一种掩膜板、掩膜曝光设备及掩膜曝光方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种掩膜板、掩膜曝光设备及掩膜曝光方法。
【背景技术】
[0002]显示基板在制作的过程中通常需要进行多次掩膜曝光工艺，每一次进行掩膜曝光通常需要采用一张具有特定图案的掩膜板，现有的掩膜板一般为开放式掩膜(Open Mask)，包括条状或槽状的掩膜开口，在掩膜曝光的过程中，光线透过掩膜开口照射光刻胶实现光刻胶的图案化。
[0003]现有的掩膜板不能实现闭环(Closed loop)的掩膜开口，如图1所示，在需要得到闭环图案时则需要借助多次掩膜曝光，大大提高了生产成本，降低了生产效率。为了实现这种闭环开口的掩膜，现有技术通常通过在掩膜板上增加桥梁(Rib)(如图2中虚线框所示)的设计，但是这种掩膜板的不足之处在于，桥梁部分所对应的镀膜效率以及成膜的均匀性均不理想，从而严重影响基板上成膜的整体质量。
【发明内容】
[0004]为了实现闭环开口的掩膜，提高基板上成膜的质量，本发明实施例提供了一种掩膜板、掩膜曝光设备及掩膜曝光方法。所述技术方案如下:
[0005]本发明实施例的一方面，提供了一种掩膜板，包括托盘；
[0006]所述托盘上具有至少一个掩膜定位槽，每一个所述掩膜定位槽内设置有掩膜。
[0007]本发明实施例的另一方面，提供了一种掩膜曝光设备，包括载台，所述载台的一侧用于承载待加工基板；
[0008]所述待加工基板的另一侧设置有如上所述的掩膜板，所述掩膜板的掩膜一侧面向所述待加工基板。
[0009]本发明实施例的又一方面，提供了一种掩膜曝光方法，适用于如上所述的掩膜曝光设备，所述方法包括:
[0010]在承载有待加工基板的载台一侧设置掩膜板，所述掩膜板的掩膜面向所述待加工基板；
[0011]将位于所述掩膜定位槽内的掩膜吸附在所述待加工基板的表面；
[0012]对吸附有所述掩膜的待加工基板进行掩膜曝光
[0013]本发明实施例提供的掩膜板、掩膜曝光设备及掩膜曝光方法，掩膜板采用具有至少一个掩膜定位槽的托盘结构，每一个掩膜定位槽内设置有掩膜。采用这样一种结构的掩膜板，掩膜通过定位槽托举的方式，对于闭环开口的掩膜，孤立掩膜部分与边框掩膜之间无需通过桥梁部分连接，从而避免了由于桥梁部分的镀膜的效率，均匀性均不理想而对基板上成膜质量的影响，有效实现了闭环开口的掩膜。
【附图说明】
[0014]为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0015]图1是闭环开口掩膜的结构示意图；
[0016]图2是现有技术中一种掩膜板的结构示意图；
[0017]图3是本发明实施例提供的一种掩膜板的结构剖视图；
[0018]图4是本发明实施例提供的一种掩膜板的结构示意图；
[0019]图5是本发明实施例提供的一种掩膜曝光设备的结构示意图；
[0020]图6是本发明实施例提供的一种掩膜曝光方法的流程示意图；
[0021]图7是本发明实施例提供的掩膜曝光设备的使用情况示意图；
[0022]图8是本发明实施例提供的另一掩膜曝光设备的使用情况示意图。
【具体实施方式】
[0023]为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明实施方式作进一步地详细描述。
[0024]本发明实施例提供的掩膜板1，如图3所示，包括托盘2。
[0025]其中，托盘2上具有至少一个掩膜定位槽3，每一个掩膜定位槽3内设置有掩膜4。
[0026]本发明实施例提供的掩膜板，该掩膜板采用具有至少一个掩膜定位槽的托盘结构，每一个掩膜定位槽内设置有掩膜。采用这样一种结构的掩膜板，掩膜通过定位槽托举的方式，对于闭环开口的掩膜，孤立掩膜部分与边框掩膜之间无需通过桥梁部分连接，从而避免了由于桥梁部分的镀膜的效率，均匀性均不理想而对基板上成膜质量的影响，有效实现了闭环开口的掩膜。
[0027]进一步的，如图4所示，掩膜定位槽3包括至少一个呈阵列形式排布的矩形槽31。该矩形槽31用于承载矩形的掩膜，在实际生产的过程中，一张显示基板母板上通常具有呈阵列形式排布的多个待加工基板，矩形槽的位置可以与待加工基板的位置相对应，从而能够通过一次构图工艺实现对多个基板的图案化处理，提高了生产效率。
[0028]进一步的，如图4所示，掩膜定位槽3还可以包括位于矩形槽31四周的至少一个条状槽32。条状槽32中可以设置有环绕在矩形掩膜四周的条状掩膜边框，矩形掩膜与条状掩膜之间无需设置桥梁结构，实现了闭环开口的掩膜。
[0029]需要说明的是，在本发明实施例中，掩膜形状可以与掩膜定位槽的形状对应，且掩膜的尺寸应当小于掩膜定位槽的尺寸。
[0030]进一步的，在本发明实施例中，托盘2可以采用透明材料制成。这样一来，在进行掩膜曝光的过程中，只需将承载有掩膜的托盘2贴合于待加工基板的表面，掩膜之间的托盘2区域即可作为透光的开口区域，使用简单方便，易于设计和制作。
[0031]本发明实施例提供的掩膜曝光设备，如图5所示，包括载台5，载台5的一侧用于承载待加工基板6。
[0032]待加工基板6的另一侧设置有如上所述的掩膜板，该掩膜板I的掩膜3 —侧面向待加工基板6。
[0033]本发明实施例提供的掩膜曝光设备，包括掩膜板，该掩膜板采用具有至少一个掩膜定位槽的托盘结构，每一个掩膜定位槽内设置有掩膜。采用这样一种结构的掩膜板，掩膜通过定位槽托举的方式，对于闭环开口的掩膜，孤立掩膜部分与边框掩膜之间无需通过桥梁部分连接，从而避免了由于桥梁部分的镀膜的效率