此，本发明实施例优选为第三种显示基板。
[0036]当然，本领域技术人员在基于以上三种显示基板的基础上，在不付出创造性劳动的前提下，还可以获得其他可能的实现方式，本发明实施例不再一一赘述。
[0037]本发明实施例提供的显示基板中，由于隔垫物位于主区域上，且该主区域能够遮挡摩擦阴影，从而使得摩擦阴影不能延伸至显示装置的显示区中，从而解决了显示装置中显示区漏光的问题，提高了显示装置的显示效果。
[0038]为了便于本领域技术人员进一步理解本发明实施例中的显示基板，下面本发明实施例以主区域的形状为矩形为例，对显示基板进行详细描述。
[0039]如图2所示，主区域21在取向摩擦方向00’上的宽度大于辅区域22在取向摩擦方向00’上的宽度，使得主区域21能够遮挡取向摩擦阴影。
[0040]进一步地，在取向摩擦方向00’上，主区域21和辅区域22交替间隔设置，可以使得显示基板的开口率较大，另外，还可以使隔垫物3均匀分布。
[0041]更进一步地，任意一个主区域21和与之相邻的一个辅区域22在取向摩擦方向00’上的宽度之和保持一致。示例性地，主区域21在取向摩擦方向00’上的宽度为dl，辅区域22在取向摩擦方向00’上的宽度为d2，亚像素I在取向摩擦方向00’上的宽度为d3，则d3+(dl+d2)/2为一个亚像素区在取向摩擦方向00’上的宽度(该亚像素区为由阵列基板的交叉排布的栅线BB’和数据线AA’所围成的一个区域)，由于任意一个亚像素区在取向摩擦方向00’上的宽度保持一致，且任意一个dl+d2保持一致，使得任意一个亚像素I在取向摩擦方向00’上的宽度d3保持一致。此外，与现有技术中位于取向摩擦方向上相邻两个亚像素之间的黑矩阵的宽度相比，本发明实施例中，主区域21在取向摩擦方向00’上增大的量与辅区域21在取向摩擦方向00’上减小的量可以相等，此时，本发明实施例中亚像素I在取向摩擦方向00’上的宽度与现有技术中亚像素在取向摩擦方向上的宽度相等；当然，主区域21在取向摩擦方向00’上增大的量与辅区域21在取向摩擦方向00’上减小的量也可以不相等，此时，本发明实施例中亚像素I在取向摩擦方向00’上的宽度与现有技术中亚像素在取向摩擦方向上的宽度不相等。
[0042]在取向摩擦方向00’上，当主区域21和辅区域22交替间隔设置时，主区域21和辅区域22的排布方式还包括以下两种具体方式:
[0043]第一种，如图4所示，沿与取向摩擦方向00’垂直的方向排列的相邻两排亚像素I之间仅设置有主区域21或者辅区域22，该种排布方式下，显示基板的结构较简单。
[0044]第二种，如图2所示，在与取向摩擦方向00’垂直的方向上，在相邻两排亚像素I之间主区域21和辅区域22交替间隔设置。该种排布方式下，无论在摩擦方向00’上还是在与摩擦方向00’垂直的方向上，主区域21和辅区域22都是交替间隔设置的，从而可以避免显示装置出现条纹状显示不良的现象。
[0045]显示装置包括对盒的彩膜基板和阵列基板，本发明实施例中，当显示基板为彩膜基板时，如图2所示，彩膜基板上的黑矩阵2用于遮挡阵列基板上的栅线BB’和数据线AA’。当取向摩擦方向00’与数据线AA’的延伸方向平行时，主区域21和辅区域22用于遮挡栅线BB’。进一步地，为了遮挡栅线BB’，辅区域22在取向摩擦方向00’上的宽度大于等于10 μ m0
[0046]示例性地，主区域21在取向摩擦方向00’上的宽度为30 μ m，辅区域22在取向摩擦方向00’上的宽度为10 μπι。此时，主区域21可以遮挡住摩擦阴影，且辅区域22也可以遮挡住栅线ΒΒ’。
[0047]进一步地，如图2所示，隔垫物3可以位于主区域21的与摩擦方向00’垂直的中心线上，使得显示基板的结构简单。当摩擦方向00’与阵列基板的数据线ΑΑ’的延伸方向平行时，栅线ΒΒ’的延伸方向与摩擦方向00’垂直，此时，主区域21的与摩擦方向00’垂直的中心线在阵列基板上的投影与栅线ΒΒ’重合。
[0048]在对显示基板进行取向摩擦时，取向摩擦方向00’上，隔垫物3两侧的摩擦阴影的宽度不同，迎向取向摩擦方向00’ 一侧的摩擦阴影的宽度较小，而背向取向摩擦方向00’ 一侧的摩擦阴影的宽度较大，因此，隔垫物3可以向迎向摩擦方向00’的一侧偏离，即，如图5所示，隔垫物3位于主区域21的与取向摩擦方向00’垂直的中心线相偏离的位置处，并向与取向摩擦方向00’相反的方向偏离。
[0049]当然，本领域技术人员在基于以上两种主区域和辅区域的排布方式的基础上，在不付出创造性劳动的前提下，还可以获得其他可能的实现方式，本发明实施例不再一一赘述。
[0050]本发明实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括如上述的显示基板。该显示装置可以为:液晶面板、电子纸、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
[0051]由于上述的显示基板解决了显示装置中显示区漏光的问题，因此，本发明实施例中的显示装置也可以解决显示区漏光的问题。
[0052]以上所述，仅为本发明的【具体实施方式】，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
【主权项】
1.一种显示基板，包括亚像素、设在各所述亚像素周围的黑矩阵和设在所述黑矩阵上的隔垫物，其特征在于，所述黑矩阵的全部或部分区域包括主区域和辅区域，位于取向摩擦方向上的相邻两个所述亚像素之间设有所述主区域或者所述辅区域，所述隔垫物位于所述主区域上，所述主区域能够遮挡取向摩擦阴影。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述主区域在取向摩擦方向上的宽度大于所述辅区域在取向摩擦方向上的宽度。
3.根据权利要求1或2所述的显示基板，其特征在于，在取向摩擦方向上，所述主区域和所述辅区域交替间隔设置。
4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，任意一个所述主区域和与之相邻的一个所述辅区域在取向摩擦方向上的宽度之和保持一致。
5.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，沿与取向摩擦方向垂直的方向排列的相邻两排所述亚像素之间仅设置有所述主区域或者所述辅区域。
6.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，在与取向摩擦方向垂直的方向上，在相邻两排所述亚像素之间所述主区域和所述辅区域交替间隔设置。
7.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述辅区域在取向摩擦方向上的宽度大于等于10 ym。
8.根据权利要求7所述的显示基板，其特征在于，所述主区域在取向摩擦方向上的宽度为30 μ m，所述辅区域在取向摩擦方向上的宽度为10 μ m。
9.根据权利要求1或2所述的显示基板，其特征在于，所述隔垫物位于所述主区域的与取向摩擦方向垂直的中心线上。
10.根据权利要求1或2所述的显示基板，其特征在于，所述隔垫物位于所述主区域的与取向摩擦方向垂直的中心线相偏离的位置处，并向与取向摩擦方向相反的方向偏离。
11.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-10任一项所述的显示基板。
【专利摘要】本发明公开了一种显示基板及显示装置，涉及显示技术领域，解决了现有的显示装置中显示区处漏光的问题。本发明实施例提供的显示基板包括亚像素、设在各所述亚像素周围的黑矩阵和设在所述黑矩阵上的隔垫物，所述黑矩阵的全部或部分区域包括主区域和辅区域，位于取向摩擦方向上的相邻两个所述亚像素之间设有所述主区域或者所述辅区域，所述隔垫物位于所述主区域上，所述主区域能够遮挡取向摩擦阴影。本发明实施例还提供了一种包括上述显示基板的显示装置。
【IPC分类】G02F1-1339, G02F1-1337
【公开号】CN104656318
【申请号】CN201510106985
【发明人】庞鲁, 黄东升, 张志男, 张文朋, 信霄
【申请人】京东方科技集团股份有限公司, 北京京东方光电科技有限公司
【公开日】2015年5月27日
【申请日】2015年3月11日