正型抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案形成方法和光掩模坯与流程

文档序号:13685246
技术总结
本发明为正型抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案形成方法和光掩模坯。包括适于在酸的作用下分解以增加其在碱性显影剂中的溶解度的聚合物和特定结构的锍化合物的正型抗蚀剂组合物具有高分辨率。当通过光刻法加工抗蚀剂组合物时,可以形成具有最小LER的图案。

技术研发人员:增永惠一;渡边聪;小竹正晃;大桥正树
受保护的技术使用者:信越化学工业株式会社
文档号码:201710660209
技术研发日:2017.08.04
技术公布日:2018.02.13

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