的位置设有第三凹槽262。肋条结构40收容于转印层26上的第三凹槽262中。
[0029]具体地，基底22由透明聚合物形成，例如聚对苯二甲酸乙二醇酯，聚酰亚胺，聚丙烯酸酯，聚苯乙烯及聚丙烯。基底22被图案化，形成第一凹槽222及被第一凹槽222限定的第一区域224、第二区域226及第三区域228。其中，第一区域224对应于显示基底的红色发光材料形成区域，第二区域226对应于显示基底的绿色发光材料形成区域，第三区域228对应于显示基底的蓝色发光材料形成区域。
[0030]进一步地，第一凹槽222包括沿第一方向延伸的第一方向凹槽2222及沿垂直于所述第一方向的第二方向延伸的第二方向凹槽2224，且第一方向凹槽2222与第二方向凹槽2224交叉设置。相邻的第一方向凹槽2222之间及相邻的第二方向凹槽2224之间的间隔对应显示基底上的亚像素区域或数个所述亚像素区域。例如，第一方向凹槽2222可以以与显示基底的亚像素区域的水平宽度基本相同的距离间隔设置，也可以以与显示基底的两个亚像素区域的水平宽度基本相同的距离间隔设置。
[0031]光热转换层24形成于图案化的基底22上，具有与第一凹槽222对应且深度相同的第二凹槽242。光热转换层24由在红外或可见光范围内具有光吸收能力的光吸收材料形成。具体地，光热转换层24可由铝、氧化铝等无机材料或由聚合物和炭黑、石墨或燃料构成的有机材料组成。
[0032]转印层26形成于图案化的光热转换层24上，转印层26上的有机层材料在显示基底上形成有机层。该转印层26具有与第二凹槽242对应的第三凹槽262，且具有相同的深度。
[0033]进行激光转印的过程中，来自激光辐射设备的激光束的能量被光热转换层24转换成热能。位于转印层26的有机层利用该热能，被转印至有机发光显示设备的显示基底上，从而形成有机层图案。完成转印后，即可将肋条结构40通电使其升温，或通入气体，从而从显不基底上剥尚供体I旲20的基底22，而将有机材料留在显不基底上。
[0034]肋条结构40包括与第一方向凹槽2222对应设置的第一方向肋条42及与第二方向凹槽2224对应设置的第二方向肋条44。由于第一方向肋条42及第二方向肋条44与第一方向凹槽2222及第二方向凹槽2224分别对应，因此第一方向肋条42及第二方向肋条44之间的间隔同样对应显示基底上的亚像素区域或数个亚像素区域，相互交叉呈网状结构。
[0035]进一步地，第一方向肋条42与所述第二方向肋条44远离转印层26的端面与转印层26远离光热转化层一侧的端面平行，S卩，肋条在第三凹槽262深度方向的尺寸与凹槽的深度基本相同，可略大于、相等或略小于凹槽深度，从而不影响转印层26与显示基底的接触。
[0036]上述供体膜结构100，可利用将肋条结构40进行通电使其升温或通过肋条结构40在供体膜结构100与显示基底之间释放气体的方法，方便地在显示基底上取出供体膜20的基底22，并且不引起形成在显不基底上的有机层图案损坏，从而减少设有显不基底的有机发光显示装置的像素故障。
[0037]进一步地，转印过程中，为使供体膜20与显示基底充分接触，需在供体膜20和显示基底上分别施加压力，再利用激光辐射进行转印。将肋条结构40嵌设于转印层26中，可以使供体膜20在肋条结构40中间暴露的区域不因施加压力而产生变形或产生较小的变形，使得供体膜20上的转印层26更好地与显示基底接触，减少因转印层26损坏而导致的像素故障。
[0038]以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
[0039]以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。
【主权项】
1.一种供体膜结构，用于将有机层材料转印至显示基底，其特征在于，所述供体膜结构包括供体膜及肋条结构，所述供体膜包括依次层叠设置的基底、光热转换层及转印层，所述肋条结构嵌设于所述转印层中。2.根据权利要求1所述的供体膜结构，其特征在于，所述肋条结构包括多条肋条，多条所述肋条相互交叉呈网状结构。3.根据权利要求2所述的供体膜结构，其特征在于，所述肋条呈中空结构，所述肋条的端部开设有用于通入气体的通气口，所述肋条的侧壁开设有用于释放所述气体的通气孔，所述通气孔位于所述肋条远离所述供体膜的一侧。4.根据权利要求1所述的供体膜结构，其特征在于，所述基底一侧设有第一凹槽。5.根据权利要求4所述的供体膜结构，其特征在于，所述光热转换层形成于所述基底设有第一凹槽的一侧并填充所述第一凹槽，在所述光热转换层远离所述基底的一侧与所述第一凹槽对应的位置设有第二凹槽。6.根据权利要求5所述的供体膜结构，其特征在于，所述转印层设有所述有机层材料，形成于所述光热转换层设有所述第二凹槽的一侧并填充所述第二凹槽，所述转印层在远离所述光热转换层的一侧与所述第二凹槽对应的位置设有第三凹槽;所述肋条结构收容于所述第三凹槽中。7.根据权利要求4所述的供体膜结构，其特征在于，所述第一凹槽包括沿第一方向延伸的第一方向凹槽及沿垂直于所述第一方向的第二方向延伸的第二方向凹槽，且所述第一方向凹槽与所述第二方向凹槽交叉设置。8.根据权利要求7所述的供体膜结构，其特征在于，相邻的所述第一方向凹槽之间及相邻的所述第二方向凹槽之间的间隔对应所述显示基底上的亚像素区域或数个所述亚像素区域。9.根据权利要求7所述的供体膜结构，其特征在于，所述肋条结构包括与所述第一方向凹槽对应设置的第一方向肋条及与所述第二方向凹槽对应设置的第二方向肋条。10.根据权利要求7所述的供体膜结构，其特征在于，所述基底包括被所述第一凹槽限定的第一区域、第二区域及第三区域，所述第一区域对应于红色发光材料形成区域，所述第二区域对应于绿色发光材料形成区域，所述第三区域对应于蓝色发光材料形成区域。
【专利摘要】本实用新型涉及一种供体膜结构，用于将有机层材料转印至显示基底，所述供体膜结构包括供体膜及肋条结构，所述供体膜包括依次层叠设置的基底、光热转换层及转印层，所述肋条结构嵌设于所述转印层中。上述供体膜结构，可通过肋条结构在供体膜与显示基底之间释放气体或通电而升温，而降低供体膜与显示基底之间的粘接强度，使已将有机层材料转印至显示基底的供体膜结构易于从显示基底上剥离，从而避免转印后直接剥离供体膜结构对转印至显示基底上的有机层材料的破坏。
【IPC分类】H01L51/56, H01L51/50
【公开号】CN205231120
【申请号】CN201521088211
【发明人】蔡伟民
【申请人】昆山国显光电有限公司
【公开日】2016年5月11日
【申请日】2015年12月23日