转子部72以中心轴Jl为中心并以水平状态旋转。通过在定子部71和转子部72之间作用的磁力，转子部72在壳体6内的腔室21内不与腔室21直接以及间接接触地漂浮，并以中心轴Jl为中心与杯部4一起以漂浮状态进行旋转。在基板处理装置I中，通过控制部10的控制，杯部4由杯旋转机构7旋转，来决定后述的杯排液口 451以及杯排气口 461在周向上的位置。
[0131]杯部4具有杯外侧壁部41、杯底部42、杯内侧壁部43和间隔壁44。杯部4的底部即杯底部42呈以中心轴Jl为中心的大致圆环状。杯部4的外侧壁部即杯外侧壁部41呈以中心轴Jl为中心的大致圆筒状。杯外侧壁部41从杯底部42的外周部与中心轴Jl大致平行地向上方扩展。杯部4的内侧壁部即杯内侧壁部43呈以中心轴Jl为中心的大致圆筒状。杯内侧壁部43位于杯外侧壁部41的径向内侧，从杯底部42的内周部与中心轴Jl大致平行地向上方扩展。
[0132]间隔壁44呈以中心轴Jl为中心的大致圆筒状。间隔壁44在径向上位于杯内侧壁部43和杯外侧壁部41之间，从杯底部42与中心轴Jl大致平行地向上方扩展。在以下的说明中，将杯部4的杯外侧壁部41和间隔壁44之间的空间称为“外侧杯空间45”。另外，将杯部4的间隔壁44和杯内侧壁部43之间的空间称为“内侧杯空间46” ο外侧杯空间45是由杯外侧壁部41、杯底部42和间隔壁44包围的大致圆筒状的空间。内侧杯空间46是由间隔壁44、杯底部42和杯内侧壁部43包围的大致圆筒状的空间。
[0133]内侧杯空间46位于基板保持部31的基座部311的下方。在杯底部42中的构成内侧杯空间46的底部的部位设置有杯排气口 461。换言之，杯排气口 461比间隔壁44的下端更靠径向内侧。在图1所示的状态下，杯排气口461与在腔室下面部251的腔室底部256设置的腔室排气口 281在上下方向上重叠。杯排气口 461的下端接近腔室排气口 281的上端并在上下方向上相向。腔室21内的气体经由内侧杯空间46、杯排气口 461以及腔室排气口 281向腔室21外且壳体6外排出。杯排气口461的下端的大小以及形状与腔室排气口 281的上端的大小以及形状大致相同。换言之，杯排气口 461的下端的面积与腔室排气口 281的上端的面积大致相等。此外，杯排气口 461的下端的面积例如也可以小于腔室排气口 281的上端的面积。
[0134]在图1所示的例子中，在杯底部42中的比间隔壁44的下端更靠径向内侧的部位，设置有向下方突出的大致圆筒状的底部突出部462，杯排气口461设置在底部突出部462内。另夕卜，在腔室下面部251的腔室底部256上，设置有向上方突出的大致圆筒状的底部突出部282，腔室排气口 281设置在底部突出部282内。腔室排气口 281贯通壳体底部61向腔室空间外突出。
[0135]外侧杯空间45位于内侧杯空间46的径向外侧，并位于基板保持部31的基座部311的下方。杯部4的杯外侧壁部41在整周上相比基板9、基板保持部31以及顶板22更靠径向外侦U。杯外侧壁部41的上端在上下方向上位于与基板保持部31的基座部311、以及顶板22的板侧壁部225的下端大致相同的位置上。详细地说，杯外侧壁部41的上端位于板侧壁部225的下端的上方。即，杯外侧壁部41的上端部和板侧壁部225的下端部在径向重叠。杯部4的上端的直径大于板侧壁部225的下端的直径。杯部4的上端在整周上从板侧壁部225的下端向径向外侧离开。
[0136]由处理液供给部5供给并从旋转的基板9飞散的处理液被位于基板9的周围的板侧壁部225接受，在板侧壁部225的内周面上向下方移动。并且，从板侧壁部225落下的处理液流入杯部4的外侧杯空间45。即，来自处理液供给部5的处理液流入杯部4的外侧杯空间45。
[0137]在杯底部42中的构成外侧杯空间45的底部的部位，设置有杯排液口451。换言之，杯排液口 451比间隔壁44的下端更靠径向外侧。在图1所示的状态下，杯排液口 451与在腔室下面部251的腔室底部256设置的腔室排液口 271在上下方向上重叠。杯排液口 451的下端接近腔室排液口 271的上端并在上下方向上相向。并且，流入外侧杯空间45的液体经由杯排液口 451以及腔室排液口 271向腔室21外且壳体6外排出。杯排液口 451的下端的大小以及形状与腔室排液口 271的上端的大小以及形状大致相同。换言之，杯排液口 451的下端的面积与腔室排液口 271的上端的面积大致相等。此外，杯排液口451的下端的面积例如也可以小于腔室排液口 271的上端的面积。
[0138]在图1所示的例子中，在杯底部42中的比间隔壁44的下端更靠径向外侧的部位，设置有向下方突出的大致圆筒状的底部突出部452，杯排液口451设置在底部突出部452内。另夕卜，在腔室下面部251的腔室底部256，设置有向上方突出的大致圆筒状的底部突出部272，腔室排液口271设置在底部突出部272内。腔室排液口271贯通壳体底部61向腔室空间外突出。
[0139]图3是表示杯部4的仰视图。在杯部4中，杯排液口451以及杯排气口461在杯底部42分别设置有一个。在图3中，为了便于理解附图，对杯排液口451以及杯排气口461标注平行斜线(在图12、图15以及图19也同样)。在图3所示的例子中，杯排液口451隔着中心轴Jl位于杯排气口 461的相反侧。换言之，杯排液口 451和杯排气口 461在周向上以大约180度间隔排列。杯排液口 451相比杯排气口 461更靠径向外侧。
[0140]杯底部42具有向下方突出的多个外侧凸部453、以及、向下方突出的多个内侧凸部463 ο多个外侧凸部453与杯排液口 451设置在内部的底部突出部452在周向上排列(即，在距中心轴Jl的径向的距离相等的圆周上排列)。多个内侧凸部463与杯排气口 461设置在内部的底部突出部462在周向上排列。在图3所示的例子中，15个外侧凸部453和15个内侧凸部463设置在杯部4上。
[0? 41 ]各外侧凸部453呈大致圆柱状，各外侧凸部453的直径与杯排液口 451设置在内部的底部突出部452的外径大致相等。各内侧凸部463呈大致圆柱状，各内侧凸部463的直径与杯排气口 461设置在内部的底部突出部462的外径大致相等。各外侧凸部453、各内侧凸部463、底部突出部452以及底部突出部462从杯底部42的各自的突出量(S卩，上下方向的高度)彼此大致相等。在各外侧凸部453以及各内侧凸部463的内部不形成流路，杯部4内的空间和杯部4的下方的空间不会经由各外侧凸部453以及各内侧凸部463连通。
[0142]图4是表示腔室下面部251的俯视图。在图4中，用虚线同时表示杯部4的杯外侧壁部41、间隔壁44以及杯内侧壁部43。在腔室21中，多个腔室排液口 271、以及、多个腔室排气口 281、284设置在腔室下面部251的腔室底部256。在图4中，为了便于理解附图，对腔室排液口 271以及腔室排气口 281、284标注平行斜线(在图13、图16以及图20中也同样)。
[0143]多个腔室排液口271分别设置于在腔室下面部251的腔室底部256设置的多个底部突出部272内。多个腔室排液口 271在周向上排列。多个腔室排液口 271具有同样的大小以及结构，多个底部突出部272也具有同样的大小以及结构。
[0144]多个腔室排液口271具有多个腔室排液口组。在图4所示的例子中，在腔室下面部251的腔室底部256上设置有9个腔室排液口 271，9个腔室排液口 271具有第一腔室排液口组276a、第二腔室排液口组276b以及第三腔室排液口组276c。在以下的说明中，将第一腔室排液口组276a、第二腔室排液口组276b以及第三腔室排液口组276c概括起来称为“腔室排液口组276a?276c”。在图4中，将腔室排液口组276a?276c分别由双点划线包围(在图26中也同样)。
[0145]各腔室排液口组276a?276c具有3个腔室排液口 271。在各腔室排液口组276a?276c中，3个腔室排液口 271在周向上以等角度间隔排列。第一腔室排液口组276a的3个腔室排液口 271与基板处理装置I的外部的第一排液部96a连接。第二腔室排液口组276b的3个腔室排液口 271与基板处理装置I的外部的第二排液部96b连接。第三腔室排液口组276c的3个腔室排液口 271与基板处理装置I的外部的第三排液部96c连接。第一排液部96a、第二排液部96b以及第三排液部96c分别独立地设置。
[0146]腔室下面部251的腔室底部256具有向上方突出的I个外侧凸部273。外侧凸部273与多个腔室排液口 271分别设置在内部的多个底部突出部272在周向上排列。外侧凸部273呈大致圆柱状，外侧凸部273的直径与各底部突出部272的外径大致相等。在外侧凸部273的内部未形成流路。
[0147]多个腔室排气口281分别设置于在腔室下面部251的腔室底部256设置的多个底部突出部282内。另外，多个腔室排气口 284分别设置于在腔室下面部251的腔室底部256设置并向上方突出的多个底部突出部285内。各腔室排气口 284在周向上与腔室排气口 281相邻。在以下的说明中，为了容易区别腔室排气口 281、284，将腔室排气口 281、284分别称为“大腔室排气口 281”以及“小腔室排气口 284”。另外，将大腔室排气口 281以及小腔室排气口 284概括起来仅称为“腔室排气口”。
[0148]小腔室排气口284的直径小于大腔室排气口 281的直径。换言之，小腔室排气口 284的上端的面积小于大腔室排气口 281的上端的面积。小腔室排气口 284设置在内部的底部突出部285的外径，小于大腔室排气口 281设置在内部的底部突出部282的外径。多个小腔室排气口 284在周向上与多个大腔室排气口 281排列。多个大腔室排气口 281具有同样的大小以及结构，多个底部突出部282也具有同样的大小以及结构。多个小腔室排气口 284具有同样的大小以及结构，多个底部突出部285也具有同样的大小以及结构。
[0149]腔室下面部251的腔室底部256具有向上方突出的多个内侧凸部283。多个内侧凸部283与多个底部突出部282以及多个底部突出部285在周向上排列。各内侧凸部283呈大致圆柱状，内侧凸部283的直径与大腔室排气口 281设置在内部的底部突出部282的外径大致相等。在各内侧凸部283的内部未形成流路。
[0150]在图4所示的例子中，3个大腔室排气口281、3个小腔室排气口 284、4个内侧凸部283设置在腔室下面部251的腔室底部256上。与上述的第一腔室排液口组276a隔着中心轴Jl位于相反侧的第一腔室排气口组286a具有I个大腔室排气口 281、I个小腔室排气口 284和I个内侧凸部283。
[0151]与第二腔室排液口组276b隔着中心轴Jl位于相反侧的第二腔室排气口组286b也与第一腔室排气口组286a同样，具有I个大腔室排气口 281、I个小腔室排气口 284、I个内侧凸部283。与第三腔室排液口组276c隔着中心轴Jl位于相反侧的第三腔室排气口组286c与第一腔室排气口组286a同样，也具有I个大腔室排气口 281、I个小腔室排气口 284和I个内侧凸部283。
[0152]在以下的说明中，将第一腔室排气口组286a、第二腔室排气口组286b以及第三腔室排气口组286c概括起来称为“腔室排气口组286a?286c”。在图4中，将腔室排气口组286a?286c分别用双点划线包围。在各腔室排气口组286a?286c中，大腔室排气口 281、小腔室排气口 284以及内侧凸部283在周向以等角度间隔排列。4个内侧凸部283中的I个内侧凸部283不包含在腔室排气口组286a?286c中，与外侧凸部273隔着中心轴Jl位于相反侧。
[0153]第一腔室排气口组286a的大腔室排气口 281以及小腔室排气口 284与第一排气机构95a连接。第二腔室排气口组286b的大腔室排气口 281以及小腔室排气口 284与第二排气机构95b连接。第三腔室排气口组286c的大腔室排气口 281以及小腔室排气口 284与第三排气机构95c连接。第一排气机构95a、第二排气机构95b以及第三排气机构95c配置在基板处理装置I的外部。在使用基板处理装置I的期间，持续利用第一排气机构95a、第二排气机构95b以及第三排气机构95c进行吸引。在以下的说明中，将第一排气机构95a、第二排气机构95b以及第三排气机构95c概括起来称为“排气机构95a?95c”。
[0154]在基板处理装置I中，通过控制部10控制杯旋转机构7，有选择地使杯排气口461与多个大腔室排气口 281以及多个小腔室排气口 284中的某一个重叠。另外，有选择地使杯排液口 451与多个腔室排液口 271中的某一个重叠。
[0155]图5是表示基板处理装置I的基板9的处理的流程的一例的图。在基板处理装置I中对基板9进行处理时，由控制部10控制杯旋转机构7，杯部4进行旋转，并以在图2所示的朝向停止(步骤Sll)。在以下的说明中，将图2所示的杯部4的朝向(S卩，杯部4的状态)称为“待机状态”。
[0156]在图2所示的待机状态中，杯排气口461与腔室底部256的4个内侧凸部283中的与未包含在腔室排气口组286a?286c(参照图4)的I个内侧凸部283在上下方向上重叠。即，在图2中示出，杯排气口461位于在周向上从所有的大腔室排气口281以及所有的小腔室排气口 284(参照图4)离开的位置的状态。杯排气口 461的下端和腔室底部256的内侧凸部283的上端面接近并在上下方向上相向。由此，杯排气口461实质上被堵塞。
[0157]另外，杯排液口451与腔室底部256的外侧凸部273在上下方向上重叠。杯排液口451的下端和外侧凸部273的上端面在上下方向上接近并相向。由此，杯排液口451实质上被堵塞。
[0158]在图2所示的待机状态下，第一腔室排气口组286a的大腔室排气口281与杯底部42的内侧凸部463在上下方向上重叠。大腔室排气口 281的上端和内侧凸部463的下端面在上下方向接近并相向。由此，大腔室排气口 281实质上被堵塞。
[0159]图4所示的第一腔室排气口组286a的小腔室排气口284也与杯底部42的内侧凸部463在上下方向上重叠。小腔室排气口 284的上端和内侧凸部463的下端面在上下方向上接近并相向。由此，小腔室排气口 284实质上被堵塞。第二腔室排气口组286b以及第三腔室排气口组286c各自的大腔室排气口 281以及小腔室排气口 284也同样，与内侧凸部463分别在上下方向上接近并相向，由此实质上被堵塞。
[0160]另外，各腔室排液口271与杯底部42的外侧凸部453在上下方向上重叠。各腔室排液口 271的上端和外侧凸部453的下端面在上下方向上接近并相向。由此，各腔室排液口 271实质上被堵塞。
[0161]当杯部4处于待机状态时，腔室盖部26以及顶板22向图2所示的退避位置移动，搬入口 64被开放。并且，从搬入口 64向壳体6内的腔室21内搬入基板9，并由基板保持部31保持(步骤S12)。
[0162]如上述所述，在基板处理装置I中，在杯部4处于待机状态的情况下，杯排气口461的下端接近腔室底部256，各大腔室排气口 281的上端以及各小腔室排气口 284的上端接近杯底部42。由此，即使在利用第一排气机构95a、第二排气机构95b以及第三排气机构95c (参照图4)持续进行吸引的状态下，经由杯排气口461吸引杯部4内的气体实质上被停止。其结果，在搬入基板9时，能够抑制壳体6的外部的气体从开放的搬入口 64流入壳体6内以及腔室21内。
[0163]此外，在基板处理装置I中，如果杯排气口461的下端接近腔室底部256，则未必需要各大腔室排气口 281的上端以及各小腔室排气口 284的上端接近杯底部42。另外，如果各大腔室排气口 281的上端以及各小腔室排气口 284的上端接近杯底部42，未必需要杯排气口461的下端接近腔室底部256 ο在基板处理装置I中，通过使杯排气口 461的下端接近腔室底部256或使各大腔室排气口 281的上端以及各小腔室排气口 284的上端接近杯底部42，停止经由杯排气口 461吸引杯部4内的气体。其结果，与上述同样，能够抑制壳体6的外部的气体从开放的搬入口 64流入壳体6内以及腔室21内。
[0164]当保持基板9时，盖部65向上方移动，如图1所示那样堵塞搬入口64。另外，腔室盖部26以及顶板22下降，位于图1所示的处理位置。由此，在腔室21内形成腔室空间。另外，解除板保持部261对顶板22的保持。从上部喷嘴51等向腔室空间供给氮气等的非活性气体。
[0165]接着，由控制部10控制杯旋转机构7，杯部4从待机状态开始旋转，以图1所示的朝向停止(步骤S13)。在以下的说明中，将图1所示的杯部4的朝向(S卩，杯部4的状态)称为“第一处理状态”。
[0166]在图1所示的第一处理状态下，如上所述，杯排气口 461与第一腔室排气口组286a的大腔室排气口 281在上下方向上重叠。杯排气口 461的下端和该大腔室排气口 281的上端接近并在上下方向上相向。由此，杯排气口461和第一腔室排气口组286a的大腔室排气口281实质上连接。并且，通过第一排气机构95a(参照图4)，杯部4内的气体经由杯排气口461以及大腔室排气口 281向腔室21外且壳体6外排出。另外，腔室21内的杯部4外的气体也经由内侧杯空间46、杯排气口 461以及大腔室排气口 281向腔室21外且壳体6外排出。
[0167]在杯部4处于第一处理状态的情况下，图4所示的第一腔室排气口组286a的小腔室排气口 284、第二腔室排气口组286b以及第三腔室排气口组286c各自的大腔室排气口 281以及小腔室排气口 284与杯底部42的内侧凸部463(参照图3)在上下方向上分别重叠，从而实质上被堵塞。
[0168]如图1所示，杯排液口451与第一腔室排液口组276a的中央的腔室排液口 271在上下方向上重叠。杯排液口451的下端和该腔室排液口 271的上端接近并在上下方向上相向。由此，杯排液口 451和第一腔室排液口组276a的腔室排液口 271实质上连接。该腔室排液口271以外的各腔室排液口 271(参照图4)与杯底部42的外侧凸部453在上下方向上重叠，从而实质上被堵塞。
[0169]当杯部4处于第一处理状态时，驱动基板旋转机构32，基板9、基板保持部31以及顶板22开始旋转(步骤S14)。基板9、基板保持部31以及顶板22的旋转速度彼此相等，且旋转方向相同。步骤S14可以与步骤S13并行进行，也可以在步骤S12和步骤S13之间进行。
[0170]接着，开始从处理液供给部5的上部喷嘴51向旋转中的基板9的上表面91供给第一处理液(步骤S15)。连续供给到基板9的上表面91的中央部的第一处理液借助离心力向径向外方移动。第一处理液在基板9的上表面91上扩展并覆盖整个上表面91。由此，利用第一处理液对基板9的上表面91进行处理。基板9的上表面91由于与位于处理位置的顶板22的下表面接近，所以利用第一处理液对基板9的处理在基板9的上表面91和顶板22的下表面之间的比较窄的空间进行。由此，能够抑制基板9的上方的空间中的处理液环境的扩散，并且能够抑制处理中的基板9的温度下降。
[0171]到达基板9的外周缘的第一处理液从该外周缘向径向外方飞散，流入杯部4的外侧杯空间45。流入外侧杯空间45内的第一处理液经由杯排液口 451以及腔室排液口 271向腔室21外且壳体6外的第一排液部96a(参照图4)排出。排出到第一排液部96a的第一处理液被废弃。或者，排出到第一排液部96a的第一处理液根据需要被回收再利用。
[0172]在利用第一处理液对基板9的处理中，腔室21内的气体如上述那样，借助第一排气机构95a经由内侧杯空间46、杯排气口461以及大腔室排气口 281向腔室21外且壳体6外排出。
[0173]当从上部喷嘴51开始供给第一处理液起经过规定时间时，停止供给第一处理液，结束利用第一处理液对基板9的处理。在基板9上残留的第一处理液通过基板9的旋转从基板9上除去，并经由外侧杯空间45、杯排液口 451以及腔室排液口 271向第一排液部96a排出。
[0174]当结束利用第一处理液的处理时，通过控制部10控制杯旋转机构7，杯部4从第一处理状态进行旋转，并以图6所示的朝向停止(步骤S16)。在以下的说明中，将图6所示的杯部4的朝向(S卩，杯部4的状态)称为“第二处理状态”。
[0175]在图6所示的第二处理状态中，杯排气口461与第二腔室排气口组286b的大腔室排气口 281在上下方向上重叠。杯排气口 461的下端与该大腔室排气口 281的上端接近并在上下方向上相向。由此，杯排气口 461和第二腔室排气口组286b的大腔室排气口 281实质上连接。并且，通过第二排气机构95b(参照图4)，杯部4内的气体经由杯排气口 461以及大腔室排气口 281向腔室21外且壳体6外排出。另外，杯部4外的气体也经由内侧杯空间46、杯排气口461以及大腔室排气口 281向腔室21外且壳体6外排出。
[0176]在杯部4处于第二处理状态的情况下，图4所示的第二腔室排气口组286b的小腔室排气口 284、第一腔室排气口组286a以及第三腔室排气口组286c各自的大腔室排气口 281以及小腔室排气口 284与杯底部42的内侧凸部463(参照图3)在上下方向上重叠，从而实质上被堵塞。
[0177]杯排液口451与第二腔室排液口组276b的中央的腔室排液口 271在上下方向上重叠。杯排液口 451的下端和该腔室排液口 271的上端接近并在上下方向相向。由此，杯排液口451和第二腔室排液口组276b的腔室排液口 271实质上连接。该腔室排液口 271以外的各腔室排液口 271(参照图4)与杯底部42的外侧凸部453在上下方向重叠，从而实质上被堵塞。
[0178]在杯部4处于第二处理状态时，开始从处理液供给部5的上部喷嘴51向旋转中的基板9的上表面91供给第二处理液(步骤S17)。连续供给到基板9的上表面91的中央部的第二处理液借助离心力在基板9的上表面91上扩展，并覆盖在该上表面91。由此，利用第二处理液对基板9的上表面91进行处理。
[0179]到达基板9的外周缘的第二处理液从该外周缘向径向外方飞散，并流入杯部4的外侧杯空间45。流入外侧杯空间45内的第二处理液经由杯排液口 451以及腔室排液口 271向腔室21外且壳体6外的第二排液部96b(参照图4)排出。排出到第二排液部96a的第二处理液被废弃。或者，排出到第二排液部96b的第二处理液根据需要被回收再利用。
[0180]在利用第二处理液对基板9的处理中，腔室21内的气体如上述那样借助第二排气机构95b经由内侧杯空间46、杯排气口461以及大腔室排气口 281向腔室21外且壳体6外排出。
[0181]当从上部喷嘴51开始供给第二处理液起经过规定时间时，停止供给第二处理液，结束利用第二处理液对基板9的处理。在基板9上残留的第二处理液通过基板9的旋转从基板9上除去，并经由外侧杯空间45、杯排液口 451以及腔室排液口 271向第二排液部96b排出。
[0182]当结束利用第二处理液的处理时，通过控制部10控制杯旋转机构7，杯部4从第二处理状态旋转，以图7所示的朝向停止(步骤S18)。在以下的说明中，将图7所示的杯部4的朝向(即，杯部4的状态)称为“第三处理状态”。
[0183]在图7所示的第三处理状态下，杯排气口461与第三腔室排气口组286c的大腔室排气口 281在上下方向上重叠。杯排气口 461的下端和该大腔室排气口 281的上端接近并在上下方向上相向。由此，杯排气口 461和第三腔室排气口组286c的大腔室排气口 281实质上连接。并且，通过第三排气机构95c(参照图4)，杯部4内的气体经由杯排气口 461以及大腔室排气口 281向腔室21外且壳体6外排出。另外，腔室21内的杯部4外的气体也经由内侧杯空间46、杯排气口 461以及大腔室排气口 281向腔室21外且壳体6外排出。
[0184]在杯部4处于第三处理状态的情况下，图4所示的第三腔室排气口组286c的小腔室排气口 284、第一腔室排气口组286a以及第二腔室排气口组286b各自的大腔室排气口 281以及小腔室排气口 284与杯底部42的内侧凸部463(参照图3)在上下方向上分别重叠，从而实质上被堵塞。
[0185]杯排液口451与第三腔室排液口组276c的中央的腔室排液口 271在上下方向上重叠。杯排液口451的下端和该腔室排液口271的上端接近并在上下方向上相向。由此，杯排液口 451和第三腔室排液口组276c的腔室排液口 271实质上连接。该腔室排液口 271以外的各腔室排液口 271 (图4参照)与杯底部42的外侧凸部453在上下方向上重叠，从而实质上被堵塞。
[0186]当杯部4处于第三处理状态时，开始从处理液供给部5的上部喷嘴51向旋转中的基板9的上表面91供给第三处理液(步骤S19)。连续供给到基板9的上表面91的中央部的第三处理液借助离心力在基板9的上表面91上扩展并覆盖整个上表面91。由此，利用第三处理液对基板9的上表面91进行处理。
[0187]到达基板9的外周缘的第三处理液从该外周缘向径向外方飞散，并流入杯部4的外侧杯空间45。流入外侧杯空间45内的第三处理液经由杯排液口 451以及腔室排液口 271向腔室21外且壳体6外的第三排液部96c(参照图4)排出。排出到第三排液部96c的第三处理液被废弃。或者，排出到第三排液部96c的第三处理液根据需要被回收再利用。
[0188]在利用第三处理液对基板9的处理中，腔室21内的气体如上述那样借助第三排气机构95c经由内侧杯空间46、杯排气口461以及大腔室排气口 281向腔室21外且壳体6外排出。
[0189]当从上部喷嘴51开始供给第三处理液起经过规定时间时，停止供给第三处理液，结束利用第三处理液对基板9的处理。在基板9上残留的第三处理液通过基板9的旋转从基板9上除去，并经由外侧杯空间45、杯排液口 451以及腔室排液口 271向第三排液部96c排出。
[0190]当基板9上除去第三处理液时，停止基板9、基板保持部31以及顶板22的旋转(步骤
520)ο接着，通过控制部10控制杯旋转机构7，杯部4旋转，处于图2所示的待机状态(步骤
521)。步骤S21可以与步骤S20并行进行。当杯部4处于待机状态时，腔室盖部26以及顶板22上升，位于图2所示的退避位置。然后，盖部65向下方移动而打开搬入口64，基板9被从基板处理装置I搬出(步骤S22)。
[0191 ]如上所述，在基板处理装置I中，在杯部4处于待机状态的情况下，杯排气口 461的下端接近腔室底部256，各大腔室排气口 281的上端以及各小腔室排气口 284的上端接近杯底部42。由此，即使在利用第一排气机构95a、第二排气机构95b以及第三排气机构95c (参照图4)持续吸引的状态下，经由杯排气口 461吸引杯部4内的气体实质上被停止。其结果，在搬出基板9时，能够抑制壳体6的外部的气体从开放的搬入口 64流入壳体6内以及腔室21内。
[0192]如以上说明那样，在基板处理装置I中，在周向上排列的多个大腔室排气口281设置在腔室底部256。并且，通过控制部10控制杯旋转机构7，杯排气口 461有选择地与多个大腔室排气口 281中的某一个重叠。在杯排气口 461与第一腔室排气口组286a的大腔室排气口281重叠的状态下，通过第一排气机构95a将杯部4内的气体经由杯排气口 461以及该大腔室排气口 281向腔室21外且壳体6外排出。
[0193]另外，在杯排气口461与第二腔室排气口组286b的大腔室排气口 281重叠的状态下，通过第二排气机构95b将杯部4内的气体经由杯排气口 461以及该大腔室排气口 281向腔室21外且壳体6外排出。进而，在杯排气口461与第三腔室排气口组286c的大腔室排气口 281重叠的状态下，通过第三排气机构95c将杯部4内的气体经由杯排气口461以及该大腔室排气口 281向腔室21外且壳体6外排出。
[0194]这样，在基板处理装置I中，通过杯旋转机构7，不开放腔室21以及壳体6就使腔室21内且壳体6内的杯部4旋转，从而能够容易将从杯部4进行排气的排气机构在第一排气机构95a、第二排气机构95b以及第三排气机构95c之间切换。另外，由于能够利用简单的结构的机构来切换来自杯部4的排气的送出目的地(以下称为“排气目的地”。)，所以能够使基板处理装置I的结构简化。由此，与将对来自杯部的排气的排气目的地进行切换的切换器设置在壳体的外部的情况相比，能够使基板处理装置I小型化。进而，通过在腔室21内切换来自杯部4的排气的排气目的地，与通过共用配管等将排气引导至壳体外的切换器的情况相比，能够抑制排气中的气体状和雾滴状的处理液混蚀。
[0195]如上所述，在基板处理装置I中，在周向上排列的多个腔室排液口271设置在腔室底部256上。在杯排气口 461与第一腔室排气口组286a的大腔室排气口 281重叠的状态下，杯排液口 451与第一腔室排液口组276a的中央的腔室排液口 271重叠。并且，流入杯部4内的第一处理液经由杯排液口 451和该腔室排液口 271向腔室21外且壳体6外的第一排液部96a排出。
[0196]另外，在杯排气口461与第二腔室排气口组286b的大腔室排气口 281重叠的状态下，杯排液口 451与第二腔室排液口组276b的中央的腔室排液口 271重叠。流入杯部4内的第二处理液经由杯排液口 451和该腔室排液口 271向腔室21外且壳体6外的第二排液部96b排出。在杯排气口 461与第三腔室排气口组286c的大腔室排气口 281重叠的状态下，杯排液口451与第三腔室排液口组276c的中央的腔室排液口 271重叠。流入杯部4内的第三处理液经由杯排液口 451和该腔室排液口 271向腔室21外且壳体6外的第三排液部96c排出。
[0197]这样，在基板处理装置I中，通过杯旋转机构7使杯部4旋转，来自杯部4的排气的排气目的地的切换和来自杯部4的的处理液的送出目的地(以下“排液目的地”。)的切换能够利用I个机构同时进行。其结果，能够使基板处理装置I的结构简化，并且使基板处理装置I小型化。
[0198]在杯部4中，在杯内侧壁部43和杯外侧壁部41之间设置有间隔壁44，来自处理液供给部5的处理液流入杯外侧壁部41和间隔壁44之间的外侧杯空间45。另外，杯排液口 451比间隔壁44的下端更靠径向外侧，杯排气口 461比间隔壁44的下端更靠径向内侧。由此，能够通过简单地结构防止或抑制处理液流入杯排气口 461。
[0199]在基板处理装置I中，转子部72配置在壳体6内，定子部71配置在壳体6外。因此，能够在关闭壳体6的搬入口 64的状态下，使杯部4旋转来改变杯排液口 451以及杯排气口 461的位置。另外，还能够使壳体6的内部空间小型化。进而，通过将定子部71配置在转子部72的周围，能够在壳体6的中央部下方的空间容易配置基板旋转机构32和下部喷嘴52等的其他结构。
[0200]如上所述，由于转子部72配置在腔室21内，所以能够在密闭腔室21并维持腔室空间的状态下，使杯部4旋转来改变杯排液口 451以及杯排气口 461的位置。另外，由于定子部71配置在腔室21外，所以还能够使腔室空间小型化。
[0201]在基板处理装置I中，转子部72在壳体6内的腔室空间以漂浮状态旋转。因此，无需在腔室空间设置支撑转子部72的结构，能够实现基板处理装置I的小型化以及装置结构的简化。另外，由于不会在该支撑结构附着处理液，所以能够防止因所附着的处理液的干燥乾燥而产生颗粒等。进而，由于不会因转子部72和支撑结构的摩擦产生颗粒等，所以能够提高腔室空间以及壳体6内的清洁性。
[0202]在基板处理装置I中，例如，在向腔室空间填充氮气的情况等，有时寻求减小利用第一排气机构95a对腔室21进行排气的排气流量以降低氮气的消耗量。此时，杯旋转机构7由控制部10控制，如图8所示，杯排气口 461与第一腔室排气口组286a的小腔室排气口 284在上下方向上重叠。杯排气口461与小腔室排气口 284接近并在上下方向上相向。由此，杯排气口 461与小腔室排气口 284实质上连接。杯部4内的气体通过第一排气机构95a(参照图4)经由杯排气口 461以及该小腔室排气口 284向腔室21外且壳体6外排出。
[0203]如上所述，小腔室排气口284的上端的面积小于大腔室排气口 281的上端的面积。因此，杯部4的朝向通过杯旋转机构7从杯排气口 461和大腔室排气口 281重叠的状态向杯排气口 461和小腔室排气口 284重叠的状态变更，由此，杯排气口 461和腔室排气□的重复面积得以变更。由此，利用第一排气机构95a从腔室21进行排气的排气流量变小。
[0204]另外，杯排液口451与第一腔室排液口组276a的3个腔室排液口 271中的图4中的上侧的腔室排液口 271重叠。流入杯部4的外侧杯空间45的第一处理液经由杯排液口 451以及该腔室排液口 271向腔室21外且壳体6外的第一排液部96a (参照图4)排出。
[0205]这样，在基板处理装置I中，杯旋转机构7由控制部10控制，杯排气口461和腔室排气口的重复面积被变更，由此，能够根据对基板9的处理的内容等容易地变更来自腔室21的排气流量。另外，在基板处理装置I中，杯排气口461和腔室排气口的重复面积的变更是使杯排气口 461有选择地与第一腔室排气口组286a的大腔室排气口 281 (参照图1)或小腔室排气口 284重叠来实现。由此，在不变更第一排气机构95a的吸引力的情况下，以简单的结构变更来自腔室21的排气流量。
[0206]图9是放大表示第一腔室排气口组286a的小腔室排气口284、以及、与该小腔室排气口 284重叠的杯排气口461的图。如图9所示，小腔室排气口 284设置在内部的底部突出部285的上端面285a与上述的上下方向大致垂直。杯排气口 461的下端中的中央部的大致圆形的区域是与小腔室排气口 284的上端重复的重复区域461 a。杯排气口 461的下端中的重复区域461a的周围的圆环状的区域(S卩，除了重复区域461a之外的区域)是不与小腔室排气口284的上端重复的非重复区域461b。
[0207]杯排气口 461的非重复区域461b接近腔室底部256的底部突出部285的上端面285a并在上下方向上相向。由此，杯排气口461的非重复区域461b实质上被堵塞。因此，在通过第一排气机构95a经由杯排气口 461以及小腔室排气口 284进行排气时，能够防止或抑制杯部4下方的气体经由杯排气口 461的非重复区域461b被吸引到小腔室排气口 284内。其结果，能够高效地排出杯部4内的气体。在基板处理装置I中，利用底部突出部285的上端面285a这样简单的结构，就能够容易堵塞杯排气口 461的非重复区域461b。
[0208]此外，小腔室排气口 284如果设置在腔室底部256，则未必需要设置底部突出部285内。在省略底部突出部285的情况下，杯排气口 461的非重复区域461b在小腔室排气口 284的周围与腔室底部256接近，从而实质上被堵塞。即使在该情况下，与上述同样，能够高效地排出杯部4内的气体。
[0209]另外，在基板处理装置I中，有时需要微调整利用第一排气机构95a对腔室21进行排气的排气流量。在该情况下，从杯排气口 461与第一腔室排气口组286a的大腔室排气口281以及小腔室排气口 284中的一个腔室排气口重叠的状态，维持杯排气口 461和该一个腔室排气口的重复，并通过杯旋转机构7使杯部4旋转微小角度(例如5度)。
[0210]图10是表示杯排气口461附近的俯视图。在图10中示出，在上述的一个腔室排气口是大腔室排气口 281的情况下，维持杯排气口 461和该一个腔室排气口的重复，并使杯部4旋转微小角度的状态。在图10中，对杯排气口 461和大腔室排气口 281的重复区域标准平行斜线。通过杯部4的微小角度的旋转，杯排气口461和上述一个腔室排气口(在图10所示的例子中，为大腔室排气口 281)的重复面积被变更。其结果，能够通过简单的结构对利用第一排气机构95a从自腔室21进行排气的排气流量进行微调整。
[0211]在图1O所示的状态下，杯排气口461的下端中的除了与大腔室排气口 281的重复区域之外的非重复区域，与上述一个腔室排气口设置在内部的底部突出部282的上端面(SP，腔室底部256的一部分)接近并在上下方向上相向，从而实质上被堵塞。该底部突出部的上端面与上下方向大致垂直。另外，该一个腔室排气口的上端中的除了与杯排气口461的重复区域之外的非重复区域，与杯排气口 461设置在内部的底部突出部462的下端面(S卩，杯底部42的一部分)接近并在上下方向上相向，从而实质上被堵塞。底部突出部462的下端面也与上下方向大致垂直。
[0212]在基板处理装置I中，未必需要使杯排气口461与大腔室排气口 281或小腔室排气口 284有选择地重叠来变更排气流量。例如，如果能够通过变更杯排气口 461和大腔室排气口 281的重复区域的面积，实现变更所希望的排气流量，则上述的杯排气口 461和腔室排气口的重复面积的变更可以通过维持杯排气口 461和大腔室排气口 281的重复并使杯部4旋转来进行。由此，能够通过简单的结构来对利用第一排气机构95a从自腔室21排气的排气流量进行微调整。
[0213]在该情况下也与图10所示的状态同样，杯排气口461的下端中的除了与大腔室排气口 281的重复区域之外的非重复区域，与腔室底部256接近并在上下方向上相向，从而实质上被堵塞。另外，该大腔室排气口281的上端中的除了与杯排气口461的重复区域之外的非重复区域，与杯底部42接近并在上下方向上相向，从而实质上被堵塞。由此，能够通过第一排气机构95a高效地排出杯部4内的气体。
[0214]详细地说，杯排气口461的上述非重复区域与大腔室排气口 281形成在内部的底部突出部282的上端面接近并在上下方向上相向，从而实质上被堵塞。另外，大腔室排气口 281的上述非重复区域与杯排气口 461形成在内部的底部突出部462的下端面接近并在上下方向上相向，从而实质上被堵塞。底部突出部282的上端面、以及、底部突出部462的下端面与上下方向大致垂直。这样，在基板处理装置I中，能够通过简单的结构实质上堵塞杯排气口461的非重复区域、以及大腔室排气口 281的非重复区域。
[0215]如上所述，对在利用第一处理液进行处理时变更第一排气机构95a的排气流量、以及微调整排气流量进行了说明，但是，关于在利用第二处理液进行处理时变更第二排气机构95b的排气流量、以及微调整排气流量也同样。另外，关于在利用第三处理液进行处理时变更第三排气机构95c的排气流量、以及微调整排气流量也同样。
[0216]在基板处理装置I中，例如在利用第一处理液对基板9进行处理时，在使基板9的旋转速度下降(或使基板9的旋转停止)，通过第一处理液对基板9的上表面91进行浸液的情况等，寻求停止利用第一排气机构95a对腔室21的排气。在该情况下，杯旋转机构7由控制部1控制，如图11所示，杯排液口 451与第一腔室排液口组276a的3个腔室排液口 271中的图4中的下侧的腔室排液口 271重叠。在该状态下，杯部4的外侧杯空间45内的第一处理液经由杯排液口 451以及该腔室排液口 271向腔室21外且壳体6外的第一排液部96a排出。
[0217]另外，杯排气口461位于在周向上从第一腔室排气口组286a的大腔室排气口 281以及小腔室排气口 284离开的位置，并与第一腔室排气口组286a的内侧凸部283重叠。杯排气口461的下端与内侧凸部283的上端面接近并在上下方向上相向，从而实质上被堵塞。由此，第一排气机构95a对腔室21内的排气实质上被停止。
[0218]这样，在基板处理装置I中，杯旋转机构7由控制部10控制，能够使杯排气口461与第一腔室排气口组286a的大腔室排气口 281 (也可以是小腔室排气口 284。)或内侧凸部283有选择地重叠。由此，在经由杯排液口 451向第一排液部96a排出第一处理液时，能够容易地选择第一排气机构95a对腔室21内的排气状态和排气停止状态。
[0219]如上所述，对在利用第一处理液进行处理时停止第一排气机构95a的排气进行了说明，但是，关于在利用第二处理液进行处理时停止第二排气机构95b的排气，也同样。另外，关于在利用第三处理液进行处理时停止第三排气机构95c的排气，也同样。
[0220]在基板处理装置I中，杯底部42以及腔室下面部251的形状可以被变更。图12是表示其他理想的杯部4a的仰视图。图13是表示其他理想的腔室21a的腔室下面部251的俯视图。在图13中，与图4同样，用虚线同时表示杯部4a的杯外侧壁部41、间隔壁44以及杯内侧壁部43。
[0221]在图12所示的杯部4a中，形状与图3所示的杯部4的底部突出部462不同的底部突出部462a，设置在杯底部42并向下方突出。杯部4a的其他结构与图3所示的杯部4几乎同样，在以下的说明中标注相同的附图标记。如图12所示，底部突出部462a呈在周向上长并且以中心轴Jl为中心的大致圆弧状。底部突出部462a设置在配置有图3所示的底部突出部462、以及在周向上在底部突出部462的两侧相邻的2个内侧凸部463的周向的大致整个区域。底部突出部462a的下端面462b与上下方向大致垂直。杯排气口 461在底部突出部462a的周向的大致中央形成在底部突出部462a内。杯排气口461具有与图3所示的杯排气口461同样的大小以及形状。
[0222]在图13所示的腔室21a中，形状与图4所示的腔室21的底部突出部272以及腔室排液口 271不同的底部突出部272a以及腔室排液口 271a，设置在腔室下面部251的腔室底部256。腔室21a的其他结构与图3所示的腔室21几乎同样，在以下的说明中标注相同的附图标记。在图13所示的例子中，3个底部突出部272a、以及3个腔室排液口 271a设置在腔室下面部251的腔室底部256。3个腔室排液口 271a分别配置在图3所示的腔室排液口组276a?276c的位置。3个腔室排液口 271a分别与第一排液部96a、第二排液部96b以及第三排液部96c连接。
[0223]如图13所示，各底部突出部272a以及各腔室排液口 271a呈在周向上并以中心轴Jl为中心的大致圆弧状。各底部突出部272a设置在配置有图3所示的I个腔室排液口组的3个底部突出部272的周向的大致整个区域。各腔室排液口 271a设置在配置有I个腔室排液口组的3个腔室排液口 271的周向的整个区域。腔室排液口 27 Ia的周向的长度长于图12所示的杯排液口 451的周向的长度。
[0224]在杯排气口461与第一腔室排气口组286a的大腔室排气口 281在上下方向上重叠的状态下，杯排液口 451与连接有第一排液部96a的腔室排液口 271a的周向的中央部在上下方向上重叠。以下将该状态称为“大流量排气状态”。
[0225]在大流量排气状态下，杯部4a内的气体通过第一排气机构95a经由杯排气口461以及上述大腔室排气口 281向腔室21a外且壳体6外排出。另外，杯部4a的外侧杯空间45内的第一处理液经由杯排液口 451以及腔室排液口 27Ia向第一排液部96a排出。此外，第一腔室排气口组286a的小腔室排气口 284的上端与在杯排气口 461的周围扩展的底部突出部462a的下端面462b接近并在上下方向上相向，从而实质上被堵塞。
[0226]杯部4a维持杯排液口451和上述腔室排液口 271a的重复，并从大流量排气状态旋转，由此，杯排气口 461向从大腔室排气口 281在周向上偏移的位置移动。例如，变为如下状态，即，维持杯排液口 451和上述腔室排液口 27 Ia的重复，并且杯排气口 461与第一腔室排气口组286a的小腔室排气口 284在上下方向上重叠。以下将该状态称为“小流量排气状态”。
[0227]在小流量排气状态下，杯部4a内的气体通过第一排气机构95a经由杯排气口461以及上述小腔室排气口 284向腔室21a外排出。小流量排气状态下的来自腔室21a的排气流量小于大流量排气状态下的来自腔室21a的排气流量。在小流量排气状态下，与大流量排气状态同样，杯部4a的外侧杯空间45内的第一处理液经由杯排液口 451以及腔室排液口 27 Ia向第一排液部96a排出。此外，第一腔室排气口组286a的大腔室排气口 281的上端与在杯排气口461的周围扩展的底部突出部462a的下端面462b接近并在上下方向上相向，从而实质上被堵塞。
[0228]杯部4a维持杯排液口451和上述腔室排液口 271a的重复，并从大流量排气状态或小流量排气状态旋转，由此，杯排气口 461向从大腔室排气口 281以及小腔室排气口 284在周向上偏移的位置移动。例如处于如下状态，即，维持杯排液口 451和上述腔室排液口 27Ia的重复，杯排气口 461与第一腔室排气口组286a的内侧凸部283在上下方向上重叠。以下，将该状态称为“排气停止状态”。
[0229]在排气停止状态下，杯排气口461的下端与第一腔室排气口组286a的内侧凸部283的上端面接近并在上下方向上相向，从而实质上被堵塞。另外，第一腔室排气口组286a的大腔室排气口 281的上端与在杯排气口 461的周围扩展的底部突出部462a的下端面462b接近并在上下方向上相向，从而实质上被堵塞。第一腔室排气口组286a的小腔室排气口 284的上端与在周向上和底部突出部462a相邻的内侧凸部463的下端面接近并在上下方向上相向，从而实质上被堵塞。由此，利用第一排气机构95a经由杯排气口 461吸引杯部4a内的气体(即，利用第一排气机构95a从腔室21a进行排气)实质上被停止。在排气停止状态下，与大流量排气状态以及小流量排气状态同样，杯部4a的外侧杯空间45内的第一处理液经由杯排液口 451以及腔室排液口 271a向第一排液部96a排出。
[0230]在设置有图12以及图13所示的杯部4a以及腔室21a的情况下，能够持续将第一处理液向第一排液部96a排出，并且容易对第一排气机构95a的排气状态和排气停止状态进行切换。另外，在第一排气机构95a的排气状态下，通过有选择地对大流量排气状态以及小流量排气状态进行切换，还能够容易变更排气流量。进而，如上所述，能够通过简单的结构实现排气停止状态。
[0231]如上述所述，在设置有杯部4a以及腔室21a的情况下，对在利用第一处理液进行处理时的第一排气机构95a的大流量排气状态、小流量排气状态以及排气停止状态进行了说明，但是，关于在利用第二处理液进行处理时的第二排气机构95b的大流量排气状态、小流量排气状态以及排气停止状态，也同样。另外，关于在利用第三处理液进行处理时的第三排气机构95c的大流量排气状态、小流量排气状态以及排气停止状态，也同样。
[0232]图14是表示第二实施方式的基板处理装置Ia的剖视图。基板处理装置Ia具有形状与图1所示的杯部4以及腔室21不同的杯部4b以及腔室21b。基板处理装置Ia还具有升降机构33。除上述之外，基板处理装置Ia具有与图1所示的基板处理装置I大致同样的结构。在以下的说明中，对与基板处理装置I的各结构对应的基板处理装置Ia的结构标注相同的附图
ο
[0233]如图14所示，杯部4b具有在径向上位于间隔壁44和杯外侧壁部41之间的另一个间隔壁47。在以下的说明中为了容易区别间隔壁44、47，将间隔壁44、47分别称为“第一间隔壁44”以及“第二间隔壁47”。第二间隔壁47呈以中心轴Jl为中心的大致圆筒状。第二间隔壁47从杯底部42向上方扩展。第二间隔壁47随着从杯底部42接近上方而向径向外侧扩展，在上下方向的规定的位置的上侧，与中心轴Jl大致平行地向上方扩展。杯排液口 451比第二间隔壁47的下端更靠径向内侧且比第一间隔壁44的下端更靠径向外侧。在以下的说明中，将杯部4b的第一间隔壁44和第二间隔壁47之间的空间称为“第一外侧杯空间45a”。另外，将杯部4b的第二间隔壁47和杯外侧壁部41之间空间称为“第二外侧杯空间45b”。
[0234]图15是表示杯部4b的仰视图。如图14以及图15所示，在杯部4b的杯底部42上，在从杯排液口 451离开的位置上，设置有其他杯排液口 457。杯排液口 457比第二间隔壁47的下端更靠径向外侧、且比杯外侧壁部41的下端更靠径向内侧。即，杯排液口457比杯排液口451更靠径向外侧。在以下的说明中，为了容易区别杯排液口 451、457，将杯排液口 451、457分别称为“内杯排液口 451”以及“外杯排液口 457”。
[0235]外杯排液口457的下端的大小以及形状例如与内杯排液口 451的下端的大小以及形状大致相同。换言之，外杯排液口457的下端的面积与内杯排液口451的下端的面积大致相等。在图14以及图15中，外杯排液口 457和内杯排液口 451在径向上排列，但是，外杯排液口 457和内杯排液口 451也可以在周向上配置于彼此不同的位置。
[0236]图16是表示腔室21b的腔室下面部251的仰视图。在图16中，用虚线同时表示杯部4b的杯外侧壁部41、第一间隔壁44以及杯内侧壁部43。如图14以及图16所示，在腔室21b的腔室下面部251的腔室底部256上，设置有位于多个腔室排液口 271的径向外侧的其他腔室排液口 277。在以下的说明中，为了容易区别腔室排液口 271、277的区別，将腔室排液口 271、277分别称为“内腔室排液口 271”以及“外腔室排液口 277”。
[0237]外腔室排液口277位于在周向上与多个内腔室排液口 271不同的位置。外腔室排液口277的下端的大小以及形状例如与内腔室排液口 271的下端的大小以及形状大致相同。换言之，外腔室排液口 277的下端的面积与内腔室排液口 271的下端的面积大致相等。外腔室排液口 277与相对于第一排液部96a、第二排液部96b以及第三排液部96c独立的其他排液部(以下称为“第四排液部96d”。)连接。
[0238]在腔室下面部251的腔室底部256，除了图4所示的3个大腔室排气口 281外，还设置有另一个大腔室排气口 281。该另一个大腔室排气口 281与相对于第一排气机构95a、第二排气机构95b以及第三排气机构95c独立的其他排气机构(以下称为“第四排气机构95d”。)连接。该大腔室排气口 281与外腔室排液口 277隔着中心轴Jl位于相反侧，与其他的大腔室排气口 281以及多个小腔室排气口 284在周向上排列。
[0239]在图14所示的例子中，外杯排液口457与外腔室排液口277在上下方向上重叠。夕卜杯排液口 457的下端与外腔室排液口 277的上端接近并在上下方向上相向。由此，外杯排液口 457和外腔室排液口 277实质上被连接。外杯排液□ 457经由外腔室排液口 277与第四排液部96d连接。另外，内杯排液口 451与腔室底部256的外侧凸部273在上下方向重叠，从而实质上被堵塞。
[0240]在图14所示的例子中，杯排气口461与和第四排气机构95d连接的上述的大腔室排气口 281在上下方向上重叠。杯排气口 461的下端与该大腔室排气口 281的上端接近并在上下方向上相向。由此，杯排气口461和该大腔室排气口 281实质上被连接。杯排气口461经由大腔室排气口 281与第四排气机构95d连接。
[0241]升降机构33使基板保持部31相对于杯部4b在上下方向上移动。在图14所示的例子中，升降机构33与基板旋转机构32相邻配置。通过升降机构33使基板旋转机构32在上下方向上移动，从而基板9与基板保持部31—起在上下方向上移动。基板9能够在图14所示的位置和图17所示的位置之间在上下方向上移动。在以下的说明中，将图17所示的基板9的相对于杯部4b的相对位置称为“第一位置”，将图14所示的基板9的相对于杯部4b的相对位置称为“第二位置”。第二位置比第一位置更靠上方。
[0242]在图17中，杯部4b的朝向与图14所示的朝向不同，与图1所示的朝向相同。具体地说，杯排气口461与和第一排气机构95a连接的大腔室排气口 281在上下方向上重叠。内杯排液口 451与和第一排液部96a连接的内腔室排液口 271在上下方向上重叠。另一方面，外杯排液口 457与在腔室下面部251的腔室底部256设置的外侧凸部279在上下方向上重叠，从而实质上被堵塞。另外，和第四排气机构95d连接的大腔室排气口 281(参照图16)与杯部4b的内侧凸部463在上下方向上重叠，从而实质上被堵塞。
[0243]如图17所示，在基板9位于第一位置的状态下，顶板22的板侧壁部225的下端部比杯部4b的第二间隔壁47更靠径向内侧，并与第二间隔壁47的上端部在径向上重叠。因此，从处理液供给部5供给到基板9上的第一处理液流入第一外侧杯空间45a。第一外侧杯空间45a内的第一处理液经由内杯排液口 451以及内腔室排液口 271向第一排液部96a排出。在基板处理装置Ia中，在利用第二处理液对基板9进行处理时也同样，基板9位于第一位置，第二处理液流入第一外侧杯空间45a并向第二排液部96b排出。在利用第三处理液对基板9进行处理时也同样，基板9位于第一位置，第三处理液流入第一外侧杯空间45a并向第三排液部96c排出。
[0244]在基板处理装置Ia中，在从处理液供给部5向基板9供给第四处理液的情况下，如图14所示，基板9位于第二位置。在基板9位于第二位置的状态下，顶板22的板侧壁部225的下端部比杯部4b的第二间隔壁47的上端更靠上方。板侧壁部225的下端部比杯部4b的杯外侧壁部41更靠径向内侧，与杯外侧壁部41的上端部在径向上重叠。因此，从处理液供给部5供给到基板9上的第四处理液流入第二外侧杯空间45b。
[0245]如上所述，外杯排液口457与外腔室排液口 277重叠，因此，第二外侧杯空间45b内的第四处理液经由外杯排液口 457以及外腔室排液口 277向腔室21b外且壳体6外的第四排液部96d(参照图16)排出。排出到第四排液部96d的第四处理液被回收再利用。
[0246]在基板处理装置Ia中，杯部4b的处理液流入的空间被分割为第一外侧杯空间45a和第二外侧杯空间45b，通过使基板9升降，来选择使用第一外侧杯空间45a或第二外侧杯空间45b。由此，能够抑制杯部4b内的多种处理液的混合。其结果，能够将与其他的处理液不同的利用外侧杯空间45b排出的处理液(在上述的例为第四处理液)高效地回收再利用。另外，能够降低由处理液的混合接触引起的发热。此外，第四处理液可以是与第一?第三处理液不同的处理液，也可以是某一个相同的种类的处理液。
[0247]图18是表示腔室21b的其他理想的例子的腔室下面部251的俯视图。在图18所示的例子中，和第四排液部96d连接的外腔室排液口277，与和第二排液部96b连接的I个内腔室排液口 271位于周向上的相同位置。来自位于上述的第二位置的基板9的第四处理液经由外杯排液口457以及外腔室排液口 277向第四排液部96d排出。另外，腔室21内的排气通过第二排气机构95b经由隔着中心轴Jl位于外腔室排液口 277的相反侧的大腔室排气口 281来进行。图18所示的结构例如适用于通过第二排液部96b和第四排液部96d分別回收2种酸性的处理液但无需区分排气的情况。通过采用图18的结构，能够省略第四排气机构而简化排气机构。
[0248]图19是表示第三实施方式的基板处理装置Ib的杯部4c的仰视图。图20是表示基板处理装置Ib的腔室21c的腔室下面部251的俯视图。在图20中，用虚线同时表示杯部4c的杯外侧壁部41、间隔壁44以及杯内侧壁部43。基板处理装置Ib除了形状与图1所示的杯部4以及腔室21不同的杯部4c以及腔室21c之外，具有与图1所示的基板处理装置I大致同样的结构。在以下的说明中，对与基板处理装置I的各结构对应的基板处理装置Ib的结构标注相同的附图标记。
[0249]如图19所示，在杯部4c中，除了杯排液口451以及杯排气口 461外，在周向上与杯排气口 461—起排列的杯排气口 464也设置在杯底部42上。杯排气口 464设置于多个底部突出部465内，底部突出部465设置在杯底部42并向下方突出。杯排气口464与杯排气口461在周向上相邻。在以下的说明中，为了容易区别杯排气口 461、464，而将杯排气口 461、464分别称为“大杯排气口 461”以及“小杯排气口 464”。另外，将大杯排气口 461以及小杯排气口 464概括起来仅称为“杯排气口”。
[0250]小杯排气口464的直径小于大杯排气口 461的直径。换言之，小杯排气口 464的下端的面积小于大杯排气口 461的下端的面积。小杯排气口 464设置在内部的底部突出部465的外径小于大杯排气口 461设置在内部的底部突出部462的外径。底部突出部465的下端面与上下方向大致垂直。
[0251]如图20所示，在腔室21c的腔室下面部251的腔室底部256中，省略在图4所示的腔室21的腔室下面部251的腔室底部256设置的小腔室排气口 284，取代小腔室排气口 284而设置内侧凸部283。因此，在第一排气机构95a、第二排气机构95b以及第三排气机构95c上分别连接有I个大腔室排气口 281 (以下仅称为“腔室排气口 281”。)。
[0252]在基板处理装置Ib中，通常在利用第一处理液对基板9进行处理时，杯部4c向图1所示的朝向旋转，流入外侧杯空间45的第一处理液经由图19所示的杯排液口 451、以及图20所示的第一腔室排液口组276a的中央的腔室排液口 271，向腔室21c外且壳体6外的第一排液部96a排出。另外，杯部4c内的气体通过第一排气机构95a，经由大杯排气口 461、以及、与第一腔室排液口组276a隔着中心轴Jl位于相反侧的腔室排气口 281，向腔室21c外且壳体6外排出。
[0253]另一方面，在寻求使利用第一排气机构95a从腔室21c排气的排气流量变小的情况下，杯旋转机构7由控制部10控制，如图21所示，小杯排气口 464与第一腔室排气口组286a的腔室排气口 281在上下方向上重叠。小杯排气口 464与腔室排气口 281接近并在上下方向上相向。由此，小杯排气口 464与腔室排气口 281实质上连接。杯部4c内的气体通过第一排气机构95a，经由小杯排气口 464以及腔室排气口 281向腔室21c外且壳体6外排出。
[0254]如上所述，小杯排气口464的下端的面积小于大杯排气口 461的下端的面积。因此，通过杯旋转机构7将杯部4c的朝向从大杯排气口 461和腔室排气口 281重叠的状态向小杯排气口 464和腔室排气口 281重叠的状态变更，从而杯排气口和腔室排气口 281的重复面积得以变更。由此，利用第一排气机构95a从腔室21c排气的排气流量变小。
[0255]另外，图19所示的杯排液口451与图20所示的第一腔室排液口组276a的3个腔室排液口 271中的图20中的下侧的腔室排液口 271重叠。流入杯部4c的外侧杯空间45的第一处理液经由杯排液口 451以及该腔室排液口 271向腔室21c外且壳体6外的第一排液部96a排出。
[0256]这样，在基板处理装置Ib中，与图1所示的基板处理装置I同样，由控制部10控制杯旋转机构7，变更杯排气口和腔室排气口 281的重复面积，由此，能够根据对基板9的处理的内容等，容易变更来自腔室21c的排气流量。另外，在基板处理装置Ib中，杯排气口和腔室排气口 281的重复面积的变更通过使大杯排气口 461或小杯排气口 464有选择地与第一腔室排气口组286a的腔室排气口 281重叠来实现。由此，不变更第一排气机构95a的吸引力就能够通过简单的结构变更来自腔室21c的排气流量。
[0257]图22是放大表示小杯排气口464、以及、与小杯排气口 464在上下方向上重叠的第一腔室排气口组286a的腔室排气口 281的图。如图22所示，小杯排气口 464设置在内部的底部突出部465的下端面465a如上所述那样与上下方向大致垂直。腔室排气口 281的上端中的中央部的大致圆形的区域是与小杯排气口 464的下端重复的重复区域281a。腔室排气口 281的上端中的重复区域281 a的周围的圆环状的区域(S卩，除了重复区域281 a之外的区域)是不与小杯排气口 464的下端重复的非重复区域281b。
[0258]腔室排气口 281的非重复区域281b与杯底部42的底部突出部465的下端面465a接近并在上下方向上相向。由此，腔室排气口281的非重复区域281b实质上被堵塞。因此，在通过第一排气机构95a经由小杯排气口 464以及腔室排气口 281进行排气时，能够防止或抑制杯部4c下方的气体经由腔室排气口281的非重复区域281b被吸引到腔室排气口281内。其结果，能够高效地排出杯部4c内的气体。在基板处理装置Ib中，能够利用底部突出部465的下端面465a这样简单的结构，容易堵塞腔室排气口 281的非重复区域281b。
[0259]此外，小杯排气口 464如果设置在杯底部42，则未必需要设置在底部突出部465内。在省略底部突出部465的情况下，腔室排气口 281的非重复区域281b也在小杯排气口 464的周围与杯底部42接近，而实质上被堵塞。即使在该情况下，与上述同样，也能够高效地排出杯部4c内的气体。
[0260]在基板处理装置Ib中与上述的基板处理装置I同样，寻求对利用第一排气机构95a从腔室21c排气的排气流量进行微调整。在该情况下，从图19所示的大杯排气口461以及小杯排气口 464中的一个杯排气口与和图20所示的第一排气机构95a连接的腔室排气口 281重叠的状态，维持该一个杯排气口和腔室排气口 281的重复，并通过杯旋转机构7使杯部4c旋转微小角度(例如5度)。
[0261 ]通过杯部4c的微小角度的旋转，变更上述一个杯排气口和腔室排气口 281的重复面积。其结果，能够通过简单的结构对利用第一排气机构95a从腔室21c排气的排气流量进行微调整。
[0262]在该情况下，与图10同样，腔室排气口281的上端中的除了与该一个杯排气口的重复区域之外的非重复区域，与该一个杯排气口设置在内部的底部突出部的下端面(即，杯底部42的一部分即与上下方向大致垂直的面)接近并在上下方向相向，从而实质上被堵塞。另夕卜，该一个杯排气口的下端中的除了与腔室排气口 281的重复区域之外的非重复区域，与腔室排气口 281设置在内部的底部突出部282的上端面(S卩，腔室底部256的一部分即与上下方向大致垂直的面)接近并在上下方向上相向，从而实质上被堵塞。
[0263]如上所述，在设置有杯部4c以及腔室21c的情况下，对利用第一处理液进行处理时的第一排气机构95a的流量变更进行了说明，但是，关于利用第二处理液进行处理时的第二排气机构95b的流量变更，也同样。另外，关于利用第三处理液进行处理时的第三排气机构95c的流量变更，也同样。
[0264]图23是表示第四实施方式的基板处理装置Ic的剖视图。基板处理装置Ic除了还具有突出部34这一点外，具有与图1所示的基板处理装置I大致同样的结构。在以下的说明中，对与基板处理装置I的各结构对应的基板处理装置Ic的结构标注相同附图标记。
[0265]突出部34从基板保持部31的基座部311的下表面向下方(S卩，向杯部4)突出。突出部34呈包围中心轴Jl的周围的环状。详细地说，突出部34是以中心轴Jl为中心的大致圆筒状的部位。突出部34例如与基座部311 —体形成。在图23所示的例子中，突出部34比杯部4的间隔壁44更靠径向外侧、且比杯外侧壁部41更靠径向内侧。突出部34也可以在径向上设置在与杯部4的间隔壁44相同的位置，并从间隔壁44向上方离开。
[0266]在基板处理装置Ic中，与上述的基板处理装置I同样，在对基板9进行处理时，使基板9的旋转速度下降(或者停止基板9的旋转)，通过处理液对基板9的上表面91进行浸液。此时，从基板9上流到基座部311的上表面上的处理液可能会绕到基座部311的下表面(S卩，沿着基座部311的表面向下表面移动)。
[0267]在基板处理装置Ic中，如上所述，由于设置从基座部311的下表面向下方突出的环状的突出部34，因此绕到基座部311的下表面的处理液沿着突出部34的外周面向杯部4的外侧杯空间45落下。这样，在基板处理装置Ic中，能够抑制绕到基座部311的下表面的处理液向突出部34的径向内侧移动。另外，突出部34设置在杯部4的间隔壁44的径向外侧、或在径向上设置在与间隔壁44相同的位置，因此能够防止处理液向内侧杯空间46落下并从杯排气口 461流入排气机构。突出部34也可以设置在上述的基板处理装置1、la、Ib。
[0268]图24是表示第五实施方式的基板处理装置Id的剖视图。在基板处理装置Id中，设置有形状与图1所示的杯部4以及腔室21不同的杯部4d以及腔室21d。另外，在基板处理装置Id中，杯排气口461设置在杯内侧壁部43，腔室排气口281、284设置在腔室内侧壁部255，该腔室内侧壁部255位于杯内侧壁部43的径向内侧并与杯内侧壁部43在径向上相向(腔室排气口 284在图25中示出)。基板处理装置Id与图23所示的基板处理装置Ic同样，具有突出部34。基板处理装置Id的其他结构与图1所示的基板处理装置I大致同样。在以下的说明中，对与基板处理装置I的各结构对应的基板处理装置Id的结构标注相同附图标记。
[0269]图25是表示对腔室21d以及杯部4d在杯排气口461以及腔室排气口 281、284的位置进行切断得到的剖面的横向剖视图。图26是腔室下面部251的俯视图。在图26中，用虚线同时表示杯外侧壁部41、杯内侧壁部43、腔室内侧壁部255以及通道内壁部257。
[0270]如图24至图26所示，在杯部4d中，省略图1所示的间隔壁44，杯部4d的内侧的空间变为杯空间45。另外，大致圆筒状的杯内侧壁部43比图1所示的位置更靠径向外侧。在腔室下面部251中，大致圆筒状的腔室内侧壁部255比图1所示的位置更靠径向外侧。另外，在腔室内侧壁部255和基板旋转机构32之间，设置有大致圆筒状的通道内壁部257。通道内壁部257从下面中央部254的下表面向下方扩展。腔室底部256也从腔室内侧壁部255向径向内侧扩展，通道内壁部257的下端部与腔室底部256连接。
[0271]腔室内侧壁部255和通道内壁部257之间的空间(S卩，由腔室内侧壁部255、下面中央部254、通道内壁部257以及腔室底部256包围的空间)被分割为彼此独立的多个空间。在如图25所示的例子中，腔室内侧壁部255和通道内壁部257之间的空间包括第一通道287a、第二通道287b以及第三通道287c。如图24所示，在第一通道287a中，设置有贯通腔室底部256以及壳体底部61的贯通孔，第一通道287a经由该贯通孔与图25所示的第一排气机构95a连接。第二通道287b经由在底部设置的同样的另一个贯通孔与第二排气机构95b连接，第三通道287c也经由在底部设置的同样的又一贯通孔与第三排气机构95c连接。
[0272]杯排气口461例如是贯通杯内侧壁部43的贯通孔。该贯通孔的截面例如为圆形。该贯通孔的截面形状可以适当变更。杯排气口 461例如在杯内侧壁部43的上端附近仅设置I个。杯排气口 461与位于杯内侧壁部43的径向外侧的突出部34的内周面在径向上相向。换言之，突出部34的下端比杯排气口 461的下端更靠下方、或者在上下方向上与杯排气口 461的下端位于相同的位置。
[0273]腔室排气口281、284例如是贯通腔室内侧壁部255的贯通孔。该贯通孔的截面例如是圆形。该贯通孔的截面形状可以适当变更。腔室排气口 281、284例如在腔室内侧壁部255的上端附近沿周向排列。腔室排气口 281、284在上下方向上配置在与杯排气口 461大致相同的位置。在图25所示的例子中，3个大腔室排气口 281以及3个小腔室排气口 284在周向上交替排列。大腔室排气口 281的截面形状以及截面积与杯排气口 461的截面形状以及截面积大致相同。小腔室排气口 284的截面积小于杯排气口 461以及大腔室排气口 281的截面积。
[0274]在以下的说明中，将与第一通道287a连接的I个大腔室排气口281以及I个小腔室排气口 284概括起来称为“第一腔室排气口组286a”。另外，将与第二通道287b连接的I个大腔室排气口 281以及I个小腔室排气口 284概括起来称为“第二腔室排气口组286b”。进而，将与第三通道287c连接的I个大腔室排气口 281以及I个小腔室排气口 284概括起来称为“第三腔室排气口组286c”。还将第一腔室排气口组286a、第二腔室排气口组286b以及第三腔室排气口组286c概括起来称为“腔室排气口组286a?286c”。在图25以及图26中，分别用双点划线包围各腔室排气口组286a?286c。
[0275]第一腔室排气口组286a的大腔室排气口281以及小腔室排气口 284经由第一通道287a与第一排气机构95a连接。第二腔室排气口组286b的大腔室排气口 281以及小腔室排气口 284经由第二通道287b与第二排气机构95b连接。第三腔室排气口组286c的大腔室排气口281以及小腔室排气口 284经由第三通道287c与第三排气机构95c连接。排气机构95a?95c配置在基板处理装置Id的外部。在使用基板处理装置Id的期间，排气机构95a?95c的吸引持续进行。
[0276]如图26所示，与图4同样，在腔室底部256设置有多个(例如9个)腔室排液口271，多个腔室排液口 271具有第一腔室排液口组276a、第二腔室排液口组276b以及第三腔室排液口组276c。第一腔室排液口组276a、第二腔室排液口组276b以及第三腔室排液口组276c分别隔着中心轴Jl位于与第一腔室排气口组286a、第二腔室排气口组286b以及第三腔室排气口组286c相反一侧。
[0277]在各腔室排液口组276a?276c中，3个腔室排液口271在周向以等角度间隔排列。第一腔室排液口组276a的3个腔室排液口 271与第一排液部96a连接。第二腔室排液口组276b的3个腔室排液口 271与第二排液部96b连接。第三腔室排液口组276c的3个腔室排液口271与第三排液部96c连接。第一排液部96a、第二排液部96b以及第三排液部96c彼此独立设置。
[0278]在基板处理装置Id中，通过控制部10(参照图1)来控制杯旋转机构7，有选择地使杯排气口 461与多个大腔室排气口 281以及多个小腔室排气口 284中的某一个重叠。另外，有选择地使杯排液口 451与多个腔室排液口 271中的某一个重叠。
[0279]在杯排气口461与第一腔室排气口组286a的大腔室排气口 281在径向上重叠的状态下，杯排液口 451与第一腔室排液口组276a的中央的腔室排液口 271在上下方向上重叠。杯部4d内的气体通过第一排气机构95a经由杯排气口 461、上述大腔室排气口 281以及第一通道287a排出。另外，杯部4d内的液体通过第一排液部96a经由杯排液口 451以及上述腔室排液口 271排出。
[0280]在杯排气口 461与第一腔室排气口组286a的小腔室排气口 284在径向上重叠的状态下，杯排液口 451与第一腔室排液口组276a的图26中的上侧的腔室排液口 271在上下方向上重叠。杯部4d内的气体通过第一排气机构95a经由杯排气口 461、上述小腔室排气口 284以及第一通道287a排出。如上所述，小腔室排气口 284的截面积小于大腔室排气口 281的截面积，因此，通过利用小腔室排气口 284，排气流量变小。杯部4d内的液体通过第一排液部96a排出。换言之，通过使杯部4d旋转，在不变更排气目的地的情况下而能仅变更排气流量。[0281 ]在杯排液口 451与第一腔室排液口组276a的图26中的下侧的腔室排液口 271在上下方向上重叠的状态下，杯排气口461位于在周向上从第一腔室排气口组286a的大腔室排气口 281以及小腔室排气口 284离开的位置。在该状态下，杯排气口 461与腔室排气口 281、284都不重叠，与腔室内侧壁部255的外周面接近并在径向上相向，实质上被腔室内侧壁部255堵塞。由此，实质上停止经由杯排气口 461吸引杯部4d内的气体。其结果，在实质上停止排出杯部4d内的气体的状态下，杯部4d内的液体由第一排液部96a排出。
[0282]在杯排气口 461与第二腔室排气口组286b的大腔室排气口 281在径向上重叠的状态下，杯排液口451与第二腔室排液口组276b的中央的腔室排液口 271在上下方向上重叠。杯部4d内的气体以比较大的流量由第二排气机构95b排出，杯部4d内的液体由第二排液部96b排出。
[0283]在杯排气口 461与第二腔室排气口组286b的小腔室排气口 284在径向上重叠的状态下，杯排液口 451与第二腔室排液口组276b的图26中的右侧的腔室排液口 271在上下方向重叠。杯部4d内的气体以比较小的流量由第二排气机构95b排出，杯部4d内的液体由第二排液部96b排出。即，通过使杯部4d旋转，不该变更排气目的地而能仅变更排气流量。
[0284]在杯排液口451与第二腔室排液口组276b的图26中的左侧的腔室排液口 271在上下方向上重叠的状态下，杯排气口 461与腔室排气口 281、284都不重叠，与腔室内侧壁部255的外周面接近而实质上被堵塞。由此，实质上停止经由杯排气口 461吸引杯部4d内的气体。其结果，在实质上停止排出杯部4d内的气体的状态下，杯部4d内的液体由第二排液部96b排出。
[0285]在杯排气口461与第三腔室排气口组286c的大腔室排气口 281在径向上重叠的状态下，杯排液口451与第三腔室排液口组276c的中央的腔室排液口 271在上下方向上重叠。杯部4d内的气体以比较大的流量由第三排气机构95c排出，杯部4d内的液体由第三排液部96c排出。
[0286]在杯排气口 461与第三腔室排气口组286c的小腔室排气口 284在径向上重叠的状态下，杯排液口 451与第三腔室排液口组276c的图26中的右侧的腔室排液口 271在上下方向上重叠。杯部4d内的气体以比较小的流量由第三排气机构95c排出，杯部4d内的液体由第三排液部96c排出。即，通过使杯部4d旋转，不变更排气目的地而能仅变更排气流量。
[0287]在杯排液口451与第三腔室排液口组276c的图26中的左侧的腔室排液口 271在上下方向上重叠的状态下，杯排气口 461与腔室排气口 281、284都不重叠，与腔室内侧壁部255的外周面接近而实质上被堵塞。由此，实质上停止经由杯排气口 461吸引杯部4d内的气体。其结果，在实质上停止排出杯部4d内的气体的状态下，杯部4d内的液体由第三排液部96c排出。
[0288]在基板处理装置Id中，与图1所示的基板处理装置I同样，在不开放腔室21d以及壳体6的情况下，通过杯旋转机构7使腔室21d内且壳体6内的杯部4d旋转，从而能够容易使对从杯部4d进行排气的排气机构在第一排气机构95a、第二排气机构95b以及第三排气机构95c之间进行切换。另外，由于通过利用简单的结构对来自杯部4d的排气的排气目的地进行切换，所以能够使基板处理装置Id的结构简化、小型化。进而，通过在腔室21d内切换来自杯部4d的排气的排气目的地，从而能够抑制排气中的气体状和雾滴状的处理液发生混蚀。
[0289]如上所述，在基板处理装置Id中，杯排气口461设置在杯内侧壁部43，第一腔室排气口组286a、第二腔室排气口组286b以及第三腔室排气口组286c的腔室排气口 281、284设置在与杯内侧壁部43相向的腔室内侧壁部255上。这样，通过将杯排气口 461以及腔室排气口 281、284设置在杯底部42的上方，从而能够抑制处理液经由杯排气口 461以及腔室排气口281、284进入排气机构95a?95c。另外，通过将杯排气口 461以及腔室排气口 281、284设置在基板保持部31的下方，能够进一步抑制处理液进入排气机构95a?95c。
[0290]在基板处理装置Id中，与图23所示的基板处理装置Ic同样，设置有从基座部311的下表面向下方突出的环状的突出部34。因此，绕到基座部311的下表面的处理液沿着突出部34的外周面向杯部4d的杯空间45落下。这样，在基板处理装置Id中，能够防止绕到基座部311的下表面的处理液向突出部34的径向内侧移动。其结果，能够进一步抑制处理液经由杯排气口 461以及腔室排气口 281、284进入排气机构95a?95c。另外，突出部34的下端比杯排气口461的下端更靠下方、或者在上下方向上与杯排气口461的下端位于相同的位置。由此，能够更进一步抑制处理液经由杯排气口 461以及腔室排气口 281、284进入排气机构95a?95c。
[0291 ]在基板处理装置Id中，可以取代第一腔室排液口组276a的3个腔室排液口 271，而设置在周向长的大致圆弧状的I个腔室排液口 271a(参照图13)。对于第二腔室排液口组276b以及第三腔室排液口组276c也同样。另外，基板处理装置Id的结构可以应用于上述的基板处理装置la。
[0292]在基板处理装置Id中，可以如图19以及图20所示的基板处理装置Ib那样在杯部4d的杯内侧壁部43设置大小2个杯排气口 461，而在各腔室排气口组286a?286c设置I个腔室排气口 281，通过有选择地使上述2个杯排气口 461中一个与腔室排气口 281重叠，来变更排气流量。
[0293]在上述基板处理装置l、la?Id中，能够进行各种变更。
[0294]在图1所示的基板处理装置I中，可以在腔室底部256设置图4所示的腔室排气口组286a?286c中的至少2个腔室排气口组。在图24所示的基板处理装置Id也同样，可以在腔室内侧壁部255设置图25所示的腔室排气口组286a?286c中的至少2个腔室排气口组。另外，在基板处理装置1、Id的各腔室排气口组中，可以仅设置大腔室排气口 281以及小腔室排气口 284中的一个腔室排气口。即，在腔室21、21d上，可以设置分别与彼此独立的至少2个排气机构连接的至少2个腔室排气口。以下，将该2个腔室排气口分别称为“第一腔室排气口”以及“第二腔室排气口”。
[0295]在腔室21、21d设置有第一腔室排气口以及第二腔室排气口的情况下，通过使杯部
4、4d旋转来使杯排气口 461有选择地第一腔室排气口或第二腔室排气口重叠，从而如上所述，能够容易切换排气机构。
[0296]在腔室底部256中，未必设置图4以及图26分别示出的9个腔室排液口271。但是，在腔室底部256中，优选至少设置分别与第一腔室排气口以及第二腔室排气口对应的第一腔室排液口以及第二腔室排液口。第一腔室排液口以及第二腔室排液口分别与彼此独立的2个排液部连接。
[0297]并且，在杯排气口461与第一腔室排气口重叠的状态下，杯排液口 451与第一腔室排液口重叠，在杯排气口 461与第二腔室排气口重叠的状态下，杯排液口 451与第二腔室排液口重叠。由此，如上所述，能够通过一个机构同时进行排气目的地的切换和排液目的地的切换。
[0298]上述的第一腔室排气口以及第二腔室排气口例如可以是与第一排气机构95a连接的大腔室排气口 281、以及与第二排气机构95b连接的大腔室排气口 281。在该情况下，第一腔室排液口以及第二腔室排液口是与第一排液部96a连接的I个腔室排液口 271、以及与第二排液部96b连接的I个腔室排液口 271。
[0299]另外，第一腔室排气口以及第二腔室排气口例如可以是与第三排气机构95c连接的小腔室排气口 284、以及与第一排气机构95a连接的小腔室排气口 284。在该情况下，第一腔室排液口以及第二腔室排液口是与第三排液部96c连接的I个腔室排液口 271、以及、与第一排液部96a连接的I个腔室排液口 271。
[0300]杯排气口 461如果设置在杯部上，则未必设置在杯内侧壁部43或杯底部42。例如，杯排气口 461可以设置在杯内侧壁部43和杯底部42的边界附近。
[0301]杯排气口 461还可以如图27所示的基板处理装置Ie那样设置在杯外侧壁部41。在该情况下，上述的第一腔室排气口以及第二腔室排气口(例如大腔室排气口 281)设置在与杯外侧壁部41相向的腔室外侧壁部252上，并在上下方向上设置在与杯排气口 461大致相同的位置。在杯排气口461设置在杯外侧壁部41上的情况下，优选设置有屋檐部48，该屋檐部48从杯外侧壁部41的上端部向径向内方扩展，进而向下方扩展，与杯排气口 461在径向上相向。优选屋檐部48还覆盖杯排气口 461的周向的两侧。通过设置屋檐部48，能够抑制从基板9飞散的处理液进入杯排气口 461。
[0302]在图1所示的基板处理装置1、以及、图14所示的基板处理装置Ia中，在腔室底部256，可以设置图4以及图16所示的多组大腔室排气口 281以及小腔室排气口 284中的至少I组大腔室排气口 281以及小腔室排气口 284。在该情况下，优选与大腔室排气口 281以及小腔室排气口 284对应的2个腔室排液口 271设置在腔室底部256。在图20所示的基板处理装置Ib的腔室底部256中，可以设置至少I个腔室排气口 281。在该情况下优选与该I个腔室排气口281对应的I个腔室排液口组设置在腔室底部256。
[0303]在腔室底部256设置的(内)腔室排液口 271、外腔室排液口 277、(大)腔室排气口281、小腔室排气口 284、外侧凸部273、279以及内侧凸部283的数量以及在周向上的配置可以适当变更。在杯底部42设置的(内)杯排液口451、外杯排液口 457、(大)杯排气口461、小杯排气口 464、外侧凸部453以及内侧凸部463的数量以及在周向上的配置也可以适当变更。
[0304]在基板处理装置1、Ia?Ie中，在腔室21、21a?21d上设置的(内)腔室排液口 271、外腔室排液口 277、(大)腔室排气口 281、小腔室排气口 284、外侧凸部273，279以及内侧凸部283的数量以及在周向上的配置可以适当变更。在杯部4、4a?4d上设置的(内)杯排液口451、外杯排液口457、(大)杯排气口 461、小杯排气口 464、外侧凸部453以及内侧凸部463的数量以及在周向上的配置也可以适当变更。
[0305]从基板9流入杯部的处理液可以通过共用配管向腔室外且壳体外排出，在壳体外通过阀等对排出目的地进行切换。即使在该情况下，由于处理液用的阀和配管比较小型，因此能够抑制基板处理装置1、Ia?Ie的大型化。
[0306]杯部4、4a?4d的杯外侧壁部41、杯内侧壁部43、(第一)间隔壁44以及第二间隔壁47只要是大致筒状即可，也可以是除了大致圆筒状以外的各种形状。
[0307]腔室开闭机构23未必使腔室盖部26在上下方向上移动，例如也可以在腔室盖部26被固定的状态下，使腔室主体25在上下方向上移动。腔室21、21a?21d未必限于大致圆筒状，可以是各种形状。在上述的基板处理装置1、la?Ie中，腔室21、21a?21d未必形成密闭空间。例如也可以省略腔室盖部26以及顶板22，腔室21、21a?21d为上部开放的开放腔室。
[0308]升降机构33未必使基板9以及基板保持部31在上下方向上移动，例如也可以在基板保持部31在上下方向上固定的状态下，使杯部4b在上下方向上移动。
[0309]杯旋转机构7的定子部71以及转子部72的形状以及结构可以进行各种变更。转子部72未必以漂浮状态旋转，可以在腔室21、21a?21d内设置机械支撑转子部72的导轨等的结构，使转子部72沿着该导轨旋转。杯旋转机构7未必是中空马达，轴旋转型的马达也可以作为杯旋转机构来利用。
[0310]除了半导体基板以外，上述的基板处理装置还可以在液晶表示装置、等离子体显示器、FED(field emiss1n display:场致发射显示器；)等的显示装置使用的玻璃基板的处理中被利用。或者，上述的基板处理装置可以在光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩模用基板、陶瓷基板以及太阳电池用基板等的处理中被利用。
[0311]上述实施方式以及各变形例中的各结构只要不相互矛盾，可以适当组合。
[0312]对本发明进行详细地描述以及说明，但上述的说明仅是例示而不是进行限定。因此，只要不脱离本发明的范围，能够存在各种变形和方式。
[0313]附图标记的说明
[0314]1、Ia?Ie基板处理装置
[0315]4、4a?4d 杯部
[0316]5处理液供给部
[0317]6 壳体
[0318]7杯旋转机构
[0319]9 基板
[0320]10控制部
[0321]21、21a?21d 腔室
[0322]31基板保持部
[0323]33升降机构
[0324]34突出部
[0325]41杯外侧壁部
[0326]42杯底部
[0327]43杯内侧壁部
[0328]44 (第一)间隔壁
[0329]45 (外侧)杯空间
[0330]45a第一外侧杯空间
[0331]45b第二外侧杯空间
[0332]47第二间隔壁
[0333]61壳体底部
[0334]71定子部
[0335]72转子部
[0336]95a第一排气机构
[0337]95b第二排气机构
[0338]95c第三排气机构
[0339]95d第四排气机构
[0340]96a第一排液部[0341 ] 96b第二排液部
[0342] 96c第三排液部
[0343]96d第四排液部
[0344]252腔室外侧壁部
[0345]255腔室内侧壁部
[0346]256腔室底部
[0347]271 (内)腔室排液口
[0348]271a腔室排液口
[0349]277外腔室排液口
[0350]281 (大)腔室排气口
[0351]281a重复区域
[0352]281b非重复区域
[0353]282、285底部突出部
[0354]284小腔室排气口
[0355]285a (底部突出部的)上端面
[0356]451 (内)杯排液口
[0357]457外杯排液口
[0358]461 (大)杯排气口
[0359]461a重复区域
[0360]461b非重复区域
[0361]462,462a,465 底部突出部
[0362]462b,465a (底部突出部的)下端面
[0363]464小杯排气口
[0364]Jl中心轴
[0365]S11?S22 步骤
【主权项】
1.一种基板处理装置，对基板进行处理，其特征在于， 基板保持部，将基板保持为水平状态， 处理液供给部，向所述基板上供给处理液， 杯部，设置有杯排气口，接受来自所述基板的处理液， 腔室，在内部容纳有所述基板保持部以及所述杯部， 杯旋转机构，使所述杯部以朝向上下方向的中心轴为中心进行旋转， 控制部，通过所述杯旋转机构使所述杯部旋转，来决定所述杯排气口在以所述中心轴为中心的周向上的位置； 在所述腔室设置有在所述周向上排列的第一腔室排气口以及第二腔室排气口， 通过所述控制部控制所述杯旋转机构，来有选择地使所述杯排气口与所述第一腔室排气口或所述第二腔室排气口重叠， 在所述杯排气口与所述第一腔室排气口重叠的状态下，通过与所述第一腔室排气口连接的第一排气机构，将所述杯部内的气体经由所述杯排气口以及所述第一腔室排气口向所述腔室外排出， 在所述杯排气口与所述第二腔室排气口重叠的状态下，通过与所述第二腔室排气口连接的第二排气机构，将所述杯部内的气体经由所述杯排气口以及所述第二腔室排气口向所述腔室外排出。2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于， 所述杯排气口设置在所述杯部的底部， 所述第一腔室排气口以及所述第二腔室排气口设置在所述腔室的底部。3.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于， 在所述杯排气口位于在所述周向上从所述第一腔室排气口以及所述第二腔室排气口离开的位置的状态下，使所述杯排气口的下端接近所述腔室的所述底部，或使所述第一腔室排气口的上端以及所述第二腔室排气口的上端接近所述杯部的所述底部，从而停止经由所述杯排气口吸引所述杯部内的气体。4.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于， 在所述杯部的所述底部设置有杯排液口， 在所述腔室的所述底部设置有在所述周向上排列的第一腔室排液口以及第二腔室排液口， 在所述杯排气口与所述第一腔室排气口重叠的状态下，所述杯排液口与所述第一腔室排液口重叠，将所述杯部内的处理液向与所述第一腔室排液口连接的所述腔室外的第一排液部排出， 在所述杯排气口与所述第二腔室排气口重叠的状态下，所述杯排液口与所述第二腔室排液口重叠，将所述杯部内的处理液向与所述第二腔室排液口连接的所述腔室外的第二排液部排出， 所述第一腔室排液口的所述周向的长度长于所述杯排液口的所述周向的长度， 从所述杯排液口与所述第一腔室排液口重叠并且所述杯排气口与所述第一腔室排气口重叠的状态，通过维持所述杯排液口和所述第一腔室排液口的重复并使所述杯部旋转，来使所述杯排气口向从所述第一腔室排气口偏移的位置移动， 所述杯排气口设置在底部突出部内，该底部突出部设置在所述杯部的所述底部并向下方突出， 所述底部突出部的下端面与所述上下方向垂直， 在所述杯排气口位于从所述第一腔室排气口偏移的所述位置的状态下，所述第一腔室排气口的上端接近所述底部突出部的所述下端面，从而停止经由所述杯排气口吸引所述杯部内的气体。5.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于， 所述杯部呈以所述中心轴为中心的环状， 所述杯部具有: 圆环状的底部， 圆筒状的内侧壁部，从所述底部的内周部向上方扩展， 圆筒状的外侧壁部，从所述底部的外周部向上方扩展； 在所述内侧壁部或所述外侧壁部上设置有所述杯排气口， 在与所述杯部的所述内侧壁部或所述外侧壁部相向的所述腔室的侧壁部上，设置有所述第一腔室排气口以及所述第二腔室排气口。6.如权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于， 在所述杯排气口位于在所述周向上从所述第一腔室排气口以及所述第二腔室排气口离开的位置的状态下，所述杯排气口接近所述腔室的所述侧壁部，从而停止经由所述杯排气口吸引所述杯部内的气体。7.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于， 在所述杯部的所述底部设置有杯排液口， 在所述腔室的所述底部设置有在所述周向上排列的第一腔室排液口以及第二腔室排液口， 在所述杯排气口与所述第一腔室排气口重叠的状态下，所述杯排液口与所述第一腔室排液口重叠，将所述杯部内的处理液向与所述第一腔室排液口连接的所述腔室外的第一排液部排出， 在所述杯排气口与所述第二腔室排气口重叠的状态下，所述杯排液口与所述第二腔室排液口重叠，将所述杯部内的处理液向与所述第二腔室排液口连接的所述腔室外的第二排液部排出。8.如权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于， 在所述腔室的所述底部设置有另一个第一腔室排液口，该另一个第一腔室排液口与所述第一腔室排液口以及所述第二腔室排液口 一起在所述周向上排列，并与所述第一排液部连接， 在所述杯排液口与所述另一个第一腔室排液口重叠的状态下，将所述杯部内的处理液向所述第一排液部排出，所述杯排气口位于在所述周向上从所述第一腔室排气口以及所述第二腔室排气口离开的位置。9.如权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于， 所述第一腔室排液口的所述周向的长度长于所述杯排液口的所述周向的长度， 从所述杯排液口与所述第一腔室排液口重叠并且所述杯排气口与所述第一腔室排气口重叠的状态，通过维持所述杯排液口和所述第一腔室排液口的重复并且使所述杯部旋转，所述杯排气口向从所述第一腔室排气口偏移的位置移动。10.如权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于， 所述杯部呈以所述中心轴为中心的环状， 所述杯部具有: 圆环状的所述底部， 圆筒状的内侧壁部，从所述底部的内周部向上方扩展， 圆筒状的外侧壁部，从从所述底部的外周部向上方扩展， 圆筒状的间隔壁，在所述内侧壁部和所述外侧壁部之间从所述底部向上方扩展； 来自所述处理液供给部的处理液流入所述杯部的所述外侧壁部和所述间隔壁之间的空间， 所述杯排液口比所述间隔壁更靠以所述中心轴为中心的径向外侧， 所述杯排气口比所述间隔壁更靠所述径向内侧。11.如权利要求10所述的基板处理装置，其特征在于， 还具有升降机构，该升降机构使所述基板保持部相对于所述杯部在所述上下方向上移动， 所述杯部还具有筒状的另一个间隔壁，该另一个间隔壁在所述间隔壁和所述外侧壁部之间从所述底部向上方扩展， 所述杯排液口比所述另一个间隔壁更靠所述径向内侧， 在所述杯部的所述底部设置有比所述另一个间隔壁更靠所述径向外侧的其他杯排液P, 在所述腔室的所述底部设置有其他腔室排液口，该其他腔室排液口比所述第一腔室排液口以及所述第二腔室排液口更靠所述径向外侧，并与其他排液部连接， 通过所述升降机构，使所述基板与所述基板保持部一起在相对于所述杯部的第一位置和所述第一位置的上方的第二位置之间移动， 在所述基板位于所述第一位置的状态下，从所述处理液供给部供给到所述基板上的处理液流入所述杯部的所述另一个间隔壁和所述间隔壁之间的空间， 在所述基板位于所述第二位置的状态下，从所述处理液供给部供给到所述基板上的处理液流入所述杯部的所述外侧壁部和所述另一个间隔壁之间的空间，所述其他杯排液口与所述其他腔室排液口重叠，将处理液向所述腔室外的所述其他排液部排出。12.如权利要求10所述的基板处理装置，其特征在于， 所述基板保持部具有以所述中心轴为中心的圆板状的保持部主体， 所述保持部主体在所述杯部的上方与所述杯部在所述上下方向上相向， 所述保持部主体设置有环状的突出部，该突出部从所述保持部主体的下表面向下方突出，在所述间隔壁的径向外侧、或在径向上与所述间隔壁相同的位置包围所述中心轴的周围。13.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于， 所述基板保持部具有以所述中心轴为中心的圆板状的保持部主体， 所述保持部主体在所述杯部的上方与所述杯部在所述上下方向上相向， 所述保持部主体设置有环状的突出部，该突出部从所述保持部主体的下表面向下方突出，并且包围所述中心轴的周围。14.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于， 所述杯旋转机构具有: 环状的转子部，配置在所述腔室内，并安装在所述杯部上； 定子部，在所述腔室外配置在所述转子部的周围，在所述定子部与所述转子部之间产生旋转力。15.如权利要求14所述的基板处理装置，其特征在于， 所述转子部借助在所述转子部与所述定子部之间作用的磁力，在所述腔室内以漂浮状态旋转。16.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于， 所述腔室是形成配置所述基板保持部以及所述杯部的密闭空间的密闭空间形成部。17.一种基板处理装置，对基板进行处理，其特征在于， 具有: 基板保持部，将基板保持为水平状态， 处理液供给部，向所述基板上供给处理液， 杯部，在底部设置有杯排气口，接受来自所述基板的处理液， 腔室，在内部容纳所述基板保持部以及所述杯部，并且在底部设置有腔室排气口， 杯旋转机构，使所述杯部以朝向上下方向的中心轴为中心进行旋转， 控制部，通过所述杯旋转机构使所述杯部旋转，来决定所述杯排气口在以所述中心轴为中心的周向上的位置； 在所述杯排气口与所述腔室排气口重叠的状态下，通过与所述腔室排气口连接的排气机构，将所述杯部内的气体经由所述杯排气口以及所述腔室排气口向所述腔室外排出，所述杯旋转机构由所述控制部控制，通过变更所述杯排气口和所述腔室排气口的重复面积，来变更利用所述排气机构从所述腔室排气的排气流量。18.如权利要求17所述的基板处理装置，其特征在于， 所述腔室排气口具有: 大腔室排气口， 小腔室排气口，与所述大腔室排气口 一起在所述周向上排列，并且该小腔室排气口的面积小于所述大腔室排气口的面积； 通过有选择地使所述杯排气口与所述大腔室排气口或所述小腔室排气口重叠，来变更所述杯排气口和所述腔室排气口的重复面积。19.如权利要求18所述的基板处理装置，其特征在于， 所述杯排气口的下端中的除了与所述小腔室排气口的重复区域之外的非重复区域接近所述腔室的所述底部而被堵塞。20.如权利要求19所述的基板处理装置，其特征在于， 所述小腔室排气口设置在底部突出部内，该底部突出部设置在所述腔室的所述底部并向上方突出， 所述底部突出部的上端面与所述上下方向垂直， 所述杯排气口的所述非重复区域接近所述底部突出部的所述上端面而被堵塞。21.如权利要求18所述的基板处理装置，其特征在于， 从所述杯排气口与所述大腔室排气口以及所述小腔室排气口中的一个腔室排气口重叠的状态，通过维持所述杯排气口和所述一个腔室排气口的重复并且使所述杯部旋转微小角度，来变更所述杯排气口和所述一个腔室排气口的重复面积，对利用所述排气机构从所述腔室排气的排气流量进行微调整。22.如权利要求17所述的基板处理装置，其特征在于， 所述杯排气口具有: 大杯排气口， 小杯排气口，与所述大杯排气口 一起在所述周向上排列，所述小杯排气口的面积小于所述大杯排气口的面积； 通过有选择地使所述大杯排气口或所述小杯排气口与所述腔室排气口重叠，来变更所述杯排气口和所述腔室排气口的重复面积。23.如权利要求22所述的基板处理装置，其特征在于， 所述腔室排气口的上端中的除了与所述小杯排气口的重复区域之外的非重复区域接近所述杯部的所述底部而被堵塞。24.如权利要求23所述的基板处理装置，其特征在于， 所述小杯排气口设置在底部突出部内，该底部突出部设置在所述杯部的所述底部并向下方突出， 所述底部突出部的下端面与所述上下方向垂直， 所述腔室排气口的所述非重复区域接近所述底部突出部的所述下端面而被堵塞。25.如权利要求22所述的基板处理装置，其特征在于， 从所述大杯排气口以及所述小杯排气口中的一个杯排气口与所述腔室排气口重叠的状态，通过维持所述一个杯排气口和所述腔室排气口的重复并且使所述杯部旋转微小角度，从而变更所述一个杯排气口和所述腔室排气口的重复面积，对利用所述排气机构从所述腔室排气的排气流量进行微调整。26.如权利要求17所述的基板处理装置，其特征在于， 所述杯排气口和所述腔室排气口的重复面积的变更通过维持所述杯排气口和所述腔室排气口的重复并且使所述杯部旋转来实现。27.如权利要求26所述的基板处理装置，其特征在于， 所述腔室排气口的上端中的除了与所述杯排气口的重复区域之外的非重复区域接近所述杯部的所述底部而被堵塞， 所述杯排气口的下端中的除了与所述腔室排气口的重复区域之外的非重复区域接近所述腔室的所述底部而被堵塞。28.如权利要求27所述的基板处理装置，其特征在于， 所述杯排气口设置在底部突出部内，该底部突出部设置在所述杯部的所述底部并向下方突出， 所述底部突出部的下端面与所述上下方向垂直， 所述腔室排气口的所述非重复区域接近所述底部突出部的所述下端面而被堵塞。29.如权利要求27所述的基板处理装置，其特征在于， 所述腔室排气口设置在其他底部突出部内，该其他底部突出部设置在所述腔室的所述底部并向上方突出， 所述其他底部突出部的上端面与所述上下方向垂直， 所述杯排气口的所述非重复区域接近所述他的底部突出部的所述上端面而被堵塞。30.如权利要求17所述的基板处理装置，其特征在于， 在所述杯排气口位于在周向上从所述腔室排气口离开的位置的状态下，使所述杯排气口的下端接近所述腔室的所述底部，或者使所述腔室排气口的上端接近所述杯部的所述底部，从而停止经由所述杯排气口吸引所述杯部内的气体。31.如权利要求17所述的基板处理装置，其特征在于， 所述杯旋转机构具有: 环状的转子部，配置在所述腔室内，并安装在所述杯部上， 定子部，在所述腔室外配置在所述转子部的周围，在所述定子部与所述转子部之间产生旋转力。32.如权利要求31所述的基板处理装置，其特征在于， 所述转子部借助在所述转子部与所述定子部之间作用的磁力，在所述腔室内以漂浮状态旋转。33.如权利要求17所述的基板处理装置，其特征在于， 所述腔室是形成配置所述基板保持部以及所述杯部的密闭空间的密闭空间形成部。
【文档编号】H01L21/027GK105900218SQ201480073028
【公开日】2016年8月24日
【申请日】2014年12月22日
【发明人】中井仁司
【申请人】株式会社思可林集团